目錄:北京中顯恒業(yè)儀器儀表有限公司>>徠卡顯微鏡>>徠卡工業(yè)顯微鏡>> UVM-1™全光譜顯微鏡
| 產(chǎn)地類別 | 進口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 生物產(chǎn)業(yè),電子/電池,綜合 |
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UVM-1™全光譜顯微鏡的設(shè)計是將紫外-可見-近紅外成像技術(shù)和顯微技術(shù)相結(jié)合，能夠*的實現(xiàn)紫外-可見-近紅外的成像。具有前沿技術(shù)的UVM-1™全光譜顯微鏡結(jié)合CRAIC創(chuàng)新設(shè)計的光學技術(shù)，用戶僅用一臺顯微鏡就能在整個寬光譜范圍內(nèi)完成顯微成像，無論是高分辨能力，還是光譜成像能力。
UVM-1™全光譜顯微鏡具有*的多功能系統(tǒng)設(shè)計，能夠允許用戶只在一臺顯微鏡上獲得紫外-可見-近紅外的高分辨率成像和分析結(jié)果。紫外顯微鏡對半導體內(nèi)微量異物有很高的靈敏性，相比標準的顯微鏡，具有更強大的的能力測量微量變化。近紅外顯微鏡能夠無損的、有選擇性的對硅晶片設(shè)備內(nèi)部的電子電路進行精確的成像,這些應(yīng)用知識是其眾多應(yīng)用領(lǐng)域的一小部分。 UVM-1™也可與拉曼一起提供給您更多的功能。
全光譜顯微鏡技術(shù)參數(shù)參數(shù)
| 顯微鏡光譜范圍 | 200-2500nm |
| 熒光光譜法范圍 | 300-1000nm |
| 探測器 | CCD (UV-vis) /InGaAs (NIR) |
| 可見光成像 | 500萬(200-2500nm) |
| 紫外成像 | 200-400nm |
| 近紅外成像 | 900-1700nm |
| 高分辨率UV成像 | 可選 |
| 高分辨率NIR成像 | 可選 |
| UV-Visible-NIR物鏡 | 可選 |
| TE冷卻固體傳感器 | 可選 |
| 顯微鏡自動化 | 可選 |
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