蔡司 Sigma系列場發(fā)射掃描電子顯微鏡：用于高品質(zhì)成像與高級分析的場發(fā)射掃描電子顯微鏡

靈活的探測，4步工作流程，高級的分析性能

將高級的分析性能與場發(fā)射掃描技術(shù)相結(jié)合，利用成熟的 Gemini 電子光學元件。多種探測器可選：用于顆粒、表面或者納米結(jié)構(gòu)成像。Sigma 半自動的4步工作流程節(jié)省大量的時間：設置成像與分析步驟，提高效率。

蔡司 Sigma系列場發(fā)射掃描電子顯微鏡性價比高。Sigma 500 裝配有背散射幾何探測器，可快速方便地實現(xiàn)基礎(chǔ)分析。任何時間，任何樣品均可獲得精準可重復的分析結(jié)果。

（一）、產(chǎn)品特點

1. 用于清晰成像的靈活探測

• 利用探測術(shù)為您的需求定制 Sigma，表征所有樣品。

• 利用 in-lens 雙探測器獲取形貌和成份信息。

• 利用新一代的二次探測器，獲取高達50%的信號圖像。在可變壓力模式下利用 Sigma 創(chuàng)新的 C2D 和 可變壓力探測器，在低真空環(huán)境下獲取高達85%對比度的銳利的圖像。

2. 自動化加速工作流程

• 4步工作流程讓您控制 Sigma 的所有功能。在多用戶環(huán)境中，從快速成像和節(jié)省培訓首先，先對樣品進行導航，然后設置成像條件。

• 首先，先對樣品進行導航，然后設置成像條件。

• 接下來對樣品感興趣的區(qū)域進行優(yōu)化并自動采集圖像。最后使用工作流程的一步，將結(jié)果可視化。

3. 高級分析型顯微鏡

• 將掃描電子顯微鏡與基本分析相結(jié)合：Sigma 背散射幾何探測器大大提升了分析性能，特別是對電子束敏感的樣品。

• 在一半的檢測束流和兩倍的速度條件下獲取分析數(shù)據(jù)。

• 獲益于8.5 mm 短的分析工作距離和35°夾角，獲取完整且無陰影的分析結(jié)果。

4. 基于成熟的 Gemini 技術(shù)

• Gemini 鏡頭的設計結(jié)合考慮了電場與磁場對光學性能的影響，并將場對樣品的影響降至更低。這使得即使對磁性樣品成像也能獲得出色的效果。

• Gemini in-lens 的探測確保了信號探測的效率，通過二次檢測(SE)和背散射(BSE)元件同時減少成像時間。

• Gemini 電子束加速器技術(shù)確保了小的探測器尺寸和高的信噪比。

5. 用于清晰成像的靈活探測

• 利用新的探測技術(shù)表征所有的樣品。

• 在高真空模式下利用創(chuàng)新的 ETSE 和 in-lens 探測器獲取形貌和高分辨率的信息。

• 在可變壓力模式下利用可變壓力二次電子和 C2D 探測器獲取銳利的圖像。

• 利用 aSTEM 探測器生成高分率透射圖像。

• 利用 BSD 或者 YAG 探測器進行成份分析。

（二）、配件

1. SmartEDX

為您帶來一體化能譜分析解決方案

如果單采用SEM成像技術(shù)無法全面了解部件或樣品，研究人員就需要在SEM中采用能譜儀（EDS）來進行顯微分析。通過針對低電壓應用而優(yōu)化的能譜解決方案，您可以獲得元素化學成分的空間分布信息。得益于：

• 優(yōu)化了常規(guī)的顯微分析應用，并且由于氮化硅窗口優(yōu)秀的透過率，可以探測輕元素的低能X射線。

• 工作流程引導的圖形用戶界面極大地改善了易用性，以及多用戶環(huán)境中的重復性。

• 完整的服務和系統(tǒng)支持，由蔡司工程師為您的安裝、預防性維護及保修提供一站式服務。

2. 拉曼成像與掃描電鏡聯(lián)用系統(tǒng)

集成化的拉曼成像

在您的數(shù)據(jù)中加入拉曼光譜及成像結(jié)果，獲得材料更豐富的表征信息。通過擴展蔡司Sigma 300，使其具備共聚焦拉曼成像功能，您能夠獲得樣品中的化學指紋信息，從而指認其成分。

• 識別分子和晶體結(jié)構(gòu)信息

• 可進行3D分析，在需要時可關(guān)聯(lián)SEM圖像、拉曼面掃描成像和EDS數(shù)據(jù)

• 集成RISE讓您體驗由SEM和拉曼系統(tǒng)帶來的優(yōu)勢。

3. 基于蔡司場發(fā)射掃描電鏡的原位實驗平臺

通過集成的一體化解決方案建立材料性能與微結(jié)構(gòu)之間的關(guān)聯(lián)

蔡司開發(fā)了自動化的原位加熱與拉伸實驗平臺，能夠向您揭示材料微結(jié)構(gòu)的變化是如何影響材料宏觀性能的。基于此平臺，能夠自動觀察材料在加熱和拉伸過程中的變化，并隨時繪制材料的拉力-應力曲線。通過集成該原位加熱與拉伸實驗解決方案，將極大的擴展您的蔡司場發(fā)射掃描電鏡的功能，從而助力金屬，合金，高分子材料，塑料，復合材料以及陶瓷等材料的深入研究。

該原位實驗平臺將力學拉伸/壓縮樣品臺，加熱單元，以及專為高溫環(huán)境設計的二次電子和背散射電子探測器，與EDS和EBSD分析相結(jié)合。得益于蔡司Gemini電子光學鏡筒設計，使上述原位硬件的集成變得非常簡單。所有系統(tǒng)部件均通過安裝于單臺電腦上的統(tǒng)一的軟件界面控制，從而實現(xiàn)了自動化的，無人值守的材料測試過程。系統(tǒng)允許定義多個感興趣區(qū)域（ROI），并通過自動特征點追蹤功能，為您重新定義了自動化連續(xù)成像和分析（例如EDS和EBSD）的標準。

安裝在SEM倉室內(nèi)的拉伸/加熱臺

優(yōu)勢：

• 簡單而快速的實驗設置，在數(shù)據(jù)采集過程中無需人工監(jiān)視

• 自動化的原位實驗流程，保證了數(shù)據(jù)采集具有高重復性，高精度，以及不依賴于操作人員的高可靠性

• 同時保證高通量和高分辨數(shù)據(jù)采集，可快速獲得在統(tǒng)計意義上具有代表性的結(jié)果

• 高質(zhì)量的數(shù)據(jù)保證了可靠的后期數(shù)據(jù)處理，例如由可使用GOM開發(fā)的數(shù)字圖像關(guān)聯(lián)（DIC）技術(shù)軟件處理產(chǎn)生的應力分布圖

• 簡便的數(shù)據(jù)管理