[報告簡介]

無掩膜光刻技術因擺脫了掩膜板的束縛，可以高效快速地開發(fā)各類生物學和醫(yī)學器，正逐漸成為各類研發(fā)機構主要的光刻設備。與傳統(tǒng)掩膜版技術相比，無掩膜曝光技術具有高分辨、高對準精度、簡易操作等諸多優(yōu)勢，能夠輕松實現(xiàn)微米、亞微米級精度的光刻、套刻。配合各類標準微加工工藝，能夠方便快捷地實現(xiàn)各類生物芯片器件的制備。在本報告中，將重點介紹無掩膜光刻技術前沿進展，結合來自國內(nèi)外科研單位在國際期刊發(fā)表的研究成果，探討無掩膜光刻技術在生物和醫(yī)學領域的應用。

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[報告時間]

開始  2022年12月21日  14:00

結束  2022年12月21日  14:30

[主講人介紹]

喻博聞 博士

喻博聞博士，畢業(yè)于澳大利亞昆士蘭大學機械與礦業(yè)學院，博士期間研究方向為微納機電器件中的界面問題，以及微納尺度操縱和加工技術?，F(xiàn)于Quantum Design中國子公司表面光譜部門，負責微納加工和表征相關產(chǎn)品在全國的應用開發(fā)、技術支持及市場拓展工作。

相關產(chǎn)品

1、小型臺式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)- MicroWriter ML3