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            蘇州福佰特儀器科技有限公司
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            當前位置:蘇州福佰特儀器科技有限公司>>X射線衍射儀>> XRD衍射儀X射線衍射儀/全晶相辨別晶體分析XRD

            X射線衍射儀/全晶相辨別晶體分析XRD

            參  考  價:298000 - 358000 /件
            具體成交價以合同協(xié)議為準
            • 型號

              XRD衍射儀

            • 品牌

              SKYRAY/天瑞儀器

            • 廠商性質

              生產商

            • 所在地

              蘇州市

            更新時間:2023-08-19 11:40:44瀏覽次數:733次

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            發(fā)生器功率 600WkW 價格區(qū)間 20萬-50萬
            角度偏差 <±0.02° 儀器種類 探測器及其他設備
            應用領域 地礦,能源,電子/電池,制藥/生物制藥,綜合 重復性 正比計數探測器、SDD探測器
            最小步進角度 -3° - +150°
            X射線衍射儀/全晶相辨別晶體分析XRD在X射線光束通過索拉狹縫、發(fā)散狹縫照射在樣品上,樣品臺位于測角儀中心,基于反射幾何θs-θd,X射線光束在滿足布拉格定律時,在特定的方向上發(fā)生衍射現象,經過防散射狹縫、索拉狹縫、接收狹縫到達X射線探測器上,最終經過數據處理系統(tǒng)在分析軟件上展現出采集的衍射圖譜。

            X射線衍射儀/全晶相辨別晶體分析XRDX射線衍射儀在X射線光束通過索拉狹縫、發(fā)散狹縫照射在樣品上,樣品臺位于測角儀中心,基于反射幾何θs-θd,X射線光束在滿足布拉格定律時,在特定的方向上發(fā)生衍射現象,經過防散射狹縫、索拉狹縫、接收狹縫到達X射線探測器上,最終經過數據處理系統(tǒng)在分析軟件上展現出采集的衍射圖譜。


            X射線衍射儀/全晶相辨別晶體分析XRD是公司自主研發(fā)的一款多功能粉末衍射分析儀器,其融合XRD和計算機軟件等多項技術,可快速對粉末、塊狀或薄膜等形態(tài)的樣品進行主要物相定性、定量分析、晶體結構分析、材料結構分析及結晶度測定,具有操作簡便、精度高、檢測速度快等特點,為材料研究、生物醫(yī)藥、礦物、塑料制品、半導體等眾多領域提供高精度的分析。

            X射線衍射(XRD)是一種理想的、非破壞性的、可應用于大部分類型樣品的無損分析方法!
            X射線衍射可用于晶相的確定,含量檢測以及原子結構的測定。樣品用量少,消除了可能產生的樣品物相被破壞和性質改變的風險。
            在實際應用中,對除X射線衍射外的其他方法,復雜組分樣品的測量一直是一個艱巨的挑戰(zhàn)。對于X射線衍射,衍射圖譜中所有的細節(jié)信息都是有價值的,且會被考慮到,并終使樣品表征充分。

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            儀器采用*技術制造,測角儀測角準確度與精確度均達到*水平。光源與探測器能長時間穩(wěn)定工作,保證衍射峰位、峰形和強度測量準確、精確。進行物相結構分析,包括:物相含量、晶粒大小判斷、結晶度、奧氏體含量、晶胞測定、二類應力計算、衍射線條指標化、物相結構等分析;薄膜材料分析,小角粒徑分析等。儀器包括高穩(wěn)定性X射線發(fā)生器、高精密測角儀、封閉正比探測器(或SDD探測器、或一維高速半導體陣列探測器)、數據處理軟件、相關應用軟件等。

            儀器特點
            長壽命X射線管:金屬陶瓷X射線管,具有散熱好、運行功率高(40kV×40mA)、使用壽命長特點
            高精密測角儀:衍射角驅動采用伺服電機驅動+光學編碼控制技術,具有定位準確、測量精度高
            測角儀內藏式設計,使儀器表現更整潔、美觀、大方,在衍射角度測量范圍內,衍射角度線性度小于0.02°
            拓寬衍射儀應用領域的附件齊全:高溫、低溫、多功能等衍射儀各種附件安裝實現“即插即用",軟件自動識別控制技術,方便操作人員對儀器的使用
            射線防護安全可靠:X射線散射線防護裝置更安全可靠,樣品測量時射線防護門自動禁止打開,雙重防護,任何情況下都能避免操作人員受到散射線輻射

            應用領域
            未知樣品中物相鑒定
            混合樣品中已知相定量分析
            晶體結構解析(Rievtveld分析)
            非常規(guī)條件下晶體變化(高低溫)
            薄膜物相、多層膜厚度、表面粗糙度、電荷密度
            金屬材料織構、應力分析


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