光刻機，亦稱為掩膜對準曝光機，是半導體芯片制造過程中至關(guān)重要的設備，主要負責將精心設計的集成電路圖案精確地轉(zhuǎn)移到硅晶圓上，從而制造出微小、精確且高效的集成電路。

光刻機的分類主要依據(jù)其曝光方式，可分為接觸式、接近式和直寫式三大類。直寫式光刻機進一步可以根據(jù)是否使用掩膜版分為有掩膜和無掩膜兩種類型。無掩膜光刻機，顧名思義，無需傳統(tǒng)掩膜版即可進行曝光，它直接在晶圓上繪制圖案，這不僅提高了生產(chǎn)速度，降低了成本，而且除了傳統(tǒng)的二維光刻，還能實現(xiàn)2.5維度的灰度光刻。無掩膜光刻機的靈活性高、無需掩膜版的特點，使其在科學研究、定制化生產(chǎn)、快速原型制造、電子器件、生物醫(yī)藥、光學元件、微機械等多個領(lǐng)域得到了廣泛應用。

托托科技推出的科研版無掩膜光刻機-Academic（ACA系列），托托科技科研版6英寸光刻面積無掩膜光刻機ACA Master，以其高靈活性、高精度和無掩膜的優(yōu)勢，成為科學研究領(lǐng)域的理想選擇。

ACA系列無掩膜紫外光刻機采用空間光調(diào)制技術(shù)，實現(xiàn)了數(shù)字化的掩膜光刻，其靈活性是科研工作的一大亮點。設備配備了長壽命、高功率的紫外光源，確保了設備的穩(wěn)定性和操作的簡便性。此外，其原位光繪和交互式套刻指引功能，大大簡化了光刻和套刻過程，提高了操作的精準度。ACA系列光刻機為科研人員提供了強大的工具，助力科學研究和技術(shù)創(chuàng)新的進步。

托托科技科研版6英寸光刻面積無掩膜光刻機ACA Master亮點：

- 特征尺寸可達0.4μm，確保了高精度的圖案繪制。

- 支持6英寸的光刻面積，滿足多種尺寸的晶圓加工需求。

- 具備掃描光刻與步進光刻的切換功能，適應不同的光刻工藝需求。

- 無需掩膜版，實現(xiàn)了更靈活、更高效的光刻作業(yè)。