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當(dāng)前位置:北京恒奧德科技有限公司>>行業(yè)專用儀器>>專用儀器儀表>> MMK-AccuPycII1340全自動真密度分析儀
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更新時間:2020-04-02 11:18:13瀏覽次數(shù):2004次
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全自動真密度分析儀/密度分析儀 型號:MMK-AccuPycII1340
全自動密度分析儀AccuPyc1340秉承了AccuPyc1330快速,高精度的特點(diǎn),且新一代的AccuPyc1340對材料的適應(yīng)能力更強(qiáng),能接受更多種類的分析材料,如各種粉末,固體材料及泥漿物質(zhì)等,分析材料的體積范圍達(dá)到0.01-350CM3,重復(fù)性為±0.01%,精度為±0.03%。其的氣體置換使得整個分析過程不超過三分種。配合Optional FoamPyc 閉孔率測試軟件,能夠測試各類開孔/閉孔發(fā)泡材料。
參數(shù):
AccuPyc 1340 是適用于各種粉末,固體材料及泥漿物質(zhì)的密度分析儀,的氣體置換使分析時間不超過三分鐘。
1、分析材料的體積范圍達(dá)到0.01-350CM3
2、重復(fù)性為±0.01%,精度為±0.03%
主要特點(diǎn):
1、配合Optional FoamPyc 閉孔率測試軟件,能夠測試各類開孔/閉孔發(fā)泡材料
2、能夠控制操作一至五個外帶的樣品分析模塊
3、真正的全自動操作
4、的溫度控制系統(tǒng)可以根據(jù)測試需要調(diào)節(jié)溫度
5、GLOVE BOX MODEL能夠保證測試結(jié)果不會因環(huán)境溫度的變化而受影響
6、可根據(jù)需要選擇方便快捷的自帶小鍵盤或數(shù)據(jù)保存功能全面的電腦操作系統(tǒng)
產(chǎn)品名稱:薄膜測厚儀 測厚儀 產(chǎn)品型號:HAD-SGC-10 |
HAD-SGC-10薄膜測厚儀,適用于介質(zhì),半導(dǎo)體,薄膜濾光片和液晶等薄膜和涂層的厚度測量。該薄膜測厚儀,是我公司與美國new-span公司合作研制的,采用new-span公司的薄膜測厚,基于白光干涉的原理來測定薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù)(折射率n,消光系數(shù)k)。通過分析薄膜表面的反射光和薄膜與基底界面的反射光相干形成的反射譜,用軟件來擬合運(yùn)算,得到單層或多層膜系各層的厚度d,折射率n,消光系數(shù)k。該設(shè)備關(guān)鍵部件均為國外進(jìn)口,也可根據(jù)客戶需要*。
- 強(qiáng)大的軟件功能
界面友好,操作簡便,用戶點(diǎn)擊幾下鼠標(biāo)就可以完成測量。便捷快速的保存、讀取測量得到的反射譜數(shù)據(jù)數(shù)據(jù)處理功能強(qiáng)大,可同時測量多達(dá)四層的薄膜的反射率數(shù)據(jù)。一次測量即可得到四層薄膜分別的厚度和光學(xué)常數(shù)等數(shù)據(jù)。材料庫中包含了大量常規(guī)的材料的光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)。用戶可以非常方便地自行擴(kuò)充材料數(shù)據(jù)庫。
- 產(chǎn)品功能適用性
該儀器適用于多種介質(zhì),半導(dǎo)體,薄膜濾光片和液晶等薄膜和涂層的厚度測量。
- 典型的薄膜材料為
SiO2、CaF2、MgF、光刻膠、多晶硅、非晶硅、SiNx、TiO2、聚酰亞胺、高分子膜。
- 典型的基底材料為
SiGe、GaAs、ZnS、ZnSe、鋁丙烯酸、藍(lán)寶石、玻璃、聚碳酸酯、聚合物、石英。
儀器具有開放性,儀器的光纖探頭可很方便地取出,通過儀器附帶的光纖適配器(如圖所示)連接到帶C-mount適用于微區(qū)(>10μm,與顯微鏡放大率有關(guān))薄膜厚度的顯微鏡(顯微鏡需另配),就可以使本測量儀測量。
基本配置及參數(shù)
在線二氧化氯檢測儀 二氧化氯測試儀 型號:HAD-CL8136H
在線二氧化氯是帶微處理器的水質(zhì)在線監(jiān)測控制儀。該儀表廣泛用于飲用水處理廠、飲用水分布網(wǎng)、游泳池、水質(zhì)處理工程、污水處理、水質(zhì)消毒(二氧化氯發(fā)生器配套)等各個行業(yè)過程,對水溶液中的二氧化氯值進(jìn)行連續(xù)監(jiān)測和控制。
儀表特點(diǎn)
LCD 大屏液晶顯示
多種自動標(biāo)定功能
多種信號輸出方式可選
兩組繼電器控制開關(guān)
高限、低限、遲滯量控制
同一界面顯示二氧化氯值和狀態(tài)等
設(shè)有密碼保護(hù)防止非工作人員誤操作
參數(shù):
測量范圍:
二氧化氯:0~20.00mg/L(ppm);溫 度:0~50.0℃(選配);
分辨率:
二氧化氯:0.001mg/L; 溫 度:0.1℃;
基本誤差:
二氧化氯:±1%F.S; 溫 度:±0.3℃;
響應(yīng)時間:90%少于 90 秒;
電流輸出(標(biāo)配 1 路,可選配 2 路): 0/4~20mA(負(fù)載電阻<750Ω);
20~4mA(負(fù)載電阻<750Ω);
通訊輸出:RS485 MODBUS RTU(選配);
兩組繼電器控制觸點(diǎn): 10A 250VAC,10A 30VDC;
供電電源(選配): 85~265VAC±10%,50±1Hz,功率≤3W;
9~36VDC,功率:≤3W;
(9)外型尺寸:96×96×130mm;
安裝方式:盤裝(嵌入式);安裝開孔尺寸:91×91mm;
防護(hù)等級:IP54;
(12)重量:0.5kg;
(13)工作環(huán)境:
環(huán)境溫度:-10~60℃; 相對濕度:不大于 90%;
除地球磁場外周圍無強(qiáng)磁場干擾。
經(jīng)濟(jì)型超純水機(jī) 超純水機(jī) HAD-UPT-I-10T
產(chǎn)品介紹:
經(jīng)濟(jì)型超純水機(jī)HAD-UPT-I-10T經(jīng)濟(jì)型超純水機(jī)精簡,可直接將自來水純化為符合國標(biāo)GB6682-92的實(shí)驗室級純水和超純水,全自動“傻瓜”式,系統(tǒng)運(yùn)行狀態(tài)一目了然,使用方便,是一款高性價比的實(shí)驗室超純水機(jī),能夠滿足各類光譜/色譜/質(zhì)譜等儀器分析用水需求。
指標(biāo) :
機(jī) 型 | HAD-UPT-I-20T | |
進(jìn)水水源 | 總?cè)芙庑怨绦挝颰DS<200ppm,水壓0.10-0.40MPa,水溫5-45℃ | |
制 水 量 | 20升/小時 | |
出水流量 | 1.5-1.8升/分鐘(水箱儲水時) | |
RO出水水質(zhì) | 電導(dǎo)率≤進(jìn)水電導(dǎo)率×2% | |
UP出水水質(zhì) | 電阻率17-18.2MΩ.cm(在線監(jiān)測) | |
主機(jī)尺寸(mm) | 臺上式(L×W×H):515×320×485 | |
工作電源 | AC220V/50HZ(功率:30-150W) | |
重 量(kg) | 30-40kg | |
適用范圍 | 制備溶液,試劑,緩沖液等; 器皿沖洗/學(xué)生實(shí)驗; 小型生化儀配套; 理化檢測等常規(guī)定性定量分析; ...... | |
水箱配置 | 臺上式機(jī)型標(biāo)配15升壓力純水箱 |
訂貨須知:
源水水質(zhì)較差(TDS>200ppm)時,本機(jī)型RO純水水質(zhì)會降低至電導(dǎo)率10μs/cm以上;
臺上分體式機(jī)型均可改裝為一體落地式機(jī)型(原臺上式基本配置不變);
選配0.2μm終端微濾器
純水箱配置:臺上式機(jī)型標(biāo)配15升壓力純水箱
20升/小時落地式標(biāo)配40升壓力純水箱
40~60升/小時落地式標(biāo)配70升壓力純水箱
100升/小時落地式機(jī)型標(biāo)配100升壓力純水箱
產(chǎn)品名稱:薄膜測厚儀 測厚儀 貨 號:29204 產(chǎn)品型號:HAD-SGC-10 |
HAD-SGC-10薄膜測厚儀,適用于介質(zhì),半導(dǎo)體,薄膜濾光片和液晶等薄膜和涂層的厚度測量。該薄膜測厚儀,是我公司與美國new-span公司合作研制的,采用new-span公司的薄膜測厚,基于白光干涉的原理來測定薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù)(折射率n,消光系數(shù)k)。通過分析薄膜表面的反射光和薄膜與基底界面的反射光相干形成的反射譜,用軟件來擬合運(yùn)算,得到單層或多層膜系各層的厚度d,折射率n,消光系數(shù)k。該設(shè)備關(guān)鍵部件均為國外進(jìn)口,也可根據(jù)客戶需要*。
- 強(qiáng)大的軟件功能
界面友好,操作簡便,用戶點(diǎn)擊幾下鼠標(biāo)就可以完成測量。便捷快速的保存、讀取測量得到的反射譜數(shù)據(jù)數(shù)據(jù)處理功能強(qiáng)大,可同時測量多達(dá)四層的薄膜的反射率數(shù)據(jù)。一次測量即可得到四層薄膜分別的厚度和光學(xué)常數(shù)等數(shù)據(jù)。材料庫中包含了大量常規(guī)的材料的光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)。用戶可以非常方便地自行擴(kuò)充材料數(shù)據(jù)庫。
- 產(chǎn)品功能適用性
該儀器適用于多種介質(zhì),半導(dǎo)體,薄膜濾光片和液晶等薄膜和涂層的厚度測量。
- 典型的薄膜材料為
SiO2、CaF2、MgF、光刻膠、多晶硅、非晶硅、SiNx、TiO2、聚酰亞胺、高分子膜。
- 典型的基底材料為
SiGe、GaAs、ZnS、ZnSe、鋁丙烯酸、藍(lán)寶石、玻璃、聚碳酸酯、聚合物、石英。
儀器具有開放性,儀器的光纖探頭可很方便地取出,通過儀器附帶的光纖適配器(如圖所示)連接到帶C-mount適用于微區(qū)(>10μm,與顯微鏡放大率有關(guān))薄膜厚度的顯微鏡(顯微鏡需另配),就可以使本測量儀測量。
基本配置及參數(shù)
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