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簡介
PHI Quantera II掃描XPS探針是ULVAC-PHI公司最新研發(fā)的XPS分析儀器，是在業(yè)界獲得非常卓.越成績的Quantum 2000和Quantera SXM的基礎上延申出來的，其革命性技術包括有：一個獨.創(chuàng)的聚焦掃描X射線源，專.利的雙束中和技術，在極低電壓下仍可保持高性能的離子束源以進行XPS的深度分析，一個精密的五軸樣品臺和負責全自動樣品傳送的機械手臂，以及一個*自動化且可支持互聯(lián)網遠程控制的儀器操作平臺。Quantera II 增加了這些革命性的技術性能，極大的提高了生產力，再一次提供了最高性能的XPS系統(tǒng)，以滿足您當前和未來的XPS需要。
PHI Quantera II 掃描XPS探針
優(yōu)點
操作簡單
無論您是在分析一個薄膜樣品、有機聚合物、一個大的塑料鏡片，不銹鋼刀片或是焊錫球等，儀器所有的設置和設定都是*相同的。操作者只需用鼠標在樣品的光學圖像上單擊選擇一個或多個分析區(qū)域，打開儀器的雙光束中和系統(tǒng)和自動Z-軸高度調整功能，就可以通過儀器軟件的自動隊列（Add Q）執(zhí)行所有分析。整個操作流程不需要任何的設定調整，不用因樣品成分不一致而有任何顧慮，甚至也不需要有操作員整天待在儀器旁邊，一切的操作都可以自動的完成。
圖2 - 全自動無人值守，分析無憂的XPS Quantera II
薄膜分析
Quantera II 不僅提供了無機薄膜樣品良好的深度剖面分析性能，而且也可以利用C60離子槍對有機薄膜得出非常*的深度分析結果。
| (a) |  | (b) |  |
圖3 - (a) 以2 keV 氬離子濺射源對一個半導體封裝的錫球表面進行深度分析；
(b) 使用10 keV C60離子源，對50/50 Rapamycin和PLGA的薄膜進行深度分析。
掃描 XPS探針
PHI Quantera II使用了獨.創(chuàng)的聚焦掃描X射線源，使XPS微區(qū)分析變得更高效。如圖4所示，X射線源是經由聚焦電子光柵掃描并撞擊在鋁陽極上所產生的，由此產生的聚焦鋁X射線會再透過橢球形狀的單色器反射在樣品表面上。當電子束掃描在鋁陽極上時，所產生的X射線束在樣品上也會作出同步的掃描。X射線束的直徑大小可調范圍為7.5微米以下到400微米以上。
圖4 - (a) PHI 獨.創(chuàng)的聚焦掃描X射線源說明。(b) 使用Quantera II 對MRS-3標樣所生的二次電子像，可見
以Quantera II 可以分析到約直徑為6微米區(qū)域的功能。
微區(qū)光譜
以下圖5中聚合物表面異物樣品為例。在光學顯微鏡下，透明的聚合物薄膜表面上未發(fā)現(xiàn)有任何污染物。而使用二次電子影像時就立即顯示了聚合物表面上污染物的存在。在短短幾分鐘內，Quantera II儀器就可以利用一個直徑為20微米的X射線束對污染物成分進行分析，從而確定為氟碳污染物。
圖5 - Quantera II的污染分析。(a) 二次電子成像。(b) 多點采譜分析。(c) 碳 1s的圖譜。 (d) 元素分布圖（留意分布中右邊較小點的污染不含有氟或碳）。 (e) 對較小的污染做點分析，使用7.5微米的X射線束確定了第二污染物含有鋅的存在。
特點
X射線探針≤5微米的空間分辨率
高靈敏度的靜電檢測光學系統(tǒng)
雙束中和系統(tǒng)
自動化的樣品傳輸處理
儀器可容納最大樣品直徑為100毫米，高度為25毫米
兩個內部樣品平臺暫停區(qū)
高性能的離子槍
高速的深度分析
元素態(tài)或化學態(tài)的XPS成像
自動角分辨分析
PHI MultiPak 數(shù)據處理軟件
可選配件
樣品定位系統(tǒng) (SPS)
熱/冷樣品臺
冷樣品引入裝置
樣品傳輸管和外部測試站
C60離子槍
Ar2500 GCIB離子槍
應用范圍
化學：化學涂料，聚合物，催化劑
材質：金屬，薄膜，納米材料
電子：半導體，磁盤，微電子技術和顯示技術
生物醫(yī)學與生物醫(yī)學設備
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