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當(dāng)前位置：上海富瞻環(huán)?？萍加邢薰?/a>>>物理特性儀器>>試驗(yàn)機(jī)>> 工藝與材料表征系統(tǒng) TriboLab CMP
| 參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號(hào)
品 牌Bruker/布魯克
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地上海市
更新時(shí)間：2024-05-22 18:54:09瀏覽次數(shù)：327次
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| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 儀器種類 | 多功能摩擦磨損試驗(yàn)機(jī) |
|---|
工藝與材料表征系統(tǒng) TriboLab CMP
產(chǎn)地類別：進(jìn)口
儀器種類：多功能摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)
儀器尺寸：394mm（寬）x 610mm（深）x 775mm（高）
最大摩擦力：200N
摩擦力分辨率：10mN
最高溫度：1000℃
TriboLab CMP 利用其前身產(chǎn)品 （Bruker CP-4） 超過 20 年的 CMP 領(lǐng)域?qū)I(yè)知識(shí)，為業(yè)界的 TriboLab 平臺(tái)帶來(lái)了一套完整的功能?；诒咎自O(shè)備產(chǎn)生的高精度和高可重復(fù)性使得在整個(gè) CMP 流程中能夠進(jìn)行高效的鑒別、檢查和連續(xù)功能測(cè)試。TriboLab CMP 是市場(chǎng)上能夠提供廣泛的拋光壓力 （0.05-50 psi）、速度（1 至 500 rpm）、摩擦、聲發(fā)射和表面溫度測(cè)量的工藝開發(fā)工具，可準(zhǔn)確、完整地描述 CMP 工藝和耗材。
布魯克的TriboLab CMP工藝和材料表征系統(tǒng)是專為晶圓拋光工藝而設(shè)計(jì)，是具有可靠、靈活和高效的臺(tái)式設(shè)備。
重現(xiàn)全尺寸晶圓拋光工藝條件，無(wú)需在生產(chǎn)設(shè)備上停機(jī)
提供的測(cè)量可重復(fù)性和細(xì)節(jié)檢測(cè)
允許在小樣品上進(jìn)行測(cè)試，比全晶圓測(cè)試節(jié)省大量成本
比市場(chǎng)上任何其他系統(tǒng)提供更多的瞬態(tài)拋光過程的參數(shù)
從接觸拋光盤開始直至整個(gè)測(cè)試過程都能收集數(shù)據(jù)
通過更完整、更詳細(xì)的數(shù)據(jù)實(shí)現(xiàn)早期流程開發(fā)決策
拋光任何平面材料，幾乎能使用任何修正盤，任何拋光液，和任何拋光墊
輕松使用 100 mm 以下的小尺寸晶圓
可同時(shí)安裝多個(gè)樣品，測(cè)試更靈活
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