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            上海添時科學儀器有限公司

            • 磁控濺射儀 參考價: 面議

              參考價: 面議 型號:GSL-CKJS-450-B1
              磁控濺射儀可用于金屬、半導體、絕緣體等多種新型薄膜材料的制備,且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點,可廣泛用于大專、科研院所的薄膜材料研究、制備...
              型號: GSL-CKJS-... 品牌:其他品牌所在地:上海市 對比
              離子濺射高真空濺射
              2025/3/13 10:36:084748
            • 磁控濺射 參考價: 面議

              參考價: 面議 型號:GSL-CKJS-560-B2
              高真空濺射可用于金屬、半導體、絕緣體等多種新型薄膜材料的制備,且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點,可廣泛用于大專、科研院所的薄膜材料研究、制備...
              型號: GSL-CKJS-... 品牌:其他品牌所在地:上海市 對比
              磁控濺射磁控濺射儀
              2025/3/13 10:33:503080
            • 磁控濺射卷繞鍍膜機 參考價: 面議

              參考價: 面議 型號:
              磁控濺射卷繞鍍膜機是磁控濺射多用途卷繞鍍膜設備,適用于在 PET 和無紡布上鍍制金屬膜(銅,鋁等)功能性薄膜,設備采用先進的磁控濺射鍍膜技術,配備直流、射頻磁控...
              型號: 品牌:其他品牌所在地:上海市 對比
              磁控濺射磁控濺射儀
              2025/3/13 10:31:473144
            • 磁控濺射鍍膜儀 參考價: 面議

              參考價: 面議 型號:GSL-1100X-SPC-16M
              GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀在真空環(huán)境中利用粒子轟擊靶材產生的濺射效應,使得靶材原子或分子從固體表面射出,在基片上沉積形成薄膜的過程。屬于物...
              型號: GSL-1100X... 品牌:其他品牌所在地:上海市 對比
              磁控濺射磁控濺射儀
              2025/3/13 10:30:123975
            • 薄膜電池制備系統(tǒng) 參考價: 面議

              參考價: 面議 型號:VGB-600-3HD
              VGB-600-3HD薄膜電池制備系統(tǒng)可在手套箱內進行實驗操作,用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物...
              型號: VGB-600-3... 品牌:其他品牌所在地:上海市 對比
              磁控濺射磁控濺射儀
              2025/3/13 10:27:502700
            • 雙靶磁控濺射儀 參考價: 面議

              參考價: 面議 型號:VTC-600-2HD-1000
              VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜...
              型號: VTC-600-2... 品牌:其他品牌所在地:上海市 對比
              磁控濺射磁控濺射儀
              2025/3/13 10:25:295078
            • 單靶磁控濺射儀 參考價: 面議

              參考價: 面議 型號:VTC-600-1HD
              VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜...
              型號: VTC-600-1... 品牌:其他品牌所在地:上海市 對比
              磁控濺射磁控濺射儀
              2025/3/13 10:23:512947
            • 三靶磁控濺射儀 參考價: 面議

              參考價: 面議 型號:VTC-600-3HD
              VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化...
              型號: VTC-600-3... 品牌:其他品牌所在地:上海市 對比
              磁控濺射磁控濺射儀
              2025/3/13 10:21:422805
            • 雙靶磁控濺射儀 參考價: 面議

              參考價: 面議 型號:VTC-600-2HD
              VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜...
              型號: VTC-600-2... 品牌:其他品牌所在地:上海市 對比
              磁控濺射磁控濺射儀
              2025/3/13 10:19:142907

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