動態(tài)二次離子質(zhì)譜儀(Dynamic Secondary Ion Mass Spectrometry，簡稱D-SIMS)是一種用于固體材料成分分析的高靈敏度表面分析技術。
ADEPT-1010 專為淺層半導體注入和絕緣薄膜的自動分析而設計，是大 多數(shù)半導體開發(fā)和支持實驗室的常用工具。通過優(yōu)化的二次離子收集光學系統(tǒng) 和超高真空設計，提供了薄膜結構檢測中的摻雜組分和常見雜質(zhì)所需的靈敏度。
工作原理：
動態(tài)二次離子質(zhì)譜儀通過使用聚焦的高能量一次離子束(如O??、Cs?、Ar?等)轟擊樣品表面，使樣品表面的原子或分子被濺射出來。在這個過程中，部分濺射出的粒子會帶電，形成二次離子。這些二次離子被收集并傳輸?shù)劫|(zhì)譜儀中進行分析，通過質(zhì)譜分析可以確定樣品的化學組成和元素分布。
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