高精度鍍層測(cè)厚儀

     高精度電鍍鍍層測(cè)厚儀是一種用于無(wú)損檢測(cè)金屬表面鍍層厚度的精密儀器，廣泛應(yīng)用于電子、汽車、航空航天、五金加工等領(lǐng)域。其核心功能是通過(guò)物理或化學(xué)方法精確測(cè)量鍍層（如鍍鎳、鍍鉻、鍍鋅等）的厚度，確保產(chǎn)品質(zhì)量符合工藝要求。

一、工作原理

根據(jù)測(cè)量技術(shù)的不同，高精度測(cè)厚儀主要分為以下幾類：

1. X射線熒光法（XRF）
   利用X射線激發(fā)鍍層材料產(chǎn)生熒光，通過(guò)檢測(cè)熒光強(qiáng)度計(jì)算鍍層厚度，適用于多層鍍層及復(fù)雜合金成分分析，精度可達(dá)±0.1μm。

2. 磁性法（磁吸力法）
   基于鍍層與基材的磁導(dǎo)率差異，通過(guò)探頭磁場(chǎng)變化測(cè)量非磁性鍍層（如銅、鎳）在磁性基材（如鋼）上的厚度，精度約±0.5μm。

3. 渦流法（電渦流法）
   利用高頻交變磁場(chǎng)在導(dǎo)電鍍層中產(chǎn)生的渦流效應(yīng)，通過(guò)檢測(cè)阻抗變化推算厚度，適用于非磁性基材上的導(dǎo)電鍍層（如鋁基材上的鍍銅），精度可達(dá)±0.2μm。

4. β射線反向散射法
   通過(guò)β粒子在鍍層中的散射衰減特性計(jì)算厚度，適合極薄鍍層（如金、銀鍍層）測(cè)量，精度可達(dá)納米級(jí)。

   
   

   
   

下面介紹在電鍍行業(yè)應(yīng)用廣泛的X射線熒光法（XRF）：

應(yīng)用領(lǐng)域

分析各種電鍍鍍層厚度

技術(shù)指標(biāo)

多鍍層分析，1～5層；

測(cè)試精度：0.001 μm；

元素分析范圍從鋁(Al)到鈾(U)；

測(cè)量時(shí)間：10~30秒；

SDD探測(cè)器，能量分辨率為125±5eV；

探測(cè)器Be窗0.5mil（12.7μm）；

微焦X射線管50kV/1mA，鉬，銠靶（高配微焦鉬靶）；

6個(gè)準(zhǔn)直器及多個(gè)濾光片自動(dòng)切換；

高清CCD攝像頭（200萬(wàn)像素），準(zhǔn)確監(jiān)控位置；

多變量非線性去卷積曲線擬合；

高性能FP/MLSQ分析；

軟件支持無(wú)標(biāo)樣分析；

寬大分析平臺(tái)和樣品腔；

集成了鍍層分析界面和合金成份分析界面；

采用多種光譜擬合分析處理技術(shù)；

鍍層測(cè)厚分析可達(dá)到0.001μm。

單層厚度范圍：

金鍍層0－8um,

鉻鍍層0-15um,

其余一般為0-30um以內(nèi)，

可最小測(cè)量達(dá)0.001um。

2.3、多層厚度范圍

Au/Ni/Cu : Au分析厚度:0-8um      Ni分析厚度:0-30um

Sn/Ni/Cu: Sn分析厚度:0-30um      Ni分析厚度:0-30um

Cr/Ni/Fe: Cr分析厚度0-15um       Ni分析厚度:0-30um

2.4、鍍層層數(shù)為1-6層

2.5、鍍層精度相對(duì)差值一般<5%。

2.6、鍍層成分含量：Sn-Pb合金成分分析；Zn-Ni合金成分分析。

單層分析精度，以Ni舉例：（相對(duì)差值）

分析報(bào)告結(jié)果

直接打印分析報(bào)告；
報(bào)告可轉(zhuǎn)換為PDF，EXCEL格式。

高精度鍍層測(cè)厚儀