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            北京海富達科技有限公司

            主營產(chǎn)品: 臭氧檢測儀,環(huán)境檢測儀器,水質(zhì)分析儀/ORP測定儀/溶解氧

            16

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            公司信息

            聯(lián)人:
            吳經(jīng)理
            話:
            010-59410839
            機:
            18910282514
            真:
            址:
            北京市海淀區(qū)上地三街一號
            編:
            100085
            化:
            www.kege17.com
            網(wǎng)址:
            www.kege17.com
            鋪:
            http://apwanrong.com/st178891/
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            SD-900M磁控濺射儀報價
            磁控濺射儀報價
            參考價 43800
            訂貨量 1
            具體成交價以合同協(xié)議為準
            • 型號 SD-900M
            • 品牌 其他品牌
            • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
            • 所在地 北京市

            更新時間:2025-02-11 08:39:58瀏覽次數(shù):2160

            聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!

            【簡單介紹】
            產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 應用領域 化工
            磁控濺射儀報價型號:KM1-SD-900M庫號:M402591
            原理:
            在磁控濺射中,由于運動電子在磁場中受到洛侖茲力,它們的運動軌跡會發(fā)生彎曲甚至產(chǎn)生螺旋運動,其運動路徑變長,因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數(shù),使等離子體密度增大,從而磁控濺射速率得到很大的提高,而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作,降低薄膜污染的傾向;
            【詳細說明】

            磁控濺射儀報價磁控濺射儀報價 型號:KM1-SD-900M庫號:M402591  

            原理:

            在磁控濺射中,由于運動電子在磁場中受到洛侖茲力,它們的運動軌跡會發(fā)生彎曲甚至產(chǎn)生螺旋運動,其運動路徑變長,因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數(shù),使等離子體密度增大,從而磁控濺射速率得到很大的提高,而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作,降低薄膜污染的傾向;另一方面也提高了入射到襯底表面的原子的能量,因而可以在很大程度上改善薄膜的質(zhì)量。同時,經(jīng)過多次碰撞而喪失能量的電子到達陽極時,已變成低能電子,從而不會使基片過熱。

            參數(shù):

            ?主機規(guī)格:300mm×360mm×380mm(W×D×H)

            ?靶(上部電極):金:50mm×0.1mm(D×H)

            ?靶材:Au(標配)

            ?樣品室:玻璃腔體160mm×120mm(D×H)

            ?靶材尺寸:Ф50mm

            ?高真空度:≤ 4X10-2 mbar

            ?大電流:100mA

            ?定時器:數(shù)碼計時 0-999S

            ?鍍膜面積:50mm

            ?微型真空氣閥:可連接φ3mm軟管

            ?可通入氣體:多種

            ?高電壓:-1600 DCV

            ?機械泵:標準配置2L/S(國產(chǎn)VRD-8)

            ?冷卻方式:冷水機(可根據(jù)實驗具體要求自備)

            ?速率:0--60nm/min


            用途:

            1、適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡(SEM)觀察前對樣品的噴金、噴鉑。

            2、非導體材料實驗電極制作(噴金、噴鉑。噴銀等)

            3、其他可以滿足條件的鍍膜實驗。

            特點:

            1、成膜速率高。

            2、基片溫度低,可以對溫度敏感的材料進行鍍膜。

            3、可實現(xiàn)大面積鍍膜。

            4、可調(diào)節(jié)濺射電流和真空室壓強以控制鍍膜的速率和顆粒的大小,顆粒大小約4-20nm。

            5、SETPLASMA手動啟動按鈕可預先設置好壓強和濺射電流避免對膜造成不必要的損傷。

            6、真空保護可避免真空過低造成設備短路。

            7、同時可以通過換不同的靶材(金、鉑、銥、銀、銅等),以達到細顆粒的涂層。

            8、通過通入不同的惰性氣體以達到純凈的涂層






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