薄膜材料的真空、等離子制備、處理技術(shù)現(xiàn)已被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電、太陽(yáng)能等域的研發(fā)以及成產(chǎn)當(dāng)中，這些技術(shù)包括： 等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積反應(yīng)器（PECVD Reactors） 脈沖激光沉積系統(tǒng)（Pulsed Laser Deposition） 磁控濺射系統(tǒng)（Sputter Deposition System） 電子束沉積系統(tǒng)（E-beam Deposition Systems） Quantum Design 引進(jìn)多家真空等離子生產(chǎn)商設(shè)備，產(chǎn)品線涵蓋通用系統(tǒng)到定制設(shè)備，來滿足中國(guó)科研機(jī)構(gòu)的不同需求，適合實(shí)驗(yàn)室及工業(yè)使用。 等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) (PECVD)
應(yīng)用域：
SiO2、Si3N4、非晶硅、類金剛石薄膜、光學(xué)薄膜、介質(zhì)膜等制備
太陽(yáng)能電池研發(fā)
石墨烯制備
碳納米管選擇性制備
等離子誘導(dǎo)表面改性
等離子清洗（NF3）
反應(yīng)離子蝕刻
NPE 系列：標(biāo)準(zhǔn)化射頻等離子體怎強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（RF-PECVD reactors）
資料下載 FLARION 系列：射頻等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)，高開放性、可擴(kuò)展定制 資料下載
MIRENIQUE 系列：微波-等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（MW-PECVD reactors），高開放性、可擴(kuò)展定制
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脈沖激光沉積系統(tǒng) （Pulsed Laser Deposition systems）
應(yīng)用域：
高溫超導(dǎo)材料研發(fā)
鐵電材料
鐵磁材料
光學(xué)材料
電介材料
硬質(zhì)薄膜
透明導(dǎo)電氧化物(TCO)沉積，如ITO,ZnO
功能陶瓷薄膜
納米結(jié)構(gòu)生長(zhǎng)
聚合物薄膜
GLAZE 系列：中小型，高擴(kuò)展性制式系統(tǒng)
資料下載
JUV 系列：大中型、復(fù)雜定制PLD系統(tǒng)
歡迎垂詢具體技術(shù)細(xì)節(jié)。
MAGNION 系列：磁控管陰和磁控濺射系統(tǒng)（sputtering cathodes and PVD deposition systems）
資料下載 FLOCON 系列：電腦控制氣體管理系統(tǒng) （computer controlled gas management systems） 
資料下載 此外，Plasmionique公司還可以定制：電子束沉積系統(tǒng)（E-beam Deposition Systems） 混合沉積系統(tǒng)（Hybrid Deposition Reactors） 等離子 離子注入系統(tǒng) （Plasma Ion Implanter） 分子束外延系統(tǒng) （MBE Systems） 等離子、反應(yīng)離子、深反應(yīng)離子蝕刻反應(yīng)器（PE, RIE. DRIE Reactors） * | 高速高分辨率拉曼成像顯微鏡 > 線掃描激光束；> 多光譜同步測(cè)量; >狹縫聚焦; > XY方向260nm空間分辨,...... | * | 時(shí)間分辨精細(xì)陰熒光分析系統(tǒng) - attolight > 定量測(cè)量SEM-CL; >300um視場(chǎng), 10nm空間分辨率; >10ps時(shí)間分辨率; > 20-300K,...... | * | 高光譜化學(xué)成像工作站SisuCHEMA > 推掃式成像> 400~1000nm; >900~1700nm; > 1000~2500nm; >整合數(shù)據(jù)采集處理軟件,...... | * | 有機(jī)/金屬薄膜沉積系統(tǒng)（ＯＬＥＤ） > 1~6室沉積系統(tǒng)> 有機(jī)-金屬，同室/異室沉積 > *濕度控制技術(shù)，> 精確速率控制 | * | 無掩膜激光直寫光刻系統(tǒng) > 0.6, 1, 3; 5, 10um分辨率 > 300mm2/min直寫速度; >200nm對(duì)準(zhǔn)精度 |
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