小型光柵單色儀 光柵單色儀  型號(hào)：GX-DG07

儀器用途：
作為自動(dòng)生化儀的單色光源，廣泛用于生化分析儀器。
儀器特點(diǎn)：
儀器體積小，在替代窄帶濾光片方面，大大提高了其波長精度。
儀器主要技術(shù)指標(biāo)：
Ø 焦距：74mm
Ø 波長范圍：300nm-800nm（可選用不同規(guī)格的光柵，波段范圍可擴(kuò)展） 
Ø 至200nm-20μm內(nèi)的相應(yīng)波段）
Ø 波長準(zhǔn)確度：±2nm（1800L/mm）
Ø 波長重復(fù)性： 1nm （1800L/mm）
Ø 線色散倒數(shù)：7.5nm/mm(1800L/mm)
Ø 相對(duì)孔徑：D/f=1/3.9
Ø 狹縫：固定寬度1mm
Ø 外型尺寸：175A型    95×61×49（mm）
181型     100×61×73.5（mm）

小型光柵單色儀 光柵單色儀

光柵單色儀

產(chǎn)品名稱： 移液器 手動(dòng)移液器 產(chǎn)品型號(hào)：TopPette

 移液器  手動(dòng)移液器 型號(hào)：

 每只移液器在出廠前都按照ISO8655的要求做了出廠檢測(cè)和校準(zhǔn)，所宣稱的不準(zhǔn)確度和不精確度均優(yōu)于ISO8655的規(guī)定標(biāo)準(zhǔn)。 

移液器在使用過程中因多種原因會(huì)造成偏差，定期校準(zhǔn)是保證其準(zhǔn)確性的重要手段。 
單道移液器特點(diǎn) 
- 輕便且設(shè)計(jì)符合人機(jī)工效學(xué) 
- 數(shù)字視窗，令所設(shè)定量程一目了然                     
- 量程范圍廣，0.1μl至10ml 
- 使用附件工具，能方便快捷地進(jìn)行校準(zhǔn)和維修 
- 精確的分液，每支移液器都遵照EN/ISO8655標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行校準(zhǔn) 
- 下半支可高溫高壓消毒 

多道移液器還具有如下創(chuàng)新特點(diǎn) 
- 管嘴推出器可同時(shí)推出多道吸嘴，高效省力 
- 各種量程的8道和12道移液器適用于標(biāo)準(zhǔn)96孔板 
- 液頭可360度旋轉(zhuǎn)，方便移液 
- 每道管嘴連件都有獨(dú)立的活塞裝置，維修保養(yǎng)便捷 
- 特別的管嘴連件設(shè)計(jì)，易于觀察吸嘴的密封狀況 

校準(zhǔn)    
 每只移液器在出廠前都按照ISO8655的要求做了出廠檢測(cè)和校準(zhǔn)，所宣稱的不準(zhǔn)確度和不精確度均優(yōu)于 

ISO8655的規(guī)定標(biāo)準(zhǔn)。 
移液器在使用過程中因多種原因會(huì)造成偏差，定期校準(zhǔn)是保證其準(zhǔn)確性的重要手段。 


，即可執(zhí)行操作簡(jiǎn)單、計(jì)算準(zhǔn)確、及時(shí)的校準(zhǔn)工作，無需任何費(fèi)用，而且避免了非專業(yè)操作造成的校準(zhǔn)誤差。 
我們?cè)谛?zhǔn)指導(dǎo)中列明了校準(zhǔn)所需的必要條件和標(biāo)準(zhǔn)流程，請(qǐng)遵照其步驟操作，以保證校準(zhǔn)的準(zhǔn)確實(shí)行。

產(chǎn)品名稱：射頻磁控濺射鍍膜裝置 產(chǎn)品型號(hào)：RT-RM-1

射頻磁控濺射鍍膜裝置 型號(hào)：RT-RM-1

主要用途：本設(shè)備主要用于大專院校研究和開發(fā)納米級(jí)單層膜；如各種硬質(zhì)膜、金屬膜；也可以是非金屬、化合物等薄膜材料。可以進(jìn)行直接濺射，亦可以實(shí)現(xiàn)反應(yīng)濺射。

主要特點(diǎn)：結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)捷、操作簡(jiǎn)便，真空度維護(hù)高，安全可靠。

鍍膜機(jī)應(yīng)安裝在干凈無塵埃、無腐蝕性氣體的室內(nèi)，并具備清潔水源、及220V的穩(wěn)定電壓等條件的地方。

1、地面的基本水平度要經(jīng)過調(diào)整，不得高低不平；

2、環(huán)境溫度：10℃～30℃；

3、相對(duì)濕度：不大于75%；

4、耗水量（進(jìn)水溫度≤25℃，2.5Kg≥水壓≥1.5Kg）：約0.2T/h；

5、水質(zhì)要求：

矽酸硬度<6度，PH值：7－8，電導(dǎo)率：200us/cm,沉積率：<200mg/L。

6、電壓： 220V，50H_Z，

電壓波動(dòng)范圍： 198～231V；

頻率波動(dòng)范圍：49～51Hz;

7、水壓：0.3～1Kg/cm²或0.03～0.1MPa/cm²;

8、充入氣體純度99.9%或以上;

9、鍍膜用耗材純度99.9%或以上。

設(shè)備規(guī)格參數(shù)

1.1、濺射處理室：

       1、鐘罩：內(nèi)徑225mm×高度260mm；

       2、試樣臺(tái)：直徑80mm（Z大）；

       3、試樣旋轉(zhuǎn)：靜止；

       4、擋板：手動(dòng)；

       5、襯底加熱器：不銹鋼加熱器（DC24V）；

       6、襯底溫度范圍：室溫～200℃；

       7、襯底可調(diào)距離：20mm～60mm；

       8、濺射室限真空：0.5Pa

1.2、真空系統(tǒng)：

       1、抽氣系統(tǒng)：由機(jī)械泵組成的一級(jí)真空系統(tǒng)；抽氣速率：4升/S

       2、真空檢測(cè)：電阻真空計(jì)、電阻規(guī)；

       3、常用真空度：1～20Pa

       4、操作：手動(dòng)

1.3、濺射電源：

1、射頻電源：頻率13.560MHZ,功率：500W，用表指示；

2、阻抗匹配器范圍：（2.7～45）Ω-j（0～70）Ω； 

3、供電：AC 220V；

4、冷卻方式：風(fēng)冷；

  1.4、 磁控靶：

1、靶材直徑：Ф50mm、 一個(gè)永磁靶；

2、靶材厚度：3～6mm；

1.5、進(jìn)氣系統(tǒng)：2路轉(zhuǎn)子流量計(jì)進(jìn)氣，

1.6、電源要求：AC 220V  50Hz  10A

1.7、氣體要求：氬氣--純度99.9%(樣品有特殊要求時(shí)使用高純)

1.8、冷卻要求：靶體水冷，濺射電源風(fēng)冷

1.9、體積重量：體積：L550mm×W680mm×H1480mm；約120kg