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            目錄:東莞市臺淮電子科技有限公司>>日本島津>>元素分析與光譜儀>> EPMA-8050G電子探針X射線微區(qū)分析儀

            電子探針X射線微區(qū)分析儀
            • 電子探針X射線微區(qū)分析儀
            參考價 面議
            具體成交價以合同協(xié)議為準
            參考價 面議
            具體成交價以合同協(xié)議為準
            • 品牌 SHIMADZU/島津
            • 型號 EPMA-8050G
            • 廠商性質(zhì) 代理商
            • 所在地 東莞市
            屬性

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            >

            更新時間:2024-07-04 17:11:09瀏覽次數(shù):2664評價

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            應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,食品,化工,地礦,電子
            島津能夠提供鋼鐵、有色金屬、環(huán)境、食品、化工、制藥、半導體、陶瓷及高分子等眾多領(lǐng)域客戶,多種樣品分析所需要的種類繁多的分析儀器。EPMA-8050G電子探針X射線微區(qū)分析儀的分析對象從幾厘米到幾微米;X射線光電子能譜儀(XPS)分析對象從幾毫米到幾微米;掃描探針顯微鏡(SPM)觀察范圍從100微米到幾納米。


            “The Grand EPMA"電子探針X射線微區(qū)分析儀 誕生

            搭載場發(fā)射電子光學系統(tǒng)
            將島津EPMA分析性能充分發(fā)揮。

            從SEM觀察條件到1μA量級,在各種束流條件下都擁有空間分辨率的場發(fā)射電子光學系統(tǒng)。結(jié)合島津傳統(tǒng)的高性能X射線譜儀,將分析性能有效發(fā)揮。

            當之無愧的“The Grand EPMA" ,zui高水準的EPMA誕生!

            超高分辨率面分析

            對碳膜上Sn球放大3萬倍進行面分析。即使是SE圖像(左側(cè))上直徑只有50nm左右的Sn顆粒,在X射線圖像(右側(cè))上也是清晰可見。


            電子探針X射線微區(qū)分析儀可達到的zui高級別的二次電子圖像分辨率3nm(加速電壓30kV)分析條件下的二次電子分辨率。
            (加速電壓10kV時20nm@10nA/50nm@100nA/150nm@1μA)

            二次電子圖像zui高分辨率3nm
            碳噴鍍金顆粒的觀察實例。實現(xiàn)zui高分辨率
            3nm(@30kV)。相對較高的束流也可將電子束壓
            細聚焦,更加容易的獲得高分辨率的SEM圖像。

            大束流超高靈敏度分析
            實現(xiàn)3.0μA(加速電壓30kV)的zui大束流。
            全束流范圍無需更換物鏡光闌。

            ■ zui多可同時搭載5通道高性能4英寸X射線譜儀
            無人可及的52.5°X射線取出角。
            4英寸羅蘭圓半徑兼顧高靈敏度與高分辨率。
            zui多可同時搭載5通道相同規(guī)格的X射線譜儀。

            全部分析操作簡單易懂
            全部操作僅靠一個鼠標就可進行的*可操作性。
            追求「易懂」的人性化用戶界面。
            搭載導航模式,自動指引直至生成報告。

            超高靈敏度面分析

            使用1μA束流對不銹鋼進行5000倍的面分析。精確地捕捉到了Cr含量輕微不同形成的不同的相(左側(cè)),同時也成功地將含量不足0.1%的Mn分布呈現(xiàn)在我們眼前(右側(cè))。


            實現(xiàn)微區(qū)超高靈敏度分析的*技術(shù)

            1 高亮度肖特基發(fā)射體
            場發(fā)射電子槍采用的肖特基發(fā)射體比一般傳統(tǒng)SEM使用的發(fā)射體針尖直徑更大,輸出更高。即可以保持其高亮度,還可提供高靈敏度分析*的穩(wěn)定大電流。

            2  EPMA電子光學系統(tǒng)
            電子光學系統(tǒng),聚光透鏡盡可能的接近電子槍一側(cè),交叉點不是靠聚光透鏡形成,而是由安裝在與物鏡光闌相同位置上,具有獨立構(gòu)成與控制方式的可變光闌透鏡來形成交叉點的(日本:第4595778號)。簡單的透鏡結(jié)構(gòu),既能獲得大束流,同時全部電流條件下設(shè)定zui合適的打開角度,將電子束壓縮到zui細。當然是不需要更換物鏡光闌的。

            3 超高真空排氣系統(tǒng)
            電子槍室、中間室、分析腔體之間分別安裝有篩孔(orifice)間隔方式的2級差動排氣系統(tǒng)。中間室與分析腔體間的氣流孔做到zui小,以控制流入中間室的氣體,使電子槍室始終保持著超高真空,確保發(fā)射體穩(wěn)定工作。

            4 高靈敏度X射線譜儀
            zui多可同時搭載5通道兼顧高靈敏度與高分辨率的4英寸X射線譜儀。52.5°的X射線取出角在提高了X射線信號的空間分辨率的同時,又可減小樣品對X射線的吸收,實現(xiàn)高靈敏度的分析。




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