mask aligner半自動(dòng)光刻機(jī) 參考價(jià)：面議
mask aligner半自動(dòng)光刻機(jī)該公司是目前世界上早將光刻機(jī)商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力；并且其設(shè)備被眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究...
臺(tái)式原子層沉積鍍膜系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
該臺(tái)式原子層沉積鍍膜系統(tǒng)擁有達(dá)到或超過市場上其他品牌的功能，同時(shí)易于使用和維護(hù) - 成本低于當(dāng)今市場上的價(jià)格腔室溫度：室溫到325°C±1&...
單離子注入聚焦離子束測(cè)試設(shè)備 參考價(jià)：面議
單離子注入聚焦離子束測(cè)試設(shè)備量子和納米級(jí)材料工程的先進(jìn)平臺(tái)Q-One™是先進(jìn)的聚焦離子束平臺(tái)，用于先進(jìn)的器件制造和納米級(jí)材料工程。Q-One具有確定...
飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜測(cè)試設(shè)備 參考價(jià)：面議
飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜測(cè)試設(shè)備，先進(jìn)的動(dòng)態(tài)TOF-SIMS系統(tǒng)，它使用直流主束的飛行時(shí)間分析儀，創(chuàng)建了成像質(zhì)譜的新范式。直流一次離子束的使用允許快速成像和連續(xù)數(shù)據(jù)...
無掩膜光刻機(jī), 激光直寫系統(tǒng) 參考價(jià)：800000
無掩膜光刻機(jī), 激光直寫系統(tǒng)是一個(gè)高價(jià)值的直寫激光光刻機(jī)系統(tǒng)，面向大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)尋求擴(kuò)大他們的能力。它用亞微米像素分辨率的405nm激光在光敏抗蝕劑涂層表面大面...
半自動(dòng)劃片機(jī)/切片機(jī)（6英寸）-半導(dǎo)體材料 參考價(jià)：面議
半自動(dòng)劃片機(jī)/切片機(jī)（6英寸）-半導(dǎo)體材料適用于 6 英寸晶圓– 6 英寸硅晶圓– 緊湊尺寸的占地面積（寬 x 深 = 590 x 880）– 多處安裝劃片可劃...
半自動(dòng)劃片機(jī)（8英寸，12英寸）-半導(dǎo)體材料 參考價(jià)：面議
半自動(dòng)劃片機(jī)（8英寸，12英寸）-半導(dǎo)體材料– 最大 16 英寸– 重復(fù)精度（Y 軸） ： 0.001– 可選 3 英寸刀片、BBD（刀片斷裂檢測(cè)儀）、NCS（...
半自動(dòng)切片機(jī)（16英寸）-半導(dǎo)體材料 參考價(jià)：面議
半自動(dòng)切片機(jī)（16英寸）-半導(dǎo)體材料– 最大 16 英寸 （300mm x 300mm）– 真空卡盤：300mm x 300mm 方形
全自動(dòng)劃片機(jī)/切片機(jī)（12英寸）-半導(dǎo)體材料 參考價(jià)：面議
全自動(dòng)劃片機(jī)/切片機(jī)（12英寸）-半導(dǎo)體材料– 最大 12 英寸硅晶圓– 真空吸盤：6~12英寸可切割材料：硅晶圓、QFN、陶瓷、印刷電路板、石英、LED、移動(dòng)...
納米顆粒采樣器-氣溶膠設(shè)備(德國） 參考價(jià)：150000
納米顆粒采樣器-氣溶膠設(shè)備（德國），partector TEM采樣器是簡單與強(qiáng)大之間的結(jié)合： 您可以將其用作簡單的調(diào)查儀器來快速識(shí)別納米顆粒 工作場所的來源。您...
校準(zhǔn)晶圓標(biāo)準(zhǔn)品-半導(dǎo)體表征 參考價(jià)：100000
校準(zhǔn)晶圓標(biāo)準(zhǔn)品-半導(dǎo)體表征污染晶圓標(biāo)準(zhǔn)品、校準(zhǔn)晶圓標(biāo)準(zhǔn)品和二氧化硅顆粒晶圓標(biāo)準(zhǔn)品使用顆粒沉積系統(tǒng)生產(chǎn)，該系統(tǒng)將首先使用差分遷移率分析儀（DMA）分析PSL尺寸峰...
負(fù)性光刻膠 （SU-8）-光刻機(jī)用 參考價(jià)：10000
負(fù)性光刻膠 （SU-8）-光刻機(jī)用SNR負(fù)性光刻膠，針對(duì)微機(jī)械加工微電子應(yīng)用，高對(duì)比度，環(huán)氧樹脂類負(fù)性光刻膠。具有垂直側(cè)壁的高縱橫比成像近紫外（350-400n...
快速動(dòng)力學(xué)停流光譜儀-分子生物學(xué) 參考價(jià)：1000000
快速動(dòng)力學(xué)停流光譜儀-分子生物學(xué)SF-300X是用于雙混合和平衡滴定實(shí)驗(yàn)的同類最佳停流光譜儀：樣品體積小，死區(qū)時(shí)間亞毫秒，可配置的觀察池和附件，用于高采樣率吸光...
納米顆粒探測(cè)器-氣溶膠設(shè)備（德國） 參考價(jià)：100000
納米顆粒探測(cè)器-氣溶膠設(shè)備（德國）最小的多尺度納米顆粒探測(cè)器，使用雙非接觸檢測(cè)量級(jí)，不僅測(cè)量肺沉積表面積（LDSA），還測(cè)量顆粒數(shù)濃度和平均粒徑。此外，還計(jì)算和...
納米壓印-光刻機(jī) 參考價(jià)：650000
納米壓印-光刻機(jī)緊湊型滾筒納米壓印機(jī)我們的桌面R2P納米打印機(jī)是原型設(shè)計(jì)，實(shí)驗(yàn)和產(chǎn)品開發(fā)的理想工具。臺(tái)式R2P納米壓印機(jī)單元適用于小規(guī)模納米壓印光刻工作。該設(shè)備...
超聲波風(fēng)速計(jì)-氣溶膠設(shè)備（德國） 參考價(jià)：50000
超聲波風(fēng)速計(jì)-氣溶膠設(shè)備（德國）我們提供真正的正交超聲波風(fēng)速儀。這種新的聲波風(fēng)速計(jì)/溫度計(jì)結(jié)合了早期型號(hào)的所有功能，使用先進(jìn)的微處理器和表面貼裝技術(shù)。計(jì)算風(fēng)速的...
口罩及濾料測(cè)試系統(tǒng)-氣溶膠設(shè)備（德國） 參考價(jià)：1000000
口罩及濾料測(cè)試系統(tǒng)-氣溶膠設(shè)備（德國）PFMT1000 濾料過濾效率測(cè)試系統(tǒng), 口罩及濾材測(cè)試
PALAS冠狀病毒防護(hù)面罩日?？旖轀y(cè)試儀 參考價(jià)：面議
PALAS®冠狀病毒防護(hù)面罩日?？旖轀y(cè)試儀 Mas-Q-Check產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)快速、簡單、準(zhǔn)確地確定呼吸面罩的現(xiàn)場防護(hù)效果滿足日常使用面罩的質(zhì)量控制根據(jù)過...
油霧發(fā)生器-氣溶膠設(shè)備（德國） 參考價(jià)：50000
油霧發(fā)生器-氣溶膠設(shè)備（德國）用于產(chǎn)生規(guī)定油霧并可用于過濾器試驗(yàn)臺(tái)上的氣溶膠發(fā)生器
磁控濺射鍍膜機(jī) 參考價(jià)：面議
磁控濺射鍍膜機(jī)具有射頻濺射，直流濺射，脈沖直流濺射；304不銹鋼圓柱形腔體，標(biāo)準(zhǔn)直徑有18英寸和24英寸，手動(dòng)傳片或自動(dòng)傳片,適合各種形狀尺寸的小片到200mm...
脈沖激光外延制備鍍膜系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
脈沖激光外延制備鍍膜系統(tǒng)脈沖激光外延制備系統(tǒng)憑借著優(yōu)異的性能, PVD公司生產(chǎn)的脈沖激光沉積分子束外延系統(tǒng)在國內(nèi)外擁有較多用戶，為眾多老師開啟薄膜外延制備的新篇...
狹縫擠出式涂布鍍膜機(jī) 參考價(jià)：面議
狹縫擠出式涂布鍍膜機(jī)粘度范圍：1-20000cps，應(yīng)用襯底：玻璃， PET聚酯， 紙張，幅寬：90mm, 120mm, 300mm。
低溫等離子體源 參考價(jià)：面議
低溫等離子體源通過外部開關(guān)信號(hào)發(fā)射，直接放電，低輸入電壓、高輸出電壓，基于壓電變壓器直接放電，同時(shí)在元件的輸出端直接產(chǎn)生冷等離子，等離子通過電離空氣或氣體來形成...
快速動(dòng)力學(xué)停流裝置-分子生物學(xué) 參考價(jià)：面議
快速動(dòng)力學(xué)停流裝置-分子生物學(xué)配合進(jìn)行快速動(dòng)力學(xué)瞬間實(shí)時(shí)記錄，或離線分析，為廣大的快速動(dòng)力學(xué)研究學(xué)者提供了強(qiáng)有力的工具。在消耗較少的樣本和較少的時(shí)間的同時(shí)，為您...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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