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            目錄:鄭州科探儀器設(shè)備有限公司>>材料樣品處理>>小型濺射儀>> KT-Z1650PVD銅靶材鍍膜濺射儀

            銅靶材鍍膜濺射儀
            • 銅靶材鍍膜濺射儀
            • 銅靶材鍍膜濺射儀
            • 銅靶材鍍膜濺射儀
            參考價(jià) 面議
            具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
            參考價(jià) 面議
            具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
            • 品牌 鄭科探
            • 型號(hào) KT-Z1650PVD
            • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
            • 所在地 鄭州市
            屬性

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            更新時(shí)間:2025-02-18 18:09:37瀏覽次數(shù):4654評(píng)價(jià)

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            產(chǎn)地類別 國(guó)產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 1-5萬(wàn)
            濺射氣體 根據(jù)需求氣體 控制方式 觸摸屏智能控制
            樣品倉(cāng)尺寸 φ160x160mm 樣品臺(tái)尺寸 φ50mm
            應(yīng)用領(lǐng)域 化工,電子
            以銅 (Cu) 濺射靶材為例.在制備銅濺射靶時(shí),不可避免地會(huì)引入硫、鉛等其他雜質(zhì)含量.微量的硫可以防止熱加工時(shí)晶粒尺寸增大或產(chǎn)生微裂紋;但當(dāng)硫元素含量高于18 ppm時(shí),會(huì)出現(xiàn)微裂紋;隨著兩種雜質(zhì)元素(硫和鉛),銅靶材鍍膜濺射儀KT-Z1650PVD為臺(tái)式磁控濺射鍍膜機(jī),儀器結(jié)構(gòu)緊湊,全自動(dòng)控制,設(shè)計(jì)符合人體工程學(xué),所得結(jié)果一致,可重復(fù)性高。

            銅靶材Cu target 鄭科探小型磁控濺射靶材鍍膜銅膜料顆粒銅

            以銅 (Cu) 濺射靶材為例.在制備銅濺射靶時(shí),不可避免地會(huì)引入硫、鉛等其他雜質(zhì)含量.微量的硫可以防止熱加工時(shí)晶粒尺寸增大或產(chǎn)生微裂紋;但當(dāng)硫元素含量高于18 ppm時(shí),會(huì)出現(xiàn)微裂紋;隨著兩種雜質(zhì)元素(硫和鉛)含量的增加,靶材裂紋的數(shù)量和電弧放電的數(shù)量會(huì)增加.因此,應(yīng)盡可能降低靶材中的雜質(zhì)含量,以提高薄膜的均勻性。

             

            銅靶材.jpeg
            高純度銅靶材

             

            銅靶材鍍膜濺射儀

             

            637527962081082693457.jpg

             

             

              

             

            應(yīng)用領(lǐng)域:

            離子濺射儀在掃描電鏡中應(yīng)用十分廣泛,通過(guò)向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導(dǎo)電樣品的荷電現(xiàn)象,并提高觀測(cè)效率,另外可以使用噴碳附件對(duì)樣品進(jìn)行蒸碳,實(shí)現(xiàn)不導(dǎo)電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。

            銅靶材鍍膜濺射儀KT-Z1650PVD廠家供應(yīng)技術(shù)參數(shù);

             

             

            控制方式

             

            7寸人機(jī)界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制

             

            濺射電源

             

            直流濺射電源

             

            鍍膜功能

             

            0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

             

            功率

             

            ≤1000W

             

            輸出電壓電流

             

            電壓≤1000V  電流≤1A

             

            真空

             

            機(jī)械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

             

            濺射真空

             

            ≤30Pa

             

            擋板類型

             

            電控

             

            真空腔室

             

            石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

             

            樣品臺(tái)

             

            可旋轉(zhuǎn)φ62  (可安裝φ50基底)

             

            樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速

             

            8轉(zhuǎn)/分鐘

             

            樣品濺射源調(diào)節(jié)距離

             

            40-105mm

             

            真空測(cè)量

             

            皮拉尼真空計(jì)(已安裝 測(cè)量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

             

            預(yù)留真空接口

             

            KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進(jìn)氣口


             

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