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2022
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05-06紫外光刻儀是一種用于材料科學(xué)領(lǐng)域的工藝試驗儀器
紫外光刻儀是一種用于材料科學(xué)領(lǐng)域的工藝試驗儀器,用于將涂有光刻膠的晶片與掩膜的對準(zhǔn),然后曝光,將掩膜的圖形轉(zhuǎn)移到晶片的光刻膠上,用于納米器件的微加工。紫外光刻主要功能:采用紫外光源,實現(xiàn)光刻膠的曝光,將光刻版上的圖形轉(zhuǎn)移到光刻膠上,在光刻膠上制作出亞微米(>0.8um)圖形結(jié)構(gòu)。紫外光刻系統(tǒng)是目前實驗室光刻技術(shù)中最為常用和重要的光刻設(shè)備。紫外(UV)光刻和直接書寫的方法,其中曝光模式和劑量都是由互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS)控制的微像素化發(fā)光二極管陣列決定的。來自演示器8x8氮化鎵微像素LED2022
04-272022
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