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| 激發(fā)方式 | 電弧 | 價(jià)格區(qū)間 | 20萬-25萬 |
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| 檢測(cè)器類 | 其他 | 儀器種類 | 臺(tái)式 |
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 食品/農(nóng)產(chǎn)品,化工,石油,電子/電池,制藥/生物制藥 |
產(chǎn)品分類品牌分類
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
詳細(xì)介紹
Innovate T5直讀光譜儀
采用標(biāo)準(zhǔn)的設(shè)計(jì)和制造工藝技術(shù)，應(yīng)用了CMOS信號(hào)采集元件，每塊CMOS都可以單獨(dú)設(shè)值火花個(gè)數(shù)，與光譜儀技術(shù)同步，采用真空光室設(shè)計(jì)及全數(shù)字激發(fā)光源。這款CMOS光譜儀，既包含了CCD光譜儀的全譜特性，又具備PMT光譜儀對(duì)非金屬元素的極低檢出限，整機(jī)設(shè)計(jì)合理，操作簡(jiǎn)單易學(xué)，具有數(shù)據(jù)精準(zhǔn)，長(zhǎng)期穩(wěn)定性好等優(yōu)點(diǎn)。
一、儀器概述
采用標(biāo)準(zhǔn)的設(shè)計(jì)和制造工藝技術(shù)，應(yīng)用了CMOS信號(hào)采集元件Innovate T5直讀光譜儀每塊CMOS都可以單獨(dú)設(shè)值火花個(gè)數(shù)，與光譜儀技術(shù)同步，采用真空光室設(shè)計(jì)及全數(shù)字激發(fā)光源。這款CMOS光譜儀，既包含了CCD光譜儀的全譜特性，又具備PMT光譜儀對(duì)非金屬元素的極低檢出限，整機(jī)設(shè)計(jì)合理，操作簡(jiǎn)單易學(xué)，具有數(shù)據(jù)精準(zhǔn)，長(zhǎng)期穩(wěn)定性好等優(yōu)點(diǎn)。
主要技術(shù)參數(shù)
應(yīng)用領(lǐng)域 | 冶金、鑄造、機(jī)械、科研、商檢、汽車、石化、造船、電力、航空、核電、金屬和有色冶煉、加工和回收工業(yè)中的各種分析。 |
可檢測(cè)基體 | 鐵基 |
光學(xué)系統(tǒng) | 帕型-龍格 羅蘭圓全譜真空型光學(xué)系統(tǒng) |
波長(zhǎng)范圍 | 140~680nm |
光柵焦距 | 401mm |
探測(cè)器 | 高性能CMOS陣列/CCD陣列 |
光源類型 | 數(shù)字光源，高能預(yù)燃技術(shù)（HEPS） |
放電頻率 | 100-1000Hz |
放電電流 | 大500A |
工作電源 | AC220V 50/60Hz 1200W |
儀器尺寸 | 780*565*360mm |
儀器重量 | 約80kg |
檢測(cè)時(shí)間 | 依據(jù)樣品類型而定，一般20S左右 |
電極類型 | 鎢材噴射電極 |
分析間隙 | 4mm |
其他功能 | 真空，溫度，軟件自動(dòng)控 壓力，通訊監(jiān)測(cè) |
主要技術(shù)特點(diǎn)
高性能光學(xué)系統(tǒng) | 光學(xué)系統(tǒng)激發(fā)時(shí)產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光學(xué)室，實(shí)現(xiàn)光路直通，有效的降低光路損耗； |
采用高精度的CMOS元件可測(cè)定非金屬元素如C、P、S、As、B、N以及各種金屬元素含量； | |
測(cè)定結(jié)果精準(zhǔn)，重復(fù)性及長(zhǎng)期穩(wěn)定性。 | |
自動(dòng)光路校準(zhǔn) | 自動(dòng)光路校準(zhǔn)，光學(xué)系統(tǒng)自動(dòng)進(jìn)行譜線掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作； |
儀器自動(dòng)識(shí)別特定譜線與原存儲(chǔ)線進(jìn)行對(duì)比，確定漂移位置，找出分析線當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測(cè)定。 | |
插拔式透鏡設(shè)計(jì) | 真空光學(xué)系統(tǒng)采用入射窗與真空隔離，可在真空系統(tǒng)工作狀態(tài)下進(jìn)行操作，光學(xué)透鏡采用插拔式透鏡結(jié)構(gòu)，日常清洗維護(hù)方便快捷。 |
真空室一體化 | 光室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，使真空室容積更小，抽真空時(shí)間僅普通光譜儀的1/2； |
真空室一體化設(shè)計(jì)及高精密的加工，使真空保持的更加持久。 | |
真空防返油技術(shù) | 多級(jí)隔離的真空防返油技術(shù)，采用真空壓差閥門保證真空泵不工作時(shí)真空光室與真空隔離 |
中間增加了真空濾油裝置，確保真空泵中油不進(jìn)入真空室，保障CMOS檢測(cè)器及光學(xué)元件在可靠環(huán)境中工作。 | |
開放式激發(fā)臺(tái) | 開放式激發(fā)臺(tái)機(jī)靈活的樣品夾設(shè)計(jì)，以滿足客戶現(xiàn)場(chǎng)的各種形狀大小的樣品分析； |
配合使用小樣品夾具，線材低分析可達(dá)到3mm。 | |
噴射電極技術(shù) | 采用噴射電極技術(shù)，使用鎢材料電極，在激發(fā)狀態(tài)下，電極周圍會(huì)形成氬氣噴射氣流，這樣在激發(fā)過程中激發(fā)點(diǎn)周圍不會(huì)與外界空氣接觸，提高激發(fā)精度 |
配上氬氣氣路設(shè)計(jì)，大大降低了氬氣使用量，也降低客戶使用成本。 | |
集成氣路模塊 | 氣路系統(tǒng)采用氣路模塊免維護(hù)設(shè)計(jì)，替代電磁閥和流量計(jì)，電極自吹掃功能，為激發(fā)創(chuàng)造了良好的環(huán)境。 |
數(shù)字化激發(fā)光源 | 數(shù)字激發(fā)光源，采用*的等離子激發(fā)光源，超穩(wěn)定能量釋放在氬氣環(huán)境中激發(fā)樣品； |
全數(shù)字激發(fā)脈沖，確保激發(fā)樣品等離子體超高分辨率和高穩(wěn)定率輸出； | |
可任意調(diào)節(jié)光源的各項(xiàng)參數(shù)，滿足各種不同材料的激發(fā)要求。 | |
高速數(shù)據(jù)采集 | 儀器采用高性能CMOS檢測(cè)元件，具有每塊CMOS單獨(dú)超高速數(shù)據(jù)采集分析功能，并能自動(dòng)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)控制光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運(yùn)行狀態(tài)。 |
以太數(shù)據(jù)傳輸 | 計(jì)算機(jī)和光譜儀之間使用以太網(wǎng)卡和TCP/IP協(xié)議，避免電磁干擾，光纖老化的弊端，同時(shí)計(jì)算機(jī)和打印機(jī)外置，方便升級(jí)和更換； |
可以遠(yuǎn)程監(jiān)控儀器狀態(tài)，多通路操控系統(tǒng)控制和監(jiān)控儀器參數(shù)。 | |
預(yù)制工作曲線 | 備有不同材質(zhì)和牌號(hào)的標(biāo)樣庫(kù)，儀器出廠時(shí)工廠預(yù)制工作曲線，方便安裝調(diào)試和及時(shí)投入生產(chǎn)； |
根據(jù)元素和材質(zhì)對(duì)應(yīng)的分析程序而稍有差異，激發(fā)和測(cè)試參數(shù)儀器出廠時(shí)已經(jīng)調(diào)節(jié)好，根據(jù)分析程序可自動(dòng)選擇測(cè)試條件； | |
技術(shù)規(guī)格中附有分析范圍（并可根據(jù)用戶提供標(biāo)樣免費(fèi)繪制或延長(zhǎng)工作曲線）。 | |
分析速度快 | 分析速度快，僅需20秒即可完成一次分析； |
針對(duì)不同的分析材料，通過設(shè)置預(yù)燃時(shí)間及測(cè)量時(shí)間，使儀器用短時(shí)間達(dá)到分析效果。 | |
多基體分析 | 光路設(shè)計(jì)采用羅蘭圓結(jié)構(gòu)，檢測(cè)器上下交替排列，保證接收譜線，不增加硬件設(shè)施，即可實(shí)現(xiàn)多基體分析； |
便于根據(jù)生產(chǎn)的需要增加基體及材料種類和分析元素（無硬件成本）。 | |
軟件中英文系統(tǒng) | 儀器操作軟件兼容于Windows7/8/10系統(tǒng)； |
軟件操作簡(jiǎn)單，即使沒有任何光譜儀知識(shí)及操作經(jīng)驗(yàn)的人員只需經(jīng)過簡(jiǎn)單的知識(shí)培訓(xùn)即可上手使用。 |
