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            化工儀器網(wǎng)>行業(yè)應用 >電子/電氣檢測>半導體檢測>正文

            自動電位滴定儀CT-1Plus測定混酸含量——硝酸氫氟酸

            檢測樣品:蝕刻液

            檢測項目:硝酸氫氟酸

            方案概述:在半導體制造領域,刻蝕技術是實現(xiàn)微電子器件精細加工的關鍵步驟之一。半導體濕法刻蝕工藝,簡稱濕法刻蝕,是一種通過化學溶液來去除晶圓表面特定材料層的技術。這種工藝利用化學反應來精確地控制材料的形狀和尺寸,以滿足半導體器件的制造要求。本文主要介紹通過CT-1Plus自動電位滴定儀來測試硝酸/氫氟酸蝕刻液體系的含量。

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            更新時間2025年04月18日

            上傳企業(yè)上海禾工科學儀器有限公司

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            關鍵詞:半導體/硅蝕刻/蝕刻液

            行業(yè):半導體/蝕刻液

            CT-1Plus自動電位滴定儀測定混酸含量——硝酸氫氟酸

            摘要

            在半導體制造領域,刻蝕技術是實現(xiàn)微電子器件精細加工的關鍵步驟之一。半導體濕法刻蝕工藝,簡稱濕法刻蝕,是一種通過化學溶液來去除晶圓表面特定材料層的技術。這種工藝利用化學反應來精確地控制材料的形狀和尺寸,以滿足半導體器件的制造要求。本文主要介紹通過CT-1Plus自動電位滴定儀來測試硝酸/氫氟酸蝕刻液體系的含量。

             

            儀器配置

            ●CT-1Plus電位滴定儀

            ●pH102電極(or銻電極)

            ●20mL高精度計量管

            ●100mL滴定杯試劑配置

            ●滴定劑:氫氧化鈉標準溶液

            ●滴定度:0.5111mol/L

            ●溶劑


            測定方法

            ●酸堿滴定/電位滴定

            ●稱取適量試樣于燒杯中,加50mL溶劑溶解,攪拌均勻,插入電極,選用蝕刻液測試方法,用氫氧化鈉標準溶液滴定到終點


            儀器參數(shù)

            ● 最小滴定體積:10μL  

            ● 最大滴定體積:100μL

            ● 攪拌速度:200        

            ● 每滴間隔:1500ms

            ● 終點模式:微分判定   

            ● 微分設置:200


            測試數(shù)據(jù)

            ● 環(huán)境溫度:20℃ ● 環(huán)境濕度:46%  

            ● 測試時間:2min  

            測試結果:經(jīng)測試,蝕刻液的硝酸濃度約為20.72%,氫氟酸濃度約為5.17%。

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