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| 產(chǎn)地類別 | 進口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,能源,電子/電池,電氣,綜合 |
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產(chǎn)品簡介
詳細介紹
UV光束分析儀/UV激光光束質(zhì)量分析儀可實現(xiàn)高分辨率實時空間光束的監(jiān)測、定量表征與強度分布。主用于所有脈沖或連續(xù)波激光器以及非相干光源，檢測器CCD芯片上量子轉(zhuǎn)換涂層保證了UV檢測的高靈敏度。
主要特點
UV光束分析儀/UV光束特性分析
‐ zhun分子激光器 @193nm, 248nm, 351nm
‐ 固體激光器 @355nm, 266nm, 213nm
‐ UV LEDs, UV/VUV lamps
寬光譜靈敏度：VUV ‐ DUV ‐ Vis ‐ NIR
實時光學(xué)調(diào)節(jié)
基于ISO光束參數(shù)測量
衰減單元（可選）
Homogenized KrF
excimer laser (248nm)
Mask projection of
excimer laser beam
主要技術(shù)規(guī)格
波長范圍~100nm …1100nm
（<~320nm:高線性和穩(wěn)定性的量子轉(zhuǎn)換涂層；<190nm: N2/ Ar purging required）
視場尺寸：20mmX14mm（其他尺寸可選）
相機：CMOS 4MPixel, 12 Bit, USB3.0
幀率：up to 15fps
曝光時間：20us to 1s
衰減單元：棱鏡衰減器（因子1000：1）
中性密度濾片
Near‐field and far‐field
profile of ArF excimer laser
(193nm), indicating 2nd
moment beam widths
Beam profile of
misaligned 355nm laser
Beam Analysis software
光束測試軟件
測試基于ISO標準
Parameter | Standard |
Beam diameter光束直徑 | ISO 11146 |
Divergence | ISO 11146 |
Beam profile光束剖面 | ISO 13694 |
Pointing 指向/ pos. Stability位置穩(wěn)定性 | ISO 11670 |
M2 質(zhì)量因子/ Focusability聚焦性 | ISO 11146 |
Wavefront 波前 / Phase distribution相位分布 | ISO 15367 |
Coherence 相干 | - |
Around 20 various camera types are supported |
巨力光電（北京）科技有限公司立足于北京市副中心通州區(qū)，專門經(jīng)銷歐洲、美國、日本等國家制造的科學(xué)儀器設(shè)備，為客戶提供完備的售前咨詢和售后服務(wù)、技術(shù)支持。公司骨干在該行業(yè)有超過10年的經(jīng)驗，專業(yè)的服務(wù)水平、完善的售后服務(wù)體系。
目前主要產(chǎn)品涉及材料科學(xué)、微納米技術(shù)、表面測量和光電器件、光伏產(chǎn)品、半導(dǎo)體器件的檢測與研發(fā)等領(lǐng)域。公司本著以科技為導(dǎo)向、以客戶為中心、以服務(wù)為宗旨，竭誠為新老客戶提供優(yōu)質(zhì)的服務(wù)！
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