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            目錄:鄭州科探儀器設備有限公司>>真空腔體>>真空腔>> 高溫高密度等離子體腔體

            高溫高密度等離子體腔體
            • 高溫高密度等離子體腔體
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            參考價 面議
            具體成交價以合同協(xié)議為準
            參考價 面議
            具體成交價以合同協(xié)議為準
            • 品牌 鄭科探
            • 型號
            • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
            • 所在地 鄭州市
            屬性

            應用領域:化工,電子,電氣

            >

            更新時間:2024-01-11 17:39:29瀏覽次數(shù):1472評價

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            高溫高密度等離子體腔體通常用于制造高真空環(huán)境下的實驗室設備和工業(yè)設備。這些設備包括:惰性氣體保護焊接設備、電子束物理氣相沉積設備、分子束外延設備、離子束蝕刻設備。除了以上應用,真空石英腔體還可以用于制造太陽能電池、光學儀器和研究天體物理學等領域

            高溫高密度等離子體腔體是一種石英材料制成的封閉腔室,內(nèi)部常常充滿等離子體氣體。等離子體是一種高溫、高密度的氣體,由帶正電荷的離子和帶負電荷的電子組成,具有導電性能。這種石英腔可以用于等離子體物理研究、等離子體加工技術以及材料表面改性等領域。

            高溫高密度等離子體腔體可以有效地將等離子體與外界隔離,從而提高等離子體的純度和密度,同時保護外部設備不受等離子體的影響。例如,在半導體制造過程中,石英腔可以通過對氣體進行高頻電場激勵來產(chǎn)生等離子體,用于蝕刻、沉積和表面改性等工藝。此外,石英腔還能保持良好的熱穩(wěn)定性和耐腐蝕性,使其能夠在高溫、高壓和高氧化性的環(huán)境下,長期運行。

            電感耦合等離子(Inductively Coupled PlasmaICP)和電容耦合等離子(Capacitively Coupled Plasma,CCP)是兩種廣泛用于實驗室中的等離子體源。它們的主要區(qū)別在于它們產(chǎn)生等離子體的機制和特點。

            ICP是在高整流器運作的RF(射頻)電源提供的高頻RF(常見頻率是27.12 MHz)的作用下工作的,而這個RF電源將產(chǎn)生的高頻電場通過感應耦合傳送到氣體放電管(都柏林管)內(nèi)。這種電場產(chǎn)生了交變電壓,導致氣體分子發(fā)生電離,產(chǎn)生了等離子體。ICP的優(yōu)點在于它可以產(chǎn)生非常高的電子溫度和較高的等離子體密度,并用于產(chǎn)生高靈敏度的熒光譜檢測。

            另一方面,CCP是通過直接應用高頻電場在帶電片和反電極之間產(chǎn)生的交變電場來產(chǎn)生等離子體的。這種電場使電極表面產(chǎn)生周期性的荷電狀態(tài)變化,從而促進了等離子體的生成。CCP的優(yōu)點是其低能耗和簡單的結(jié)構,但它通常只能產(chǎn)生低電子溫度和低等離子體密度的等離子體,因此在熒光譜檢測方面使用較少。

            因此,這兩種等離子體產(chǎn)生技術在實驗室中都得到廣泛應用,并根據(jù)所需的特定應用和實驗室條件進行選擇。

            技術規(guī)格參數(shù):

            腔體材質(zhì):鋁合金+石英玻璃

            腔體尺寸:內(nèi)徑110mmx深度220MM

            腔體容積:2.5L

            腔體觀察窗:內(nèi)徑φ35   石英玻璃

            腔體抽氣口:KF16

            腔體進氣口:6MM卡套

            腔體真空度:機械泵小于等于0.5Pa  






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