PLD脈沖激光沉積系統(tǒng)(美國NBM)
- 公司名稱 昱臣半導(dǎo)體技術(shù)（香港）有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間 2024/4/13 19:58:30
- 訪問次數(shù) 190
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| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 400萬-500萬 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池,綜合 |
脈沖激光沉積系統(tǒng)-PLD
型號(hào)：AP-PLD230
脈沖激光沉積系統(tǒng)(PLD)是將脈沖激光導(dǎo)入真空腔內(nèi)照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態(tài)，然后被堆積到設(shè)在對(duì)面的基板上而成膜。PLD方法可以獲得擁有熱力學(xué)理論上準(zhǔn)穩(wěn)定狀態(tài)的組成和構(gòu)造的人工合成薄膜材料。
我們PLD系統(tǒng)擁有性能價(jià)比, 用戶用最少的錢買到研究級(jí)高性能的純進(jìn)口PLD系統(tǒng)。
技術(shù)參數(shù)配置:
1.靶: 數(shù)量6個(gè)，大小1-2英寸，被激光照射時(shí)可自動(dòng)旋轉(zhuǎn)，靶的選擇可通過步進(jìn)電機(jī)控制;
2.基板:采用適合于氧氣環(huán)境鉑金加熱片，大小2英寸，加熱溫度可達(dá)1200攝氏度，溫度差<3%，加熱時(shí)基板可旋轉(zhuǎn)，工作環(huán)境壓力是300mtorr;
3.基板加熱電源，到1200度;
4.超高真空成膜室腔體:不銹鋼sus304材質(zhì)，內(nèi)表面電解拋光，本底真空度<5e-7 Torr;
5.樣品傳輸室:不銹鋼sus304材質(zhì)，內(nèi)表面電解拋光，本底真空度<5e-5 pa;
6.排氣系統(tǒng):分子泵和干式機(jī)械泵;
7.閥門: 采用超高真空擋板閥;
8.真空檢測:真空計(jì);
9.氣路兩套: 采用氣體流量計(jì)控制;
10.薄膜生長監(jiān)控系統(tǒng): 采用掃描型差分RHEED;
11.監(jiān)控軟件系統(tǒng):基板溫度的監(jiān)控和設(shè)定，基板和靶的旋轉(zhuǎn)，靶的更換等;
12.各種電流導(dǎo)入及測溫端子;
13.其它各種構(gòu)造:各種超高真空位移臺(tái)，磁力傳輸桿，超高真空法蘭，超高真空密封墊圈，超高真空用波紋管等;
采購中心
化工儀器網(wǎng)