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            目錄:束蘊(yùn)儀器(上海)有限公司>>少子壽命測試儀(MDP)>>單晶和多晶硅片壽命測量儀(MDPmap)>> MDPmap-1MDPmap單晶和多晶硅片壽命測量儀

            MDPmap單晶和多晶硅片壽命測量儀
            • MDPmap單晶和多晶硅片壽命測量儀
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            參考價(jià) 1000000
            訂貨量 ≥1
            具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
            1000000
            ≥1
            具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
            • 品牌 Freiberg Instruments
            • 型號(hào) MDPmap-1
            • 廠商性質(zhì) 代理商
            • 所在地 上海市
            屬性

            >

            更新時(shí)間:2025-04-24 08:29:43瀏覽次數(shù):2173評(píng)價(jià)

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            MDPmap單晶和多晶硅片壽命測量儀被設(shè)計(jì)成一個(gè)緊湊的臺(tái)式非接觸電學(xué)表征工具,用于離線生產(chǎn)控制或研發(fā),在穩(wěn)態(tài)或短脈沖激勵(lì)(μ-PCD)下,在一個(gè)寬的注入范圍內(nèi)測量參數(shù),如載流子壽命、光導(dǎo)率、電阻率和缺陷信息。自動(dòng)化的樣品識(shí)別和參數(shù)設(shè)置允許輕松適應(yīng)各種不同的樣品,包括外延層和經(jīng)過不同制備階段的晶圓,從原生晶圓到高達(dá)95%的金屬化晶圓。

            MDPmap:     

            單晶和多晶硅片壽命測量設(shè)備用于復(fù)雜的材料研究和開發(fā)。         

                   

                    

            特點(diǎn):        

              靈敏度:高的靈敏度,用于可視化迄今為止不可見的缺陷和調(diào)查外延層的情況        

            ◇  測量速度:6英寸硅片<5min,分辨率為1mm        

            ◇  壽命范圍:20ns到幾十ms        

            ◇  污染測定:源于坩堝和設(shè)備的金屬(鐵)污染        

            ◇  測量能力:從切割好的硅片到加工的樣品        

            ◇  靈活性:固定的測量頭可以與外部激光器連接并觸發(fā)        

            ◇  可靠性:模塊化和緊湊型臺(tái)式儀器,可靠性更高,正常運(yùn)行時(shí)間>99%        

            ◇  重復(fù)性:> 99%        

            ◇  電阻率:電阻率測繪,無需頻繁校準(zhǔn)        

                   
            技術(shù)規(guī)格:         

            樣品尺寸                        

            直徑達(dá)300mm(標(biāo)準(zhǔn)臺(tái)),直徑達(dá)450mm(定制),*小為5 x 5mm                        

            壽命測量范圍 

            20ns至幾十ms以上 

            電阻率                        

            0.2 - >103Ω·cm,p-型/n-型                        

            樣品材料                        

            硅片、外延層、部分或加工的硅片、化合物半導(dǎo)體及更多材料                        

            可測量的特性

            壽命 - μ-PCD/MDP (QSS), 光導(dǎo)率 

            激發(fā)波長                        

            選擇從355nm到1480nm的*多四個(gè)不同波長。980nm(默認(rèn))                        

            尺寸規(guī)格                        

            體積:680 x 380 x 450毫米;重量:約65公斤                        

            電源                        

            100 - 250V, 50/60 Hz, 5 A                        










            MDPmap單晶和多晶硅片壽命測量儀 - 細(xì)節(jié):       

            ◇  用于研發(fā)或生產(chǎn)監(jiān)控的靈活測繪工具      

            ◇  MDPmap被設(shè)計(jì)成一個(gè)緊湊的臺(tái)式非接觸電學(xué)表征工具,用于離線生產(chǎn)控制或研發(fā),在穩(wěn)態(tài)或短脈沖激勵(lì)(μ-PCD)下,在一個(gè)寬的注入范圍內(nèi)測量參數(shù),如載流子壽命、光導(dǎo)率、電阻率和缺陷信息。自動(dòng)化的樣品識(shí)別和參數(shù)設(shè)置允許輕松適應(yīng)各種不同的樣品,包括外延層和經(jīng)過不同制備階段的晶圓,從原生晶圓到高達(dá)95%的金屬化晶圓。        

            ◇  MDPmap的主要優(yōu)點(diǎn)是它的高度靈活性,例如,它允許集成多達(dá)四個(gè)激光器,用于測量從較低到高的注入水平的壽命,或通過使用不同的激光波長提取深度信息。包括偏置光設(shè)施,以及μ-PCD或穩(wěn)態(tài)注入條件的選項(xiàng)??梢杂貌煌牡貓D進(jìn)行客戶定義的計(jì)算,也可以輸出主要數(shù)據(jù)進(jìn)行進(jìn)一步評(píng)估。對(duì)于標(biāo)準(zhǔn)的計(jì)量任務(wù),預(yù)定義的標(biāo)準(zhǔn)只需按下一個(gè)按鈕就能進(jìn)行常規(guī)測量。            


             附加選項(xiàng):        

                   

            ◇  光斑大小的變化       

            ◇  電阻率測量(晶圓)        

            ◇  方塊電阻        

            ◇  背景/偏光        

            ◇  反射測量(MDP)        

            ◇  太陽能電池的LBIC(擴(kuò)散長度測量)        

            ◇  偏壓MDP        

            ◇  參考晶圓        

            ◇  硅的內(nèi)部/外部鐵制圖        

            ◇  集成加熱臺(tái)        

            ◇  靈活的激光器配置 


            MDPmap單晶和多晶硅片壽命測量儀測量案例

                            

                            

            鈍化多晶硅的壽命圖                

            多晶硅的鐵污染圖            

                            

                            

            單晶硅的硼氧圖            單晶硅的缺陷密度圖            
                      
            碳化硅外延片(>10μm)-少數(shù)載流子壽命mapping圖(平均壽命τ=0.36μs)            
                        
            高阻硅片(>10000Ω·cm)-少數(shù)載流子壽命mapping圖            
                        
            非鈍化硅外延片(20μm)-少數(shù)載流子壽命mapping圖            


            MDPmap 應(yīng)用:

            鐵濃度測定        

            鐵的濃度的精確測定是非常重要的,因?yàn)殍F是硅中豐富也是有害的缺陷之一。因此,有必要盡可能準(zhǔn)確和快速地測量鐵濃度,具有非常高的分辨率且**是在線的        

            更多......        

                 

            摻雜樣品的光電導(dǎo)率測量        

            B和P的摻雜在微電子工業(yè)中有許多應(yīng)用,但到目前為止,沒有方法可以在不接觸樣品和由于必要的退火步驟而改變其性質(zhì)的情況下檢查這些摻雜的均勻性。迄今為止的困難……        

            更多......        

                   

                   

            陷阱濃度測定        

            陷阱中心是非常重要的,為了了解材料中載流子的行為,也可以對(duì)太陽能電池產(chǎn)生影響。因此,需要以高分辨率測量這些陷阱中心的陷阱密度活化能。        

            更多......        

                   

                   

            注入相關(guān)測量        

            少數(shù)載流子壽命強(qiáng)烈依賴于注入(過剩余載流子濃度)。從壽命曲線的形狀和高度可以推斷出摻雜復(fù)合中心俘獲中心的信息。        

            更多......        

                  


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