應(yīng)用行業(yè)

產(chǎn)品結(jié)構(gòu)

真空等離子體表面處理系統(tǒng)主要包括三個(gè)部分：真空腔及真空系統(tǒng)，等離子體發(fā)生器，控制系統(tǒng)。

真空腔及真空發(fā)生系統(tǒng)

真空腔固定于機(jī)柜框架內(nèi)，左右兩側(cè)為可拆門，因此內(nèi)部的真空腔及真空系統(tǒng)的維修是極方便的。

真空發(fā)生系

統(tǒng)由波紋管、KF 接頭、真空泵以及油霧過濾器組成，核心部件真空泵(真空泵組)。

等離子體發(fā)生器

等離子體發(fā)生器在20Pa-100Pa間給電極板施加電壓，產(chǎn)生低溫等離子體。利用高頻轉(zhuǎn)換技術(shù)形成高頻電 壓加到電極板上，當(dāng)真空腔內(nèi)達(dá)到一定真空度時(shí)，產(chǎn)生等離子體放電現(xiàn)象，放電后電路會(huì)自動(dòng)調(diào)節(jié)電壓到適當(dāng)

值，保證電路正常穩(wěn)定放電。

控制系統(tǒng)

本系統(tǒng)使用觸摸屏、PLC、 中文界面。設(shè)備的工藝流程控制：真空泵啟動(dòng)->擋板閥開啟>達(dá)

到設(shè)定的真空度->通入工藝氣體>RF 放電->工作時(shí)間到破真空->工作完成。設(shè)備分自動(dòng)和手動(dòng)兩種方式。

主要技術(shù)參數(shù)：

1 設(shè)備外觀：噴塑處理

外形尺寸：720（寬）×620（高）×600（深）不含機(jī)械泵

2 反應(yīng)倉(cāng)材質(zhì)：不銹鋼、反應(yīng)倉(cāng)尺寸：250（寬）×200（高）×250（深）

3 等離子體頻率：13.56MHz

4 射頻電源功率：0-300W 可調(diào)

5 設(shè)備功率：≤1kW

6 控制方式：

等離子清洗機(jī)采用包括觸摸屏人機(jī)界面的 PLC 控制，操作方式包括自動(dòng)模式和手動(dòng)模式。在自動(dòng)模式下將不同工藝參數(shù)按照配方方式管理，可同時(shí)存儲(chǔ)50組不同的配方。使用時(shí)只需要將相應(yīng)配方號(hào)調(diào)出即可。設(shè)備參數(shù)分級(jí)管理，設(shè)備操作員、工藝人員、維護(hù)人員使用不同口令管理不同參數(shù)，提高設(shè)備安全性。手動(dòng)模式用于實(shí)驗(yàn)工藝以及設(shè)備維護(hù)維修。

7 MFC 質(zhì)量流量計(jì)控制（標(biāo)準(zhǔn)配置2路）

8 氣體流量：

工藝氣體(氧、氬等)： (0～200)ml/min  （標(biāo)準(zhǔn)氣壓,0℃)

9 工作氣體(標(biāo)配為氧、氬)接口壓力：0.1MPa  （若需其它氣體需作聲

明）凈化冷卻氣體（氮?dú)猓┙涌趬毫Γ?.5MPa

10 設(shè)備工作節(jié)拍：空運(yùn)轉(zhuǎn)單次清洗時(shí)間≤5min

11 設(shè)備MES兼容接口：設(shè)備通過數(shù)據(jù)網(wǎng)絡(luò)將工藝參數(shù)傳輸至MES平臺(tái)

更多選擇可咨詢，如4寸等離子清洗機(jī)、多層等離子清洗機(jī)，更大尺寸等離子清洗機(jī)等。

質(zhì)保：一年