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            蘇州福佰特儀器科技有限公司
            中級(jí)會(huì)員 | 第5年

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            當(dāng)前位置:蘇州福佰特儀器科技有限公司>>鍍層厚度測(cè)試儀>> XRF膜厚儀XAD-μ柔性電路板鍍層厚度測(cè)試儀

            柔性電路板鍍層厚度測(cè)試儀

            參  考  價(jià):100000 - 215000 /件
            具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
            • 型號(hào)

              XRF膜厚儀XAD-μ

            • 品牌

              SKYRAY/天瑞儀器

            • 廠商性質(zhì)

              生產(chǎn)商

            • 所在地

              蘇州市

            更新時(shí)間:2023-10-26 12:46:12瀏覽次數(shù):500次

            聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 化工儀器網(wǎng)
            產(chǎn)地類別 國(guó)產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 10萬(wàn)-20萬(wàn)
            應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,電子/電池,航空航天,汽車(chē)及零部件,綜合 分辨率 140EV
            元素分析 硫(S)到鈾(U) 外觀尺寸 576(W)×495(D)×545(H)?mm
            樣品室尺寸 500(W)×350(D)×140(H)?mm
            柔性電路板鍍層厚度測(cè)試儀在柔性電路板、芯片封裝環(huán)節(jié)、晶圓微區(qū)的鍍層厚度和成分自動(dòng)測(cè)試分析中盡顯優(yōu)勢(shì)主要利用X射線全反射原理,從X射線管激發(fā)出來(lái)的X射線束在毛細(xì)玻璃管的內(nèi)壁以全反射的方式進(jìn)行傳輸,利用毛細(xì)玻璃管的彎曲來(lái)改變X射線的傳輸方向,從而實(shí)現(xiàn)X射線匯聚,同時(shí)將X射線的強(qiáng)度增加2~3個(gè)數(shù)量級(jí)。

            柔性電路板鍍層厚度測(cè)試儀

            柔性電路板鍍層厚度測(cè)試儀XRF應(yīng)用多導(dǎo)毛細(xì)管技術(shù),輕松應(yīng)對(duì)超小測(cè)量點(diǎn)薄涂層和極薄涂層的測(cè)量分析,在柔性電路板、芯片封裝環(huán)節(jié)、晶圓微區(qū)的鍍層厚度和成分自動(dòng)測(cè)試分析中盡顯優(yōu)勢(shì)。XAD-μ多導(dǎo)毛細(xì)聚焦XRF應(yīng)用多導(dǎo)毛細(xì)管技術(shù),輕松應(yīng)對(duì)超小測(cè)量點(diǎn)薄涂層和極薄涂層的測(cè)量分析,在柔性電路板、芯片封裝環(huán)節(jié)、晶圓微區(qū)的鍍層厚度和成分自動(dòng)測(cè)試分析中盡顯優(yōu)勢(shì)主要利用X射線全反射原理,從X射線管激發(fā)出來(lái)的X射線束在毛細(xì)玻璃管的內(nèi)壁以全反射的方式進(jìn)行傳輸,利用毛細(xì)玻璃管的彎曲來(lái)改變X射線的傳輸方向,從而實(shí)現(xiàn)X射線匯聚,同時(shí)將X射線的強(qiáng)度增加2~3個(gè)數(shù)量級(jí)

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            主要利用X射線全反射原理,從X射線管激發(fā)出來(lái)的X射線束在毛細(xì)玻璃管的內(nèi)壁以全反射的方式進(jìn)行傳輸,利用毛細(xì)玻璃管的彎曲來(lái)改變X射線的傳輸方向,從而實(shí)現(xiàn)X射線匯聚,同時(shí)將X射線的強(qiáng)度增加2~3個(gè)數(shù)量級(jí)。

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            儀器的高集成光路系統(tǒng)的基礎(chǔ)上,搭配多導(dǎo)毛細(xì)管 實(shí)現(xiàn)極小面積或極薄鍍層的高速、精確、穩(wěn)定的測(cè)量,聚焦直徑可小至10μm

            ? 多導(dǎo)毛細(xì)聚焦技術(shù),可產(chǎn)生比準(zhǔn)直器機(jī)構(gòu)強(qiáng)千倍的信號(hào)強(qiáng)度

            ? 多導(dǎo)毛細(xì)管將激發(fā)光束非常高強(qiáng)度的集中在一個(gè)的小光斑上,從而顯著縮短測(cè)量時(shí)間

            ? 在測(cè)量納米級(jí)Au厚度或薄膜層厚度及成分時(shí),滿足微小光斑、短測(cè)量時(shí)間的同時(shí),測(cè)量效果

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