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            GL300 Cluster納米壓印光刻生產(chǎn)線

            具體成交價以合同協(xié)議為準

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            青島天仁微納科技有限責任公司成立于2015年,是引新的納米壓印設(shè)備和解決方案提供商。公司的核心競爭力是為客戶提供納米壓印整體解決方案。產(chǎn)品與服務涵蓋納米壓印相關(guān)的設(shè)備、模具、材料、工藝以及生產(chǎn)咨詢服務。我們致力于拓展納米壓印技術(shù)在創(chuàng)新產(chǎn)品領(lǐng)域的應用,例如發(fā)光二極管(LEDs)、微納機電系統(tǒng)(MEMs/NEMs)、虛擬現(xiàn)實和增強現(xiàn)實光波導(AR Waveguides)、3D傳感、生物芯片、顯示以及太陽能等。

            微納加工設(shè)備,配套材料,配套產(chǎn)品,相關(guān)領(lǐng)域的技術(shù)咨詢服務

            GL300 Cluster全自動納米壓印光刻生產(chǎn)線是模塊化的全自動納米壓印生產(chǎn)線,集成了從納米壓印基底清洗、涂膠、烘烤、冷卻直至納米壓印全套工藝步驟。標配天仁微納CLIV(Contact Litho in Vacuum)壓印技術(shù),可實現(xiàn)200/300mm基底面積上全自動高精度(優(yōu)于10nm )、高深寬比(優(yōu)于10比1 )納米結(jié)構(gòu)復制量產(chǎn)。設(shè)備采用模塊化設(shè)計,用戶可以根據(jù)工藝需求和生產(chǎn)節(jié)奏自由配置清洗、涂膠、烘烤、冷卻、Plasma表面處理、AOI檢測、Post Cure以及壓印的模塊數(shù)量,達到生產(chǎn)效率。設(shè)備支持自動工作模具復制、工作模具自動更換、自動預處理和壓印、自動脫模,整個工藝過程在密閉潔凈環(huán)境中進行,以保證壓印結(jié)果質(zhì)量。

            GL300 Cluster納米壓印設(shè)備適用于DOE、AR/VR衍射光波導(包括斜齒光柵)、線光柵偏振、超透鏡、生物芯片、LED、微透鏡陣列等應用領(lǐng)域的大規(guī)模量產(chǎn)。

            主要功能

            ●全自動200/300mm大面積、高精度、高深寬比納米壓印生產(chǎn)線
            ●確保壓印結(jié)構(gòu)精度與結(jié)構(gòu)填充完整性
            ●設(shè)備內(nèi)自動復制柔性復合工作模具,降低大面積納米壓印模具使用成本
            ●全自動預處理步驟,包括基材兆聲波清洗、旋涂勻膠、烘烤、冷卻
            ●自動壓印、自動曝光固化、自動脫模,工藝過程在局部潔凈環(huán)境中自動進行,以保證壓印質(zhì)量
            ●標配高功率紫外LED面光源(365nm,光強>1000mW/cm2 ),水冷冷卻,特殊功率以及特殊、混合波長光源可訂制,支持各種商用納米壓印材料

            ●產(chǎn)能可大于100片每小時,適合DOE、AR/VR衍射光波導(包括斜齒光柵)、生物芯片、LED等應用領(lǐng)域的量產(chǎn)
            ●隨機提供全套納米壓印工藝與材料,包括DOE、AR斜齒光柵、高密度、高深寬比結(jié)構(gòu)等工藝流程,幫助客戶零門檻達到高質(zhì)量的納米壓印水平

            GL300 Cluster全自動納米壓印光刻生產(chǎn)線設(shè)備照片

            相關(guān)參數(shù)

            兼容基底尺寸 200mm、300mm 特殊尺寸可定制
            支持基底材料 硅片、玻璃、石英、塑料、金屬等
            上下片方式 Cassette to cassette全自動上下片
            晶圓預對位 光學巡邊預對位
            納米壓印技術(shù) CLIV技術(shù),適合高精度、高深寬比納米結(jié)構(gòu)壓
            納米壓印預處理工藝步驟 CLIV技術(shù),適合高精度、高深寬比納米結(jié)構(gòu)壓印、清洗(毛刷、二流體、兆聲波)、旋涂勻膠、加熱烘烤、冷卻、plasma表面處理
            壓印精度 優(yōu)于10納米*
            結(jié)構(gòu)深寬比 優(yōu)于10比1*
            殘余層控制 可小于10nm*
            紫外固化光源 紫外LED(365nm)面光源,光強>200mW/cm2,水冷冷卻(2000mW/cm2類型光源可選配)
            設(shè)備內(nèi)部環(huán)境控制 標配,外部環(huán)境Class 100,內(nèi)部環(huán)境可達Class 10*
            自動壓印 支持
            自動脫模 支持
            自動工作模具復制 支持
            自動工作模具更換 支持
            模具基底對位功能 自動對位(選配)
            Post Cure 選配
            AOI在線檢測
            選配
            產(chǎn)能 可大于100片每小時*

             

             



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