電極磨拋效果測(cè)試

實(shí)驗(yàn)條件下所得循環(huán)伏安的峰電位差越接近理論值 64 mV 越好, 通常電位差能達(dá)到 100 mV 之間就符合使用要求。

上圖是直徑為4 mm 玻碳電極初次打磨活化后的循環(huán)伏安測(cè)試，并沒(méi)有拋光處理潔凈，顯示出高的峰電流以及電位差，推測(cè)是電極表面存在其他參與反應(yīng)的雜質(zhì)。

統(tǒng)計(jì)4次打磨的電位差，數(shù)據(jù)顯示：隨著打磨次數(shù)越多，電極表征處理越干凈，電位差越接近測(cè)試?yán)碚撝怠?/p>

專業(yè)磨拋儀 vs 手動(dòng)打磨

傳統(tǒng)手工打磨電極采用“8字軌跡法"，在600目、1000目、2000目砂紙、拋光布、麂皮等材質(zhì)上反復(fù)打磨，通常要耗時(shí)1-2天時(shí)間。

重復(fù)繁瑣的手工打磨不僅手部酸痛，也非常煎熬心力，稍不注意，電極會(huì)被磨偏，從而影響實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性。畢竟手工打磨不如機(jī)器打磨那么持久穩(wěn)定。

隨著90后、00后成為科研新生代，他們更希望把寶貴的科研時(shí)間用在更有價(jià)值的事情上。

DC REP-180電極磨拋儀作為電化學(xué)實(shí)驗(yàn)好幫手，讓老師同學(xué)們從繁瑣的的手工打磨中解放出來(lái)，節(jié)省科研時(shí)間，把更多的精力投入到科研創(chuàng)新研究中。早出論文，早出成果。

DC REP-180電極磨拋儀具有“模擬手工打磨"技術(shù)特點(diǎn)，遵循“8字軌跡法"打磨，用高性能電機(jī)驅(qū)動(dòng)打磨，力度均勻，效率更高，拋光效果更好。