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            橢偏反射儀

            2024-11-19

            產      地:
            暫無
            所在地區(qū):
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            橢偏反射儀

            厚度確定

            橢偏測量和反射測量的結合允許通過自動識別循環(huán)厚度周期來快速且明確地確定透明膜的厚度。

            寬的測量范圍

            激光橢偏儀和反射儀的結合將透明薄膜的厚度范圍擴展到25μm,更多地取決于光度計的選項。

            擴展激光橢偏儀的極限

            性能優(yōu)異的多角度手動角度計和角度精度*的激光橢偏儀允許測量單層薄膜和層疊膜的折射率、消光系數和膜厚。


            SE 500adv結合了橢偏儀和反射儀,了測量透明膜層厚度的模糊性。它把可測量的厚度擴展到25m,因此SE 500adv擴展了標準激光橢偏儀SE 400adv的能力,特別適用于分析較厚的介質膜、有機材料、光阻、硅和多晶硅薄膜。

            SE 500adv可作為激光橢偏儀、膜厚探針和CER橢偏儀使用。因此,它提供了標準激光橢偏儀從未達到的靈活性。作為橢偏儀,可以進行單角度和多角度測量。當用作膜厚探針時,在正常入射下測量透明或弱吸收膜的厚度。

            SE 500adv中的橢偏測量和反射測量的組合包括橢圓測量光學部件、角度計、組合反射測量頭和自動準直透鏡、樣品臺、氦氖激光光源、激光檢測單元和光度計。

            SE 500adv的選項支持在微電子、微系統(tǒng)技術、顯示技術、光伏、化學等領域的應用。


            X-y-mapping stageThickness map of spin coated photoresist / Si (substrate) with step size of 500 µm and 100 µm11SE 500-300 with manual stage and autofocusCombined laser ellipsometer with reflectometer




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