根據(jù)光刻機的曝光方式，主要可以分為接觸式光刻機、接近式光刻機和直寫式光刻機，其中直寫式光刻機又可以依據(jù)其是否需要使用掩膜版細分為有掩膜和無掩膜兩種。無掩膜光刻機是一種不需要使用傳統(tǒng)掩膜版的光刻機，它通過直接對晶圓進行曝光，實現(xiàn)圖案的轉(zhuǎn)移，能夠更快速地制造特定產(chǎn)品、降低成本，除了能夠滿足傳統(tǒng)的2D光刻需求外，還能實現(xiàn)2.5D光刻（即灰度光刻）。無掩膜光刻機不需要掩膜版、高度靈活的優(yōu)點，使其被廣泛應(yīng)用于科學研究、定制化生產(chǎn)、快速原型制造、電子器件、生物醫(yī)藥、光學元件、微機械等領(lǐng)域。

托托科技科研版無掩膜光刻機-Academic

高靈活性、高精度、無掩膜的優(yōu)勢，非常適用于科學研究。

ACA系列是科研版的無掩膜版紫外光刻機，其基于空間光調(diào)制技術(shù)，實現(xiàn)了數(shù)字掩膜光刻，靈活性使其成為科學研究選擇。設(shè)備搭載長壽命、高功率的紫外光源，設(shè)備穩(wěn)定，上手簡單。其原位光繪和交互式套刻指引功能，讓光刻和套刻更加容易和精準。ACA系列設(shè)備為科研工作提供了強大的支持，助力科學研究領(lǐng)域的發(fā)展和創(chuàng)新。

托托科技科研版無掩膜光刻機-ACA無掩膜光刻機亮點：

特征尺寸0.8μm

6英寸光刻面積

高精度步進光刻

無掩膜光刻機