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            目錄:鄭州科探儀器設(shè)備有限公司>>材料樣品處理>>小型濺射儀>> KT-Z1650PVD直流磁控濺射儀金屬制備鍍膜

            直流磁控濺射儀金屬制備鍍膜
            • 直流磁控濺射儀金屬制備鍍膜
            • 直流磁控濺射儀金屬制備鍍膜
            • 直流磁控濺射儀金屬制備鍍膜
            參考價(jià) 面議
            具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
            參考價(jià) 面議
            具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
            • 品牌 鄭科探
            • 型號 KT-Z1650PVD
            • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
            • 所在地 鄭州市
            屬性

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            >

            更新時(shí)間:2024-03-27 15:03:30瀏覽次數(shù):1348評價(jià)

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            靶材材質(zhì) 金 鉑 銅 銀 等 靶材尺寸 50mm
            產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 面議
            濺射氣體 根據(jù)需求通氣 控制方式 觸摸屏智能控制
            樣品倉尺寸 φ160x160mm 樣品臺尺寸 50mm
            應(yīng)用領(lǐng)域 綜合
            直流磁控濺射儀金屬制備鍍膜,7寸人機(jī)界面,自動手動模式切換控制,最大功率1000w直流磁控濺射

            直流磁控濺射儀金屬制備鍍膜,7寸人機(jī)界面,自動手動模式切換控制,最大功率1000w直流磁控濺射

            單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備,特別適用于實(shí)驗(yàn)室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等

            單靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備,具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點(diǎn)。

            所配電源為1000W大功率直流電源,可用于高能量的金屬濺射鍍膜,根據(jù)實(shí)驗(yàn)需求也可以選配其他規(guī)格的直流或者射頻電源來實(shí)現(xiàn)各種材料的鍍膜操作。

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            直流磁控濺射儀金屬制備鍍膜技術(shù)參數(shù);

            控制方式

            7寸人機(jī)界面 手動 自動模式切換控制

            濺射電源

            直流濺射電源

            鍍膜功能

            0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

            功率

            ≤1000W

            輸出電壓電流

            電壓≤1000V  電流≤1A

            真空

            機(jī)械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

            濺射真空

            ≤30Pa

            擋板類型

            電控

            真空腔室

            不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

            樣品臺

            可旋轉(zhuǎn)φ62  (可安裝φ50基底)

            樣品臺轉(zhuǎn)速

            8轉(zhuǎn)/分鐘

            樣品濺射源調(diào)節(jié)距離

            40-105mm

            真空測量

            皮拉尼真空計(jì)(已安裝 測量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

            預(yù)留真空接口

            KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進(jìn)氣口




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