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射頻磁控濺射鍍膜裝置 型號(hào):DH-RM-1
主要用途:本設(shè)備主要用于大院校研究和開發(fā)納米單層膜;如各種硬質(zhì)膜、金屬膜;也可以是非金屬、化合物等薄膜材料。可以行直接濺射,亦可以實(shí)現(xiàn)反應(yīng)濺射。
主要點(diǎn):結(jié)構(gòu)簡捷、操作簡便,真空度維護(hù),安可靠。
鍍膜機(jī)應(yīng)安裝在干凈無塵埃、無腐蝕性氣體的室內(nèi),并具備清潔水源、及220V的穩(wěn)定電壓等條件的地方。
1、地面的基本水平度要經(jīng)過調(diào)整,不得低不平;
2、環(huán)境溫度:10℃~30℃;
3、相對(duì)濕度:不大于75%;
4、耗水量(水溫度≤25℃,2.5Kg≥水壓≥1.5Kg):約0.2T/h;
5、水質(zhì)要求:
矽酸硬度<6度,PH值:7-8,電導(dǎo)率:200us/cm,沉積率:<200mg/L。
6、電壓: 220V,50HZ,
電壓波動(dòng)范圍: 198~231V;
頻率波動(dòng)范圍:49~51Hz;
7、水壓:0.3~1Kg/cm2或0.03~0.1MPa/cm2;
8、充入氣體純度99.9%或以上;
9、鍍膜用耗材純度99.9%或以上。
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