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            光譜橢偏儀

            2024-11-18

            產(chǎn)      地:
            暫無
            所在地區(qū):
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            光譜橢偏儀

            寬光譜范圍和高光譜精度

            SENresearch 4.0 光譜橢偏儀覆蓋寬的光譜范圍,從190 nm(深紫外)到3500 nm(近紅外)。傅立葉紅外光譜儀FTIR提供了高光譜分辨率用以分析厚度高達(dá)200μm的厚膜。

            沒有光學(xué)器件運動(步進(jìn)掃描分析器原理)

            為了獲得測量結(jié)果,在數(shù)據(jù)采集過程中沒有光學(xué)器件運動。步進(jìn)掃描分析器(SSA)原理是SENresearch 4.0光譜橢偏儀的一個特性。

            雙補償器2C全穆勒矩陣測量

            通過創(chuàng)新的雙補償器2C設(shè)計擴展了步進(jìn)掃描分析器SSA原理,允許測量全穆勒矩陣。該設(shè)計是可現(xiàn)場升級和實現(xiàn)成本效益的附件。

            SpectraRay/4綜合橢偏儀軟件

            SpectraRay/4 是用于材料分析的全功能軟件包。SpectraRay/4 包括用于與引導(dǎo)圖形用戶界面進(jìn)行研究的交互模式和用于常規(guī)應(yīng)用的配方模式。


            SENresearch 4.0 是SENTECH新的光譜橢偏儀。每一臺SENresearch 4.0光譜橢偏儀都是根據(jù)客戶具體配置的光譜范圍、選項和現(xiàn)場可升級附件而制造的。

            SENresearch 4.0 使用快速的傅立葉紅外光譜儀FTIR測量至2500 nm或3500 nm的近紅外光譜。它提供了寬的光譜范圍,具有的信噪比,可選擇的光譜分辨率??蓽y量硅薄膜厚度高達(dá)200μm。傅立葉紅外光譜儀FTIR的測量速度與二極管陣列配置相比,也可選擇高達(dá)1700納米。

            新的金字塔形狀的自動角度計具有從20度到100度的角度范圍。光學(xué)編碼器確保精度和角度設(shè)置的長期穩(wěn)定性。光譜橢偏儀手臂可以獨立移動,用于散射測量和角度分辨透射測量。

            SENresearch 4.0 根據(jù)步進(jìn)掃描分析器(SSA)原理進(jìn)行操作。SSA將強度測量與機械運動分離,從而允許分析更加粗糙的樣品。所有光學(xué)部件在數(shù)據(jù)采集期間都處于靜止?fàn)顟B(tài)。此外,SENresearch 4.0 包括用于自動掃描和同步應(yīng)用的快速測量模式。

            定制的SENresearch 4.0橢偏儀可以配置用于標(biāo)準(zhǔn)應(yīng)用。例如介電層堆疊、紋理表面、光學(xué)和結(jié)構(gòu)(3D)各向異性樣品。為各種各樣的應(yīng)用提供了預(yù)定義的配方。


            Spectral ranges for configuring the SENresearch 4.0New computer controlled Pyramid Goniometer optionSpectroscopic ellipsometer with field upgradable microspot accessorySpectroscopic ellipsometer with field upgradable heating stageSpectroscopic ellipsometer with ~1 ml liquid cellReflection measurement at 20° using motorized Pyramid GoniometerField upgradable sample stage with automated hight and tilt adjustmentSpectroscopic ellipsometer with setup for transmission measurementSpectroscopic ellipsometer with field upgradable x-y mapping stageSpectroscopic ellipsometer with setup for transmission measurement11Spectroscopic ellipsometer with cryostatMicrospot measurement on Si-sphereSpectroscopic ellipsometer for process monitoring



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