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            產(chǎn)品展廳

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            EMPro *型多入射角激光橢偏儀

            具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
            • 公司名稱 北京賽凡光電儀器有限公司
            • 品牌
            • 型號(hào) EMPro
            • 產(chǎn)地
            • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
            • 更新時(shí)間 2015/12/25 12:58:30
            • 訪問(wèn)次數(shù) 721

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               公司成立于2004年,在同行業(yè)中Z早獲得*,擁有多項(xiàng),其中“太陽(yáng)能電池測(cè)試系統(tǒng)”、“光譜儀”、“精密位移臺(tái)”三大系列產(chǎn)品被市科委、市*等5部門評(píng)為“北京市自主創(chuàng)新產(chǎn)品”,并列入政府采購(gòu)目錄。公司于2009年9月取得ISO9001質(zhì)量體系認(rèn)證。

            賽凡擁有兩大核心技術(shù):光譜測(cè)試技術(shù),精密運(yùn)動(dòng)控制技術(shù)

                 主要產(chǎn)品系列:太陽(yáng)能電池光譜響應(yīng)/IPCE/QE測(cè)試儀,太陽(yáng)能電池I/V性能測(cè)試儀,太陽(yáng)模擬器,橢偏儀,CCD光電性能測(cè)試儀,熒光/拉曼/發(fā)射/透反吸/探測(cè)器光譜測(cè)試系統(tǒng),光柵光譜儀,CCD光譜儀,科研級(jí)光源,光電探測(cè)器,數(shù)據(jù)采集器,精密定位系統(tǒng),電動(dòng)/手動(dòng)精密位移臺(tái),光具座,光學(xué)平臺(tái)等。

                 公司自成立以來(lái),始終秉持質(zhì)量*,滿足用戶的經(jīng)營(yíng)理念,在注重提升自身研發(fā)能力的同時(shí),和多家科研院所保持緊密合作關(guān)系,共同創(chuàng)建光電實(shí)驗(yàn)室,保證產(chǎn)品的*性和適用性。其中太陽(yáng)能光伏實(shí)驗(yàn)室,為各類太陽(yáng)能電池(單晶硅,多晶硅,薄膜電池,染料敏化電池等)的光譜響應(yīng)測(cè)試及膜厚控制提供了完整解決方案。

                  我們始終如一,用心為您提供良好完整的解決方案,為您提供專業(yè)高效的技術(shù)支持,為您提供快速響應(yīng)的售后服務(wù),我們的追求就是讓您始終滿意,始終信任,始終選擇 !


            單色儀,光源,太陽(yáng)模擬器,太陽(yáng)能電池測(cè)試系統(tǒng),平移臺(tái),精密調(diào)整系統(tǒng),光學(xué)平臺(tái)

            EMPro是針對(duì)研發(fā)和質(zhì)量控制領(lǐng)域推出的*型多入射角激光橢偏儀。

            EMPro 可在單入射角度或多入射角度下進(jìn)行高精度、高準(zhǔn)確性測(cè)量??捎糜跍y(cè)量單層或多層納米薄膜樣品的膜層厚度、折射率n和消光系數(shù)k;也可用于同時(shí)測(cè)量塊狀材料 的折射率n和消光系數(shù)k;亦可用于實(shí)時(shí)測(cè)量快速變化的納米薄膜動(dòng)態(tài)生長(zhǎng)中膜層的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。多入射角度設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)了納米薄膜的厚度測(cè) 量。

            EMPro采用了量拓科技多項(xiàng)技術(shù)。

            特點(diǎn):

            • 原子層量級(jí)的*靈敏度

              *的采樣方法、高穩(wěn)定的核心器件、高質(zhì)量的制造工藝實(shí)現(xiàn)并保證了能夠測(cè)量原子層量級(jí)的極薄納米薄膜,膜厚精度達(dá)到0.01nm,折射率精度達(dá)到0.0001。

            • 百毫秒量級(jí)的快速測(cè)量

              水準(zhǔn)的儀器設(shè)計(jì),在保證*精度和準(zhǔn)確度的同時(shí),可在幾百毫秒內(nèi)快速完成一次測(cè)量,可滿足單原子膜層生長(zhǎng)的實(shí)時(shí)測(cè)量。

            • 簡(jiǎn)單方便的儀器操作

              用戶只需一個(gè)按鈕即可完成復(fù)雜的材料測(cè)量和分析過(guò)程,數(shù)據(jù)一鍵導(dǎo)出。豐富的模型庫(kù)、材料庫(kù)方便用戶進(jìn)行高級(jí)測(cè)量設(shè)置。

            應(yīng)用:

            • EMPro適合于高精度要求的科研和工業(yè)產(chǎn)品環(huán)境中的新品研發(fā)或質(zhì)量控制。
            • EMPro可用于測(cè)量單層或多層納米薄膜層構(gòu)樣品的薄膜厚度、折射率n及消光系數(shù)k;可用于同時(shí)測(cè)量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k;可用于實(shí)時(shí)測(cè)量快速變化的納米薄膜的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。
            • EMPro可應(yīng)用的納米薄膜領(lǐng)域包括:微電子、半導(dǎo)體、集成電路、顯示技術(shù)、太陽(yáng)電池、光學(xué)薄膜、生命科學(xué)、化學(xué)、電化學(xué)、磁介質(zhì)存儲(chǔ)、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等??蓱?yīng)用的塊狀材料領(lǐng)域包括:固體(金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)等),或液體(純凈物或混合物)。

            技術(shù)指標(biāo):

             

            項(xiàng)目

            技術(shù)指標(biāo)

            儀器型號(hào)

            EMPro31

            激光波長(zhǎng)

            632.8nm (He-Ne Laser)

            膜厚測(cè)量重復(fù)性(1)

            0.01nm (對(duì)于平面Si基底上100nm的SiO2膜層)

            折射率測(cè)量重復(fù)性(1)

            1x10-4 (對(duì)于Si基底上100nm的SiO2膜層)

            單次測(cè)量時(shí)間

            與測(cè)量設(shè)置相關(guān),典型0.6s

            結(jié)構(gòu)

            PSCA(Δ在0°或180°附近時(shí)也具有*的準(zhǔn)確度)

            激光光束直徑

            1mm

            入射角度

            40°-90°可手動(dòng)調(diào)節(jié),步進(jìn)5°

            樣品方位調(diào)整

            Z軸高度調(diào)節(jié):±6.5mm

            二維俯仰調(diào)節(jié):±4°

            樣品對(duì)準(zhǔn):光學(xué)自準(zhǔn)直和顯微對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)

            樣品臺(tái)尺寸

            平面樣品直徑可達(dá)Φ170mm

            zui大的膜層范圍

            透明薄膜可達(dá)4000nm

            吸收薄膜則與材料性質(zhì)相關(guān)

            zui大外形尺寸

            887 x 332 x 552mm (入射角為90º時(shí))

            儀器重量(凈重)

            25Kg

            選配件

            水平XY軸調(diào)節(jié)平移臺(tái)

            真空吸附泵

            軟件

            ETEM軟件:

            l 中英文界面可選;

            l 多個(gè)預(yù)設(shè)項(xiàng)目供快捷操作使用;

            l 單角度測(cè)量/多角度測(cè)量操作和數(shù)據(jù)擬合;

            l 方便的數(shù)據(jù)顯示、編輯和輸出

            l 豐富的模型和材料數(shù)據(jù)庫(kù)支持

             

               注:(1)測(cè)量重復(fù)性:是指對(duì)標(biāo)準(zhǔn)樣品上同一點(diǎn)、同一條件下連續(xù)測(cè)量25次所計(jì)算的標(biāo)準(zhǔn)差。

            性能保證: 

            • 高穩(wěn)定性的He-Ne激光光源、*的采樣方法以及低噪聲探測(cè)技術(shù),保證了高穩(wěn)定性和高準(zhǔn)確度
            • 高精度的光學(xué)自準(zhǔn)直系統(tǒng),保證了快速、高精度的樣品方位對(duì)準(zhǔn)
            • 穩(wěn)定的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、可靠的樣品方位對(duì)準(zhǔn),結(jié)合*的采樣技術(shù),保證了快速、穩(wěn)定測(cè)量
            • 分立式的多入射角選擇,可應(yīng)用于復(fù)雜樣品的折射率和厚度的測(cè)量
            • 一體化集成式的儀器結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),使得系統(tǒng)操作簡(jiǎn)單、整體穩(wěn)定性提高,并節(jié)省空間
            • 一鍵式軟件設(shè)計(jì)以及豐富的物理模型庫(kù)和材料數(shù)據(jù)庫(kù),方便用戶使用


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