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當(dāng)前位置：上海富瞻環(huán)?？萍加邢薰?/a>>>物理特性儀器>>測厚儀>> MProbe NIR反射膜厚儀
| 參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號MProbe NIR
品 牌其他品牌
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地上海市
更新時間：2023-05-22 17:02:09瀏覽次數(shù)：454次
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| 產(chǎn)地類別 | 進口 | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子/電池,制藥/生物制藥 |
產(chǎn)品品牌：Semiconsoft
產(chǎn)品型號：MProbe NIR
采用近紅外光譜(NIR)的測厚儀可以用于測量一些可見光和紫外光無法使用的應(yīng)用領(lǐng)域，比如在可見光范圍內(nèi)有吸收的太陽能薄膜(CIGS, CdTe)可以快速的測量。
測量范圍: 100 nm -200um
波長范圍: 900 nm -2500 nm
適用于實時在線測量，多層測量，非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等
測量指標：薄膜厚度，光學(xué)常數(shù)
界面友好: 一鍵式測量和分析。
實用的工具：曲線擬合和靈敏度分析，背景和變形校正，連接層和材料，多樣品測量，動態(tài)測量和產(chǎn)線批量處理。
（MProble NIR薄膜測厚儀系統(tǒng)示 ）
案例1，73nm SiN氮化硅薄膜的測量
硅晶圓反射率，測量時間10ms
使用Tauc-Lorentz模型，測量SiN薄膜的n和k值
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