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            當(dāng)前位置:上海富瞻環(huán)保科技有限公司>>激光微納加工系統(tǒng)>> FPKOR-HEX-PVD臺(tái)式薄膜沉積系統(tǒng)PVD系統(tǒng)

            臺(tái)式薄膜沉積系統(tǒng)PVD系統(tǒng)

            參  考  價(jià)面議
            具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

            產(chǎn)品型號(hào)FPKOR-HEX-PVD

            品       牌孚光精儀

            廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

            所  在  地上海市

            更新時(shí)間:2024-12-20 11:47:52瀏覽次數(shù):111次

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            臺(tái)式薄膜沉積系統(tǒng)PVD系統(tǒng)
            臺(tái)式薄膜沉積系統(tǒng)為是模塊化的PVD系統(tǒng),為您的研究和實(shí)施應(yīng)用提供了多種沉積選項(xiàng)??裳b配電子束蒸發(fā)源E-beam,ORCA低溫蒸發(fā)源,熱蒸發(fā)源,磁控濺射等。

            臺(tái)式薄膜沉積系統(tǒng)PVD系統(tǒng)


            臺(tái)式薄膜沉積系統(tǒng)為是模塊化的PVD系統(tǒng),為您的研究和實(shí)施應(yīng)用提供了多種沉積選項(xiàng)??裳b配電子束蒸發(fā)源E-beam,ORCA低溫蒸發(fā)源,熱蒸發(fā)源,磁控濺射等。

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            臺(tái)式薄膜沉積系統(tǒng)是研究和開發(fā)的理想選擇,因?yàn)樗哂心K化的特性。所有基本元件都可以訪問,允許對(duì)各種組件進(jìn)行測(cè)試,并對(duì)幾種薄膜沉積技術(shù)中涉及的工藝進(jìn)行探索,包括:表面分析樣品制備,濺射,熱蒸發(fā),有機(jī)物理氣相沉積等
            基本型號(hào)中支持的方法包括:金屬和光刻膠剝離工藝,EM樣品制備,新型涂料研發(fā),磁控濺射沉積*化
            用戶可購(gòu)買基本型號(hào),在必要時(shí)升級(jí)到*高級(jí)別的組件,這些升級(jí)是模塊化的,安裝簡(jiǎn)單,減少了系統(tǒng)停機(jī)時(shí)間和安裝成本。

            臺(tái)式薄膜沉積系統(tǒng)PVD系統(tǒng)

            臺(tái)式薄膜沉積系統(tǒng)配有一個(gè)80升/秒的泵,可實(shí)現(xiàn)高達(dá)8×10^-7毫巴的基本真空,并可實(shí)現(xiàn)高至100毫米的樣品尺寸。該系統(tǒng)還配有一個(gè)多樣品支架,可同時(shí)容納幾個(gè)較小的樣品。
            臺(tái)式薄膜沉積系統(tǒng)可升級(jí)300升/秒的泵,可實(shí)現(xiàn)4×10^-7毫巴的基本真空。用戶也可以選擇一個(gè)較大的HEX-L室,其空間可容納多達(dá)150毫米的樣本,或多個(gè)較小的樣本。
            臺(tái)式薄膜沉積系統(tǒng)由一個(gè)六面鋁框架高真空室組成,該室重量輕,但足夠堅(jiān)固,適用于大多數(shù)物理氣相沉積應(yīng)用。

            六邊形結(jié)構(gòu)支撐六塊模塊化面板,包括:空白面板,“視口"面板,沉積源面板,PLD儀表過程控制面板,包括質(zhì)量流量控制器和厚度控制,用于現(xiàn)場(chǎng)監(jiān)測(cè)的QCM面板該設(shè)計(jì)使用標(biāo)準(zhǔn)化配件,包括用于氣體和水連接的Hamlet快速接頭,以及用于樣品臺(tái)和部件附件的蝶形螺母。這種標(biāo)準(zhǔn)化使切換面板和根據(jù)特定應(yīng)用調(diào)整系統(tǒng)變得簡(jiǎn)單。模塊化設(shè)計(jì)還使維護(hù)和重新配置*快、*高效。


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