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            目錄:鄭州科探儀器設(shè)備有限公司>>材料樣品處理>>小型濺射儀>> 小型離子濺射儀磁控鄭科探

            小型離子濺射儀磁控鄭科探
            • 小型離子濺射儀磁控鄭科探
            • 小型離子濺射儀磁控鄭科探
            • 小型離子濺射儀磁控鄭科探
            • 小型離子濺射儀磁控鄭科探
            參考價 面議
            具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
            參考價 面議
            具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
            • 品牌 鄭科探
            • 型號
            • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
            • 所在地 鄭州市
            屬性

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            >

            更新時間:2024-03-27 15:04:34瀏覽次數(shù):1797評價

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            產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價格區(qū)間 面議
            濺射氣體 根據(jù)需求氣體 控制方式 觸摸屏智能控制
            樣品倉尺寸 50mm 樣品臺尺寸 φ50mm
            應(yīng)用領(lǐng)域 電子
            鄭科探KT-1650PVD 小型離子濺射儀磁控鄭科探,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉(zhuǎn),樣品高度調(diào)節(jié),及電動擋板功能。通過定時調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率,可對大部分金屬進行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜。

            鄭科探KT-1650PVD  小型離子濺射儀磁控鄭科探,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉(zhuǎn),樣品高度調(diào)節(jié),及電動擋板功能。通過定時調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率,可對大部分金屬進行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜。



            鄭科探 小型離子濺射儀磁控鄭科探 詳細介紹;



            控制方式

            7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

            濺射電源

            直流濺射電源

            鍍膜功能

            0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

            功率

            ≤1000W

            輸出電壓電流

            電壓≤1000V  電流≤1A

            極限真空

            機械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

            濺射真空

            ≤30Pa

            擋板類型

            電控

            真空腔室

            石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

            樣品臺

            可旋轉(zhuǎn)φ62  (可安裝φ50基底)

            樣品臺轉(zhuǎn)速

            8轉(zhuǎn)/分鐘

            樣品濺射源調(diào)節(jié)距離

            40-105mm

            真空測量

            皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

            預(yù)留真空接口

            KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進氣口



            公司與國內(nèi)高校,科研院所有多層次的合作關(guān)系,建有開放實驗室,相關(guān)領(lǐng)域的教授、工程師、博士參與公司產(chǎn)品的研究和開發(fā)。我們秉承公司的發(fā)展理念,依靠嚴(yán)謹(jǐn)?shù)募夹g(shù)研發(fā)能力,科學(xué)合理的生產(chǎn)工藝,精益求精的制造要求,全心全意做好產(chǎn)品質(zhì)量和服務(wù)工作,科探儀器時刻懷著一顆真誠的心期待與您的合作。





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