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            目錄:華儀行(北京)科技有限公司>>CIF材料表面處理儀器>>RIE反應(yīng)離子刻蝕機>> SPB5/plusRIE反應(yīng)離子刻蝕機

            RIE反應(yīng)離子刻蝕機
            • RIE反應(yīng)離子刻蝕機
            • RIE反應(yīng)離子刻蝕機
            • RIE反應(yīng)離子刻蝕機
            參考價 面議
            具體成交價以合同協(xié)議為準
            參考價 面議
            具體成交價以合同協(xié)議為準
            • 品牌 CIF
            • 型號 SPB5/plus
            • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
            • 所在地 北京市
            屬性

            >

            更新時間:2024-10-25 16:03:27瀏覽次數(shù):1530評價

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            CIF 推出 RIE 反應(yīng)離子刻蝕機,采用 RIE 反應(yīng)離子誘導激發(fā)方式,實現(xiàn)對材料表面各向異性的微結(jié)構(gòu)刻蝕。特別適合于大學、科研院所,微電子、半導體企業(yè)實驗室進行介質(zhì)刻蝕、硅刻蝕、金屬刻蝕等方面研究。使用成本低,性價比高,易維護,處理快速高效。RIE反應(yīng)離子刻蝕機適用于所有的基材及復(fù)雜的幾何構(gòu)形進行 RIE 反應(yīng)離子刻蝕。
            CIF 推出 RIE 反應(yīng)離子刻蝕機,采用 RIE 反應(yīng)離子誘導激發(fā)方式,實現(xiàn)對材料表面各向異性的微結(jié)構(gòu)刻蝕。特別適合于大學、科研院所,微電子、半導體企業(yè)實驗室進行介質(zhì)刻蝕、硅刻蝕、金屬刻蝕等方面研究。使用成本低,性價比高,易維護,處理快速高效。RIE反應(yīng)離子刻蝕機適用于所有的基材及復(fù)雜的幾何構(gòu)形進行 RIE 反應(yīng)離子刻蝕。
            具體包括:
            ◆ 介電材料(SiO2、SiNx 等)
            ◆ 硅基材料(Si,a-Si,poly Si)
            ◆  III-V 材料(GaAs、InP、GaN 等)
            ◆ 濺射金屬(Au、Pt、Ti、Ta、W 等)
            ◆ 類金剛石(DLC)
             應(yīng)用領(lǐng)域:

            RIE反應(yīng)離子刻蝕機主要用于微電子芯片、太陽能電池、生物芯片、顯示器、光學、通訊等領(lǐng)域的器件研發(fā)和制造。

            產(chǎn)品特點

            ◆  7 寸彩色觸摸屏中英文互動操作界面,自動控制監(jiān)測工藝參數(shù)狀態(tài),20 個配方程序,工藝數(shù)據(jù)可存儲追溯。

            ◆  PLC 工控機控制整個清洗過程,手動、自動兩種工作模式。

            ◆  真空艙體、全真空管路系統(tǒng)采用 316 不銹鋼材質(zhì),耐腐蝕無污染。

            ◆  采用防腐數(shù)字流量計,  實現(xiàn)對氣體輸入精準控制。標配雙路氣體輸送系統(tǒng), 可選多氣路氣體輸送系統(tǒng), 可輸入氧氣、氬氣、 氮氣、四氟化碳、氫氣或混合氣等氣體。

            ◆  采用花灑式多孔進氣方式,改變單孔進氣不均勻問題。

            ◆  HEPA 高效過濾,氣體返填吹掃,防止二次污染。

            ◆  符合人體功能學的 60 度傾角操作界面設(shè)計,操作方便,界面友好。

            ◆  采用頂置真空艙,上開蓋設(shè)計,下壓式鉸鏈開關(guān)方式。

            ◆  上置式 360 度水平取放樣品設(shè)計,符合人體功能學,操作更方便。

            ◆  有效處理面積大,可處理最大直徑 154mm 晶元硅片。

            ◆  安全保護,艙門打開,自動關(guān)閉電源,機器運行、停止提示。

            技術(shù)參數(shù)

            型號

            RIE200

            RIE200plus

            艙體內(nèi)尺寸

            H38xΦ260mm

            H38xΦ260mm

            艙體容積

            2L

            2L

            射頻電源

            40KHz

            13.56MHz

            電極

            不銹鋼氣浴 RIE 電極,  Φ200mm

            不銹鋼氣浴 RIE 電極,  Φ200mm

            匹配器

            自動匹配

            自動匹配

            刻蝕方式

            RIE

            RIE

            射頻功率

            0-600W 可調(diào)(可選 0-1000W)

            0-300W 可調(diào)(可選 0-600W)

            氣體控制

            質(zhì)量流量計(MFC)(標配雙路,可選多路)流量范圍 0-500SCCM(可調(diào))

            工藝氣體

            Ar、N ?、O ?、H ?、CF4、CF4+ H2、CHF3 或其他混合氣體等(可選)

            最大處理尺寸

            Φ154mm

            產(chǎn)品尺寸

            L520xW600xH420mm

            包裝尺寸

            L700xW580xH490mm

            時間設(shè)定

            9999 秒

            真空泵

            抽速約 8m3/h

            氣體穩(wěn)定時間

            1 分鐘

            極限真空

            1Pa

            電源

            AC220V 50-60Hz,802(1202)502(802)W 所有配線符合《低壓配電設(shè)計規(guī)范

            GB50054-95》、《低壓配電裝置及線路設(shè)計規(guī)范》等國標標準相關(guān)規(guī)定。

            整機重量

            38kg


            備注:
            可選:1、冷卻循環(huán)水器:溫度控制范圍 -20-100℃;


                                  2、分子泵:分子泵抽速 85L/s(N2)極限真空:LF<8*10-6Pa,CF<8*10-7Pa



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