粒徑分析儀是一種測(cè)量、呈現(xiàn)和報(bào)告特定粒子或者液滴群粒徑分布的分析儀。粒徑分析儀在過程開發(fā)以及顆粒系統(tǒng)質(zhì)量控制方面起到重要作用，可建立起高效的過程和取得高質(zhì)量的最終產(chǎn)品。
以往，采用取樣與離線粒徑分析儀（激光衍射、動(dòng)態(tài)光散射、沉淀或篩余分析）進(jìn)行產(chǎn)品質(zhì)量控制。但是無論是常見的取樣難題、對(duì)于加快過程開發(fā)的更大壓力，還是對(duì)于一步到位過程的更大需求，均需要開發(fā)出原位粒徑分析儀。由于能夠測(cè)量過程中自然存在的顆粒，因此極大地提高了了解、優(yōu)化和控制他們的顆粒和液滴系統(tǒng)的能力。
采用FBRM技術(shù)的ParticleTrack
實(shí)時(shí)粒徑與粒數(shù)分析
采用FBRM®（聚焦光束反射測(cè)量）技術(shù)的ParticleTrack直接插入反應(yīng)體系中，在全過程濃度下實(shí)時(shí)測(cè)量顆粒數(shù)量和粒徑。隨著實(shí)驗(yàn)條件的變化，科學(xué)家可以持續(xù)監(jiān)控液滴、顆粒和顆粒結(jié)構(gòu)，為獲得具有所需屬性的一致顆粒提供確認(rèn)信息。基于探頭的ParticleTrack儀器采用FBRM技術(shù)，這是原位過程測(cè)量的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。
采用 FBRM 技術(shù) 的 ParticleTrack G400 是直接插入到實(shí)驗(yàn)室反應(yīng)器中的探頭式儀器，以便在全工藝過程濃度下實(shí)時(shí)追蹤顆粒粒徑及粒數(shù)變化。 隨著實(shí)驗(yàn)條件的變化，持續(xù)監(jiān)測(cè)顆粒、顆粒結(jié)構(gòu)和液滴為科學(xué)家提供足夠證據(jù)以獲得具有所需屬性的一致顆粒。
顆粒粒徑與粒數(shù)直接影響多相工藝中的性能，包括結(jié)晶、乳化和絮凝。 通過實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)顆粒粒徑與粒數(shù)，科學(xué)家能夠使用基于證據(jù)的方法自信地了解、優(yōu)化和放大實(shí)驗(yàn)過程。
在為離線分析進(jìn)行采樣和制備時(shí)，顆?？赡馨l(fā)生變化。 通過追蹤過程中自然存在的顆粒的粒徑與粒數(shù)的變化，科學(xué)家能夠安全且無延遲地了解工藝過程 – 甚至是在極溫度與壓力條件下。
隨著實(shí)驗(yàn)條件的變化，通過連續(xù)監(jiān)測(cè)顆粒，能夠確定過程參數(shù)對(duì)顆粒粒徑和粒數(shù)的影響。 這種特的信息可用于設(shè)計(jì)能夠持續(xù)提供具有優(yōu)化特性的顆粒的過程。
采用 FBRM 技術(shù)的 ParticleTrack G600 是直接插入到大型容器或管道中的堅(jiān)固探頭式儀器，以便在全工藝過程濃度下實(shí)時(shí)追蹤顆粒粒徑及粒數(shù)變化。 隨著過程參數(shù)的變化，持續(xù)監(jiān)測(cè)顆粒、顆粒結(jié)構(gòu)和液滴允許工程師有效地監(jiān)控、解決并改進(jìn)過程。
顆粒粒徑與粒數(shù)直接影響多相工藝中的性能，包括：
通過在全生產(chǎn)規(guī)模下實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)顆粒粒徑與粒數(shù)，工程師可以監(jiān)控過程的一致性并確定進(jìn)行過程改進(jìn)的策略。
在為離線分析進(jìn)行采樣和制備時(shí)，顆粒可能發(fā)生變化。 通過追蹤過程中自然存在的顆粒粒徑與粒數(shù)的變化，工程師能夠在全生產(chǎn)規(guī)模下安全且無延遲地了解工藝過程 – 甚至是在端溫度與壓力條件下。
隨著操作條件的變化，通過連續(xù)監(jiān)測(cè)顆粒，能夠確定過程性能不佳的根本原因。 操作人員可以快速識(shí)別過程擾動(dòng)，工程師可以利用在全生產(chǎn)規(guī)模下獲得的證據(jù)，重新設(shè)計(jì)具有挑戰(zhàn)性的過程并加以改進(jìn)。
靈活的安裝系統(tǒng)允許在各種溫度和壓力下，使用標(biāo)準(zhǔn)法蘭、套管和球閥在反應(yīng)器或管道中安裝探頭。 額定為 ATEX 和 I 級(jí) 1 區(qū)標(biāo)準(zhǔn)的可選吹掃外殼確保儀器可以在易爆場所進(jìn)行安全安裝。
實(shí)驗(yàn)室中 ParticleTrack G400 的常見應(yīng)用包括：
結(jié)晶工藝開發(fā)
表征乳化和液滴系統(tǒng)
優(yōu)化顆粒粒徑分布
ParticleTrack G400 的主要特征：
設(shè)計(jì)緊湊，具有便攜性，占用較小空間的實(shí)驗(yàn)室
探頭可互換，可用于范圍廣泛的實(shí)驗(yàn)室規(guī)模（10mL 至 2L）
與 OptiMax 和 EasyMax 合成工作站無縫集成，進(jìn)行較佳的實(shí)驗(yàn)設(shè)置
iC FBRM 軟件，進(jìn)行快速、直觀的顆粒數(shù)據(jù)分析
ParticleTrack G400 比以前的梅特勒托利多 Lasentec FBRM 技術(shù)（S400 和 D600）有了重大改進(jìn)。
規(guī)格 - ParticleTrack G400
測(cè)量范圍
| 0.5 – 2000μm
0.5-2000um
|
溫度范圍（主機(jī)/現(xiàn)場裝置）
| 5 至35°C |
主機(jī)說明
| 實(shí)驗(yàn)室主機(jī) |
基座尺寸 (長x高x寬)
| 492 mm x 89 mm x 237 mm |
認(rèn)證
| CE 認(rèn)證， 1 類激光， NRTL 認(rèn)證， CB Scheme 認(rèn)證 |
電源要求
| 100-240VAC, 50/60Hz, 1.2A |
適用于
| 實(shí)驗(yàn)室： EasyMax/OptiMax |
軟件
| iC FBRM |
掃描系統(tǒng)
| 電子掃描儀 |
掃描速度
| 2m/s （19mm探頭為1.2m/s） |
弦長選擇方法(CSM)
| Primary（精細(xì)）和 Macro（粗糙） |
探頭直徑
| 19mm探頭
9.5mm
14/9.5mm
|
探頭浸濕長度
| 400mm （用于 19mm 探頭）
206mm （用于 14/9.5mm 探頭）
91mm （用于 9.5mm 探頭）
|
探頭浸濕合金
| C22 |
測(cè)量視窗
| 藍(lán)寶石 |
標(biāo)準(zhǔn)窗口封條
| Kalrez® （標(biāo)準(zhǔn) 19mm）
TM（標(biāo)準(zhǔn) 14/9.5 ）
TM（標(biāo)準(zhǔn)9.5,14/9.5）
|
探頭/窗口選件
| TM 窗口（用于19mm 探頭的選件） |
額定壓力（探頭）
| 高達(dá) 100barg （自定義）
3barg （標(biāo)準(zhǔn)）
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額定溫度（探頭）
| +10 至 90°C （標(biāo)準(zhǔn)）
-10 至 90°C （Kalrez 和清洗）
-80 至 90°C （TM 和清洗）
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導(dǎo)管長度
| 3m [9.8ft] |
空氣要求
| 清洗歧管的最大出口壓力： 0.8barg [12psig]
清洗歧管的最大入口壓力： 8.6barg [125 psig]
低流量清洗（使用以避免冷凝物）
最大 流量： 5NL/min [0.2SCFM]
|
ParticleTrack型號(hào)
| ParticleTrack G400 |
除以上標(biāo)準(zhǔn)配置外，我們也可為您提供定制服務(wù)
實(shí)時(shí)研究顆粒粒徑與粒數(shù)
科學(xué)家將 ParticleTrack 探頭直接插入到過程流體中，以長時(shí)間連續(xù)監(jiān)測(cè)顆粒粒徑與粒數(shù)，而無需采樣。 這種獨(dú)的信息成為有效了解涉及晶體、顆粒和液滴的過程的基礎(chǔ)。
借助 ParticleTrack將過程與顆粒系統(tǒng)相關(guān)聯(lián)
，科學(xué)家可以定期確定過程參數(shù)如何影響顆粒系統(tǒng)。 可以確定過程參數(shù)對(duì)生長、團(tuán)聚、破損和形狀變化等機(jī)制的影響，從而可以使用基于證據(jù)的方法對(duì)過程進(jìn)行優(yōu)化和改進(jìn)。
創(chuàng)建符合目的的顆粒系統(tǒng)
科學(xué)家使用 ParticleTrack 來確定如何穩(wěn)定得到所需粒徑和粒數(shù)的顆粒產(chǎn)品。 在研發(fā)、中試到投入生產(chǎn)的過程中，通過選擇較佳的過程參數(shù)，科學(xué)家可以以較低的總成本快速向市場提供高品質(zhì)的顆粒產(chǎn)品。
監(jiān)測(cè)并糾正過程偏差
ParticleTrack 用于對(duì)生產(chǎn)中的既定過程進(jìn)行監(jiān)測(cè)、故障排除和改進(jìn)。 可以安全地監(jiān)測(cè)難以采樣的復(fù)雜過程，確保一致地生產(chǎn)質(zhì)量盡可能較高的顆粒。
具有 FBRM 技術(shù)的 ParticleTrack G400 未針對(duì)存在爆炸危險(xiǎn)的位置進(jìn)行評(píng)級(jí)。
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