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            GL8 MLA Gen2工藝紫外納米壓印光刻設(shè)備

            具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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            青島天仁微納科技有限責(zé)任公司成立于2015年,是引新的納米壓印設(shè)備和解決方案提供商。公司的核心競爭力是為客戶提供納米壓印整體解決方案。產(chǎn)品與服務(wù)涵蓋納米壓印相關(guān)的設(shè)備、模具、材料、工藝以及生產(chǎn)咨詢服務(wù)。我們致力于拓展納米壓印技術(shù)在創(chuàng)新產(chǎn)品領(lǐng)域的應(yīng)用,例如發(fā)光二極管(LEDs)、微納機(jī)電系統(tǒng)(MEMs/NEMs)、虛擬現(xiàn)實和增強(qiáng)現(xiàn)實光波導(dǎo)(AR Waveguides)、3D傳感、生物芯片、顯示以及太陽能等。

            微納加工設(shè)備,配套材料,配套產(chǎn)品,相關(guān)領(lǐng)域的技術(shù)咨詢服務(wù)

            GL8 MLA Gen2工藝紫外納米壓印光刻設(shè)備是一種專門為晶圓級光學(xué)加工(WLO-Wafer Level Optics)開發(fā)的全幅紫外納米壓印設(shè)備,可在200mm基底面積上平行復(fù)制生產(chǎn)聚合物光學(xué)器件。

            GL8 MLA Gen2是一種專門為晶圓級光學(xué)加工(WLO-Wafer Level Optics)開發(fā)的全幅紫外納米壓印設(shè)備,可在200mm基底面積上平行復(fù)制生產(chǎn)聚合物光學(xué)器件。

            該設(shè)備支持從晶圓級母模具表面自動復(fù)制柔性復(fù)合工作模具,工作模具具有精度高,壽命長等特點,可以顯著降低大面積納米壓印工藝中模具使用成本。內(nèi)置的點膠系統(tǒng)、APC(主動模具基底平行控制)技術(shù)、以及自動脫模功能都保證了大面積晶圓級光學(xué)生產(chǎn)的精度、均勻性(TTV)與良率。同時,自動模具基底對位系統(tǒng)還可實現(xiàn)晶圓之間對位堆疊工藝(WLS-Wafer Level Stacking)。

            GL8 MLA納米壓印設(shè)備適用于DOE、勻光片(Diffuser)、微透鏡陣列、菲涅爾透鏡等產(chǎn)品的研發(fā)和量產(chǎn)。

            GL8 MLA Gen2工藝紫外納米壓印光刻設(shè)備主要功能

            ●經(jīng)過量產(chǎn)驗證的200mm晶圓級光學(xué)生產(chǎn)(WLO)設(shè)備
            ●APC主動模具基底平行控制技術(shù),確保大面積晶圓壓印TTV均勻性
            ●設(shè)備內(nèi)自動復(fù)制柔性復(fù)合工作模具,降低大面積納米壓印模具使用成本
            ●內(nèi)置自動點膠功能
            ●自動壓印、自動曝光固化、自動脫模,工藝過程無需人工干預(yù)
            ●標(biāo)配高功率紫外LED面光源(365nm,光強(qiáng)>1000mW/cm2 ),水冷冷卻,特殊功率以及特殊、混合波長光源可訂制,支持各種商用納米壓印材料
            ●標(biāo)配設(shè)備內(nèi)部潔凈環(huán)境與除靜電裝置
            ●隨機(jī)提供全套納米壓印工藝與材料,包括標(biāo)準(zhǔn)示范WLO等工藝流程,幫助客戶零門檻達(dá)到高質(zhì)量的納米壓印水平

            設(shè)備照片

            相關(guān)參數(shù)

            兼容基底尺寸2inch、100mm、150mm、200mm
                       特殊尺寸可以定制
            支持基底材料硅片、玻璃、石英、塑料、金屬等
            上下片方式手動上下片
            晶圓預(yù)對位機(jī)械夾持預(yù)對位,可選裝光學(xué)巡邊預(yù)對位
            納米壓印技術(shù)APC主動平行控制技術(shù),適合大面積WLO、WLS等工藝
                       
            壓印精度優(yōu)于10nm*
            結(jié)構(gòu)深寬比優(yōu)于10比1*
            TTV控制微米級精度(200mm晶圓)
            紫外固化光源紫外LED(365nm)面光源,光強(qiáng)>1000mW/cm2,水冷冷卻(2000mW/cm2類型光源可選配)
            設(shè)備內(nèi)部環(huán)境控制標(biāo)配,外部環(huán)境Class 100,內(nèi)部環(huán)境可達(dá)Class 10*
            自動壓印支持
            自動脫模支持
            自動工作模具復(fù)制支持
            模具基底對位功能自動對位(選配)






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