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            目錄:束蘊(yùn)儀器(上海)有限公司>>表面分析>>離子源系統(tǒng)>> GCIB 10S離子源系統(tǒng)

            離子源系統(tǒng)
            • 離子源系統(tǒng)
            • 離子源系統(tǒng)
            參考價(jià) 面議
            具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
            參考價(jià) 面議
            具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
            • 品牌 IONOPTIKA
            • 型號(hào) GCIB 10S
            • 廠商性質(zhì) 代理商
            • 所在地 上海市
            屬性

            供貨周期:現(xiàn)貨

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            更新時(shí)間:2025-03-19 13:17:05瀏覽次數(shù):3221評(píng)價(jià)

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            供貨周期 現(xiàn)貨
            GCIB-10S 離子源系統(tǒng)是一種高性能10千伏氣體團(tuán)簇離子束,用于快速、低損傷濺射和更高質(zhì)量的表面分析。GCIB 10S提供了大量有用的功能,包括實(shí)時(shí)集群大小測(cè)量和內(nèi)置樣本電流成像系統(tǒng),以幫助您充分利用實(shí)驗(yàn)。

             

             

            簡(jiǎn)介

            GCIB-10S 離子源系統(tǒng)是一種高性能10千伏氣體團(tuán)簇離子束,用于快速、低損傷濺射和更高質(zhì)量的表面分析。

            GCIB 10S提供了大量有用的功能,包括實(shí)時(shí)集群大小測(cè)量和內(nèi)置樣本電流成像系統(tǒng),以幫助您充分利用實(shí)驗(yàn)。 

            GCIB-10S 離子源系統(tǒng)具有完整的泵送系統(tǒng)和單獨(dú)軟件,是一種栓接式升級(jí),將集束束濺射的力量引入現(xiàn)有的真空儀器,如XPS、SEM和SIMS。

                   

             

            主要參數(shù)


             

            主要應(yīng)用                 濺射            
            光斑尺寸                 250 µm                
            掃描范圍                 7.5 x 7.5 mm                
            能耗范圍                 1 – 10 kV                
            電流范圍                 60 nA                
            法蘭至機(jī)頭長(zhǎng)度                 143 mm               
            推薦工作距離                 50 mm                
            電源裝置                 3U x 19’’ rack mountable unit    
            電源要求                 110-240VAC 13A 50/60Hz                
            軟件要求                         PC running Windows 10 or later                   
            集成法蘭規(guī)格                 NW 63 CF                

             

             

             











            特點(diǎn):  

             

            ◇  10kV氬團(tuán)簇離子源,可選擇Ar1至>Ar3000的團(tuán)簇;

            ◇  實(shí)時(shí)集群測(cè)量和調(diào)整;

            ◇  采樣電流成像;

            ◇  光斑尺寸大,掃描范圍寬,可均勻去除材料;

            ◇  易于安裝在許多高真空儀器上;

             

            ◇  單獨(dú)軟件和基于web套接字的API,用于與第三方軟件集成

             

             

             

            應(yīng)用技術(shù): 

             

            GCIB 10S可去除不定碳和其他表面污染,而不會(huì)損壞基材, 同時(shí)還可對(duì)有機(jī)物和聚合物等軟材料進(jìn)行無(wú)損傷深度剖析。

            右圖顯示了分別使用Ar1和Ar2000蝕刻原始PET表面前后的C 1s 峰值。數(shù)據(jù)清楚地顯示了單原子Ar1束(紅色)造成的化學(xué)損傷,而光譜在暴露于Ar2000束(藍(lán)色)后幾乎保持不變

                     

                           


             

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