光刻膠,又稱光致抗蝕劑,具有光化學(xué)性,在光的照射下溶解度發(fā)生變化,一般以液態(tài)涂覆在半導(dǎo)體、導(dǎo)體等基片表面上,曝光烘烤后成固態(tài),它可以實(shí)現(xiàn)從掩膜版到基片上的圖形轉(zhuǎn)移,在后續(xù)的處理工序中保護(hù)基片不受侵蝕,是微細(xì)加工技術(shù)中的關(guān)鍵材料。

中文名稱：(9H-芴-9,9-二基)雙(亞甲基)二丙烯酸酯

英文名：9,9-Bis[(acryloyloxy)methyl]fluorene

別稱：9,9-二(丙烯酸甲酯基)基芴

CAS號(hào)：583036-99-1

分子量：334.36500

密度：N/A

沸點(diǎn)：N/A

分子式：C21H18O4

熔點(diǎn)：N/A

MSDS：N/A

閃點(diǎn)：N/A

EM阻劑/光刻膠/電子束抗蝕劑

納米壓印光刻膠MR-I T85系列

納米壓印光刻膠mr-NIL210

電子束光刻膠 ma-N 2400 MR-EBL 6000系列

Futurrex厚膠負(fù)性光刻膠NR5-8000/NR 26-12000P

光刻膠HD 4100系列負(fù)性PI聚酰亞胺

光刻膠BL-301負(fù)型聚酰亞胺(PI)

電子束光刻膠SU-8 GM1010電子束 負(fù)性

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