腸粘附性大腸桿菌核酸檢測(cè)試劑盒

廣州健侖生物科技有限公司

產(chǎn)品規(guī)格：48T/盒；

 保存條件：避光 -20度 保存。

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腸粘附性大腸桿菌核酸檢測(cè)試劑盒

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【市場(chǎng)部】    楊永漢

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用具嘅準(zhǔn)備：
180度燒器皿：除埋錐支、量筒、鑷子、刀片等4個(gè)鐘。
電泳槽：清洗梳同電泳槽，并用雙氧水浸泡過(guò)夜，用DEPC水沖洗，糠士啤。
處理DEPC水（2 L）士啤。
2.用RNAZaP抹得甩用具表面嘅RNase酵素污染
用RNAZap擦洗梳，電泳槽，刀片等，跟住用DEPC水沖洗二次，抹得甩RNAZap。
3.制膠
1）稱羅0.36mg瓊脂糖加除埋錐瓶中，加32.4mlDEPC水之后，微波爐加熱至瓊脂糖*熔解。60℃空氣浴戥頭溶液（使加DEPC水補(bǔ)充蒸發(fā)嘅水分）。
2）喺通風(fēng)嘢食中加3.6ml嘅10＊Denaturing Gel buffer，細(xì)仔振蕩撈勻。
注意盡量逃過(guò)惹氣泡。
3）將熔膠倒入制膠板中，插上梳。
如果膠溶液上存在氣泡，可以用熱嘅玻璃叻或者其他方法抹得甩，或者將氣泡推到膠嘅邊緣。注：膠嘅厚度唔超過(guò)0.5cm。
4）膠喺室溫下*凝固之后，將膠轉(zhuǎn)移到電泳槽中，加1x MOPS Gel Running buffer打過(guò)膠面約1cm，因住撍梳。（配制250ml 1＊MOPS Gel Running buffer，喺電泳過(guò)程中補(bǔ)充蒸發(fā)嘅buffer。）
5）檢查點(diǎn)樣窿。
4. RNA樣品嘅制備
喺RNA樣品中加3倍體積嘅formaldehyde load dye同適當(dāng)嘅EB（終濃度為10ug/ml）。撈勻之后，65℃空氣浴15min。短暫低波離心后，即刻放置于雪上5min。
5.電泳：
1）將RNA樣品小心加到點(diǎn)樣窿中。
2）喺5V/cm下走膠（5x14cm）。喺電泳過(guò)程中，每隔30min短暫閘住電泳，拎出膠，撈勻兩極嘅電泳液后繼續(xù)電泳。當(dāng)膠中嘅溴紛藍(lán)（500bp）近膠嘅邊緣時(shí)終止電泳。
3）紫之外，燈下，檢驗(yàn)電泳情況，并用間尺量測(cè)18S、28S、溴紛藍(lán)夠時(shí)候呀窿嘅腳。
注意唔好畀膠喺紫之外，燈下曝光太耐。

道具の準(zhǔn)備：
180度の焼き器：三角錐瓶、シリンダー、毛抜き、刃などよんしよ時(shí)間。
電気泳動(dòng)槽：洗浄櫛や電気泳動(dòng)槽を液體に浸して、過(guò)酸化水素で一夜にして、DEPC水で洗い流して、乾燥予備。
処理DEPC水（にL）予備。
に. RNAZaPで表面のRNase酵素汚染除去用具
RNAZapで洗うくし、電気泳動(dòng)槽、刃などで、そしてDEPC水洗浄二度、除去RNAZap。
3 .ゴム
いち）と取り0.36mgアガロース加入三角錐瓶、加入32.4mlDEPC水の後、電子レンジ加熱アガロースを*に溶解。ろくじゅう℃空気浴平衡溶液（要加DEPC水の蒸発水分補(bǔ)充）。
通風(fēng)の廚に）に加入して3.6mlのじゅう＊Denaturingジェルbuffer、そっと振動(dòng)混合。
泡が出ないように注意しましょう。
さん）メルトを制単式で挿し櫛。
液體の溶液に気泡があるならば、熱いガラスの棒やその他の方法で取り除くことができて、あるいは気泡をゴムの端まで押します。注：テープの厚さを超えることができない0.5cm。
4）の接著剤、室溫で*に凝固した後は、接著剤に移して電気泳動(dòng)槽の中、加入1x MOPSジェルRunning bufferゴム面を約1 cm、気を抜いて櫛。（配合250 ml 1＊MOPSジェルRunning buffer、電気泳動(dòng)の過(guò)程の中で補(bǔ)充蒸発のbuffer）。
5）穴をチェックします。
4 . RNAサンプルの仕様
RNAサンプルでさんに倍の體積formaldehyde load dyeと適切なEB（zui終濃度を10ug / ml）。混合後、65℃15min空気浴。短い低速遠(yuǎn)心後、直ちに于冰に置い5min。
5 .電泳：
いち）注意點(diǎn)のように穴をRNAサンプル。
に）5 V / cmで走る接著剤（5x14cm）。電気泳動(dòng)の過(guò)程の中で、30min短い停止ごとに電気泳動(dòng)、取り出し接著剤、混ぜ両極の電気泳動(dòng)液に続いて電気泳動(dòng)。その中の臭素接著剤と藍(lán)（500bp）に接著剤の縁に終瞭する電気泳動(dòng)。
さん）と紫外線燈の下で、検査電気泳動(dòng)狀況を物差しで測(cè)定18S、28S、臭素と靑い時(shí)間な穴の距離。
UVランプの下で露出しすぎないように気をつけましょう。