上市時間：2020年1月
1、獨立雙光室，確保所有分析譜線都獲得比較高分辨率。 SPECTROLAB S 配備兩套完整的專用光學系統(tǒng)。一個光室精確測量波長從120到240納米（nm）;另一個光室，波長范圍從210到800納米（nm）。 兩個光室都采用*的CMOS檢測器，具備恒溫裝置和壓力補償功能 2、等離子發(fā)生器數(shù)字光源和點火板 可靠的新型高能LDMOS等離子發(fā)生器光源，為SPECTROLAB S 輸出超級穩(wěn)定的火花放電，頻率高達1000 Hz。結(jié)果：最短的測量時間（例如：分析低合金鋼小于 20 秒）。該系統(tǒng)還允許特定應用的火花參數(shù)設置，以優(yōu)化分析性能。 3、精密氬氣控制系統(tǒng) SPECTROLAB S 采用全新程控流量。軟件根據(jù)分析程序精密設置氬氣流量。節(jié)約了氬氣消耗。氬氣閥體直接耦合到火花臺，無需管道連接。避免漏氣。 4、火花臺清理間隔大大延長 堅固的陶瓷內(nèi)芯避免積塵粘附。流暢的氣路設計確保了最少的粉塵殘留（使得清理間隔時間延長了8倍）；對于大樣品量輸出的全自動光譜儀系統(tǒng)尤為重要。 5、快速讀出系統(tǒng) 斯派克的GigE創(chuàng)新讀出系統(tǒng)確保海量數(shù)據(jù)的極速處理，從而支持儀器性能表現(xiàn)。實現(xiàn)了*的全光譜范圍譜圖記錄。 6、超低檢出限。SPECTROLAB S 采用的 CMOS+T技術(shù)，在關(guān)鍵元素的檢測限方面，超越光電倍增管技術(shù)的性能。通過配置參比通道，工作曲線可以較高程度獲得優(yōu)化?？梢钥焖俣糠治鰌pm量級的高純金屬或合金中的痕量元素。

直讀光譜儀LAB S – 金屬分析真正意義上的革命

20秒內(nèi)獲得高準確度的結(jié)果（例如：低合金鋼）
定期維護的工作量（火花臺清洗）減少8倍
元素在低合金鋼中平均檢測限改善2倍，元素在純鋁中的平均檢測限改善5倍
儀器的占地面積減少27%
單一標樣實現(xiàn)整個系統(tǒng)的標準化, 此項每天可節(jié)省30分鐘工作時間

作為電弧/火花創(chuàng)新技術(shù)的創(chuàng)造者，40多年來，全心投入開發(fā)出世界全新的發(fā)射光譜儀。今天，完善引入CMOS探測器技術(shù)，*改變了電弧/火花分析技術(shù)的走向及未來。在所有同類分析儀中，LAB S所提供分析速度超出想象，元素檢測限低，同時她也可以提供很長的正常運行時間和非常具有前瞻性的靈活性

LAB S 擁有基于CMOS的探測器的記錄系統(tǒng)，該系統(tǒng)非常適合于中高純金屬分析。從微量元素到多基體應用，它提供了快速、高度準確、異常靈活的技術(shù)選擇。

樣品的分析速度是儀器性能的重要標志，LAB S的推出*了金屬分析市場對速度的需求。例如：當檢測低合金鋼時，它可以在20秒或更短的時間內(nèi)提供高準確度的測量值！

從技術(shù)指標和實際使用效果看，S均是目前金屬冶煉廠選擇的、高性能的光譜儀。對于金屬再加工生產(chǎn)商、汽車和航空航天制造商、以及成品和半成品、電子產(chǎn)品、半導體等制造商來說，她給出的解決方案同樣優(yōu)良。