HK-7500型直讀光譜分析儀的優(yōu)勢(shì)

第二代全譜光譜儀技術(shù)（數(shù)字化技術(shù)替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術(shù)）、通道不再受限制

引進(jìn)歐洲技術(shù)、國(guó)內(nèi)*能生產(chǎn)CCD全譜真空型光譜儀的制造商。

基體范圍內(nèi)通道改變、增加不需費(fèi)用。

可升級(jí)為其他基體，無須變動(dòng)增加硬件。

優(yōu)良的數(shù)據(jù)穩(wěn)定性，同一樣品不同的時(shí)間段分析，可獲得良好的數(shù)據(jù)*性。

體積小、重量輕， 移動(dòng)安裝方便。

高集成度、高可靠性、高穩(wěn)定性。

節(jié)電、節(jié)材、能耗只是普通光譜儀50%。

HK-7500直讀光譜分析儀技術(shù)特點(diǎn)

1、直讀光譜儀憑借其高性能及可靠設(shè)計(jì)，以及創(chuàng)新光學(xué)系統(tǒng)和擴(kuò)展的波長(zhǎng)范圍，可確保對(duì)重要元素的精確鑒定和痕量分析，擁有極低的檢出限及優(yōu)異的長(zhǎng)期穩(wěn)定性；分析結(jié)果準(zhǔn)確，重現(xiàn)性好。我公司運(yùn)用的CCD檢測(cè)器與數(shù)字讀出技術(shù)相結(jié)合，使整體設(shè)計(jì)優(yōu)于傳統(tǒng)的光電倍增管技術(shù)，已逐漸成為金屬制造業(yè)，加工業(yè)及鑄造業(yè)的*。

2、檢測(cè)波長(zhǎng)范圍達(dá)到160-800nm，無論從檢測(cè)下限到檢測(cè)上限都在CCD光譜領(lǐng)域處于*地位。通過更低的波長(zhǎng)分析范圍，HK-7500能夠?qū)的檢出限進(jìn)一步降低至10ppm

3、采用了全新的光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)，其中結(jié)合了帶優(yōu)化像素分辨率（12pm）的CCD固態(tài)檢測(cè)器技術(shù)，的光柵分光技術(shù)，代表了數(shù)碼時(shí)代的直讀光譜技術(shù)。

真空分光系統(tǒng)由于采用多塊線陣CCD作為檢測(cè)器，具有高達(dá)26000條像素，實(shí)現(xiàn)分析波段內(nèi)的全譜接收。各個(gè)元素分別采用1-7條譜線分析，綜合輸出，動(dòng)態(tài)范圍大，結(jié)果準(zhǔn)確。放置的CCD探測(cè)器滿足分析波段內(nèi)的所有譜線接收無一遺漏，實(shí)現(xiàn)同一元素多條譜線同時(shí)測(cè)定，自動(dòng)選擇輸出。

4、針對(duì)等離子態(tài)光譜信號(hào)的觀測(cè)特點(diǎn)，為了獲取*的觀測(cè)角度以獲得*的分析數(shù)據(jù)，創(chuàng)想將光室進(jìn)行了特定角度的傾斜放置，這一設(shè)計(jì)在CCD光譜中是*的。

5、通過在直接光路入射窗口上應(yīng)用MgF2材料，使能夠自如的進(jìn)行超低紫外波段（VUV）光譜信號(hào)的分析。

6、采用了全新的真空光室系統(tǒng)設(shè)計(jì)，與傳統(tǒng)的氬氣吹掃系統(tǒng)相比，其優(yōu)勢(shì)是巨大的。首先在非工作狀態(tài)下不需要實(shí)時(shí)的對(duì)光室進(jìn)行氬氣吹掃，大大降低了氬氣的使用量，節(jié)約了客戶的使用成本。其次創(chuàng)想的真空光學(xué)系統(tǒng)保證了在冷啟動(dòng)（關(guān)機(jī)重啟）狀態(tài)下30分鐘即可達(dá)到穩(wěn)定工作狀態(tài)，而傳統(tǒng)的氬氣吹掃系統(tǒng)需要1-2小時(shí)才能達(dá)到穩(wěn)定的工作狀態(tài)。

7、由于需要探測(cè)超低紫外波段光譜信號(hào)，因此一個(gè)設(shè)計(jì)優(yōu)異并且性能穩(wěn)定的真空系統(tǒng)是十分重要的。加載的真空系統(tǒng)通過一代的真空泵進(jìn)行工作，同時(shí)配有安全電磁閥，zui大限度地保證真空系統(tǒng)的安全性。

8、真空系統(tǒng)可根據(jù)客戶加載真空度。通過工作軟件數(shù)字顯示出來，實(shí)時(shí)了解真空光室的工作狀態(tài)。

9、在每次激發(fā)時(shí)，光學(xué)系統(tǒng)自動(dòng)進(jìn)行譜線掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作。

10、全譜技術(shù)自動(dòng)描跡調(diào)整光路，激發(fā)樣品時(shí)，自動(dòng)識(shí)別每塊CCD上的特定譜線，與原存儲(chǔ)線進(jìn)行對(duì)比，確定漂移位置，找出分析線當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測(cè)定。消除因溫度/氣壓/震動(dòng)等變化而產(chǎn)生的光譜漂移；而傳統(tǒng)使用光電倍增管技術(shù)的光譜必須進(jìn)行手動(dòng)進(jìn)精細(xì)調(diào)節(jié)，技術(shù)要求很高。全譜技術(shù)自動(dòng)快速尋址，避免了費(fèi)事費(fèi)力的手動(dòng)操作，也避免了人為誤差。

11、采用全譜直讀（TSA）技術(shù)，可以非常方便增加譜線，增加基體，在不添加硬件設(shè)施的情況下，即可實(shí)現(xiàn)多基體分析。

12、客戶可以在使用過程中根據(jù)實(shí)際需要在上增加分析的基體及元素種類，這些工作可以在用戶現(xiàn)場(chǎng)方便完成。相比同類采用PMT技術(shù)的光譜儀，則需要大范圍改動(dòng)硬件。同時(shí)由于初始的配置限制，可能無法添加客戶要求的基體或元素。

13、光譜儀的火花臺(tái)進(jìn)行了全新的設(shè)計(jì)，除保留了傳統(tǒng)火花臺(tái)的優(yōu)勢(shì)外，針對(duì)新的應(yīng)用需求作了相應(yīng)的優(yōu)化。

14、火花臺(tái)采取了密封式設(shè)計(jì)，整個(gè)火花臺(tái)的結(jié)構(gòu)堅(jiān)固，在持續(xù)使用高溫火花激發(fā)的情況下保持火花臺(tái)結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定。

15、火花臺(tái)通過結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)上的變化改進(jìn)了氬氣流的噴射方向，大大減少了火花激發(fā)殘留物在火花臺(tái)上的殘留，同時(shí)使火花臺(tái)的清潔和維護(hù)也變得更為簡(jiǎn)單。

16、保留了開放式樣品臺(tái)的設(shè)計(jì)，使樣品的放置   及分析更加簡(jiǎn)便，樣品處理也比傳統(tǒng)光譜更加簡(jiǎn)單。除電極間隙外，無特別調(diào)整要求

光譜儀采用了*的噴射電極技術(shù)（JET STREAM）。在激發(fā)狀態(tài)下，電極周圍會(huì)形成氬氣噴射氣流。這種技術(shù)會(huì)帶來以下*的優(yōu)勢(shì)。

（1）激發(fā)點(diǎn)周圍的氬氣流保證了激發(fā)過程不受外界干擾。

（2）節(jié)省了氬氣的使用，降低了客戶的使用成本。

（3）樣品臺(tái)無須密封，線材等小樣品也可以非常方便的借助適配器進(jìn)行分析。

（4）抽拉式前罩，使激發(fā)臺(tái)的清理維護(hù)更加方便。

17、光譜儀的入射光路設(shè)計(jì)十分簡(jiǎn)潔。通過將入射光路與真空系統(tǒng)直接連接，兩到透鏡使入射窗口保真空和灰塵防護(hù)獨(dú)立分開，維護(hù)清洗變得非常方便，客戶可以在日常工作中自行進(jìn)行操作；

18、相比同類產(chǎn)品，入射窗口通常與光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)復(fù)雜，使得入射窗口的清理需要專業(yè)人員進(jìn)行操作，操作不當(dāng)還可能引起真空系統(tǒng)受損。

19、HK-7500的電路系統(tǒng)進(jìn)行了全新的設(shè)計(jì)。在火花源及讀出系統(tǒng)上都運(yùn)用了當(dāng)今的技術(shù)。

20、采用了同步實(shí)時(shí)數(shù)字讀出技術(shù)，與傳統(tǒng)的順序讀出技術(shù)相比，分析時(shí)間和數(shù)據(jù)的穩(wěn)定性都會(huì)大大提高。

21、采用了全數(shù)字等離子火花光源技術(shù)。所有的激發(fā)參數(shù)可通過用戶界面由用戶根據(jù)實(shí)際需求自定義進(jìn)行設(shè)置。

22、將電路系統(tǒng)與光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行了*的分離，將電路系統(tǒng)統(tǒng)一置于光室的外部分，這樣的設(shè)計(jì)使的散熱功能大大提升，同時(shí)使的后續(xù)維護(hù)也十分便捷。

23、操作軟件十分簡(jiǎn)單易學(xué)，全中文菜單。沒有任何光譜知識(shí)背景的操作人員只需簡(jiǎn)單培訓(xùn)，就可進(jìn)行的使用。同時(shí)的設(shè)計(jì)處處體現(xiàn)了以人為本的設(shè)計(jì)理念，使的使用和維護(hù)處處體現(xiàn)人性化的關(guān)懷。

技術(shù)參數(shù)

HK-7500光譜儀可應(yīng)用于固體金屬樣品的元素定量分析及牌號(hào)鑒定。光學(xué)系統(tǒng)采用CCD檢測(cè)器，光譜范圍覆蓋全部典型材料。裝備有氬氣沖洗火花臺(tái)，開放式設(shè)計(jì)火花臺(tái)適合不同形狀和尺寸的樣品分析。

光譜儀光學(xué)系統(tǒng)

帕邢-龍格結(jié)構(gòu)，羅蘭圓光學(xué)系統(tǒng)

羅蘭圓直徑：350mm

有效波長(zhǎng)范圍：160 – 800 nm

探測(cè)器：多塊高性能線陣CCD

光室溫度：自動(dòng)控制恒溫：34℃±0.5℃

像素分辨率：10pm

光柵刻線：3600 l/mm

一級(jí)光譜線色散率：1.2 nm/mm

外部入射窗口，方便清洗及更換

的漂移校正功能-得益于自動(dòng)尋峰功能（精確度達(dá)到0.1像素）

的紫外波段靈敏度，得益于全新改良的真空技術(shù)

數(shù)字等離子發(fā)生器

全數(shù)字等離子火花光源技術(shù)

高效得益于緊湊的設(shè)計(jì)和半導(dǎo)體控制技術(shù)

高能預(yù)燃技術(shù) (HEPS)

激發(fā)參數(shù)可通過用戶界面由用戶根據(jù)實(shí)際需求自定義進(jìn)行設(shè)置

頻率100 – 1000Hz

電流1-80A

調(diào)整參數(shù)可能需調(diào)整元器件

優(yōu)化的樣品臺(tái)

開放式樣品臺(tái)設(shè)計(jì)，滿足大樣品測(cè)試要求

4mm樣品臺(tái)分析間隙

“噴射電極"技術(shù)輕松應(yīng)對(duì)小樣品及復(fù)雜幾何形狀樣品

低氬氣消耗, 待機(jī)時(shí):無須待機(jī)流量

通用可調(diào)樣品適配器

不同基體可方便更換相應(yīng)火花臺(tái)

優(yōu)化的雜質(zhì)排出系統(tǒng)

牢固的銅制樣品臺(tái)散熱效果

計(jì)算機(jī)及讀出系統(tǒng)

國(guó)產(chǎn)品牌電腦

處理器:  AMD 雙核 64X2 5200+

芯 片:    AMD 690G + AMD SB600

內(nèi) 存:    1GB DDR 2

硬 盤:    >250 GB

光 驅(qū):    DVD

顯示器： 19寸液晶顯示器

數(shù)據(jù)輸出

數(shù)據(jù)以多種數(shù)據(jù)形式存儲(chǔ)

可接駁各種標(biāo)準(zhǔn)打印設(shè)備

數(shù)據(jù)可通過互聯(lián)網(wǎng)遠(yuǎn)程發(fā)送傳輸

軟件系統(tǒng)

Windows XP操作系統(tǒng)

中文光譜儀操作軟件

可選數(shù)據(jù)維護(hù)程序

操作軟件分析功能

HK-7500尺    寸:

高：450mm,長(zhǎng)：750 mm,寬：800 mm, 重量：85 kg（不含真空泵）

電源要求：

AC220 V /50 Hz

zui大功率1500 W (主機(jī)800W，真空泵600W，電腦100W)

平均功率1200 W（主機(jī)500W，真空泵600W，電腦100W）

待機(jī)功率70 W

16 A慢熔保險(xiǎn)絲

氬氣要求：

純氬氣, 99.999%; 氬氣減壓閥（專配減壓閥）;

氣壓4-5bar,

銅管傳輸

主要核心部件

HK-7500直讀光譜儀鐵基體元素、曲線可選分析范圍

HK-7500直讀光譜儀鋁基體元素、曲線可選分析范圍

HK-7500型直讀光譜儀銅基體元素、曲線可選分析范圍

注：1、開通的元素及通道多少依據(jù)產(chǎn)品價(jià)格設(shè)定。

2、特殊材料超出檢測(cè)的元素及測(cè)量范圍的，供需雙方可制定內(nèi)控標(biāo)樣。

3、由于國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的滯后性，在部分牌號(hào)材料尚未有新標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)出來前，按原標(biāo)準(zhǔn)元素執(zhí)行。

4、本元素表及測(cè)量范圍zui終解釋權(quán)歸供方。