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再訂兩臺(tái)，CPS高精度納米粒度儀獲得鼎龍控股認(rèn)可！ 

2023年新春伊始，我司與化學(xué)機(jī)械拋光液頭部企業(yè)鼎龍控股達(dá)成兩臺(tái)CPS高精度納米粒度儀的采購(gòu)合同。鼎龍控股稱(chēng)，這兩臺(tái)新采購(gòu)的CPS納米粒度儀將用于新建化學(xué)機(jī)械拋光CMP拋光墊項(xiàng)目（三期）及年產(chǎn)1萬(wàn)噸清洗液項(xiàng)目。至此，鼎龍股份一共采購(gòu)了三臺(tái)CPS高精度納米粒度儀，并升級(jí)添加了全自動(dòng)密度梯度液生成器，在納米粒度分析能力上得到了顯著提升。儒亞科技（北京）有限公司將一如既往地為鼎龍股份提供優(yōu)質(zhì)的售后服務(wù)支持，支持國(guó)內(nèi)CMP領(lǐng)域的發(fā)展！

據(jù)報(bào)道，在2021年1月14號(hào)鼎龍股份發(fā)布公告“為提高公司在光電半導(dǎo)體核心進(jìn)口替代類(lèi)工藝材料產(chǎn)業(yè)中的競(jìng)爭(zhēng)實(shí)力，更好服務(wù)國(guó)內(nèi)芯片制程客戶(hù)及面板顯示材料需求，公司擬與湖北省潛江市江漢鹽化工業(yè)園管委會(huì)簽署相關(guān)合作協(xié)議，擬同意公司全資子公司—湖北鼎龍匯盛新材料有限公司使用自有或自籌資金在湖北省潛江市江漢鹽化工業(yè)園長(zhǎng)飛大道1號(hào)建設(shè)鼎龍潛江光電半導(dǎo)體材料產(chǎn)業(yè)園（暫定名），具體實(shí)施：集成電路CMP用拋光墊項(xiàng)目（三期工程50萬(wàn)片/年），以及年產(chǎn)1萬(wàn)噸集成電路制造清洗液項(xiàng)目。"

鼎龍股份公司近年一直圍繞集成電路核心CMP全局平坦化工藝材料作為發(fā)展重點(diǎn)和延展方向，相關(guān)進(jìn)展符合公司預(yù)期。經(jīng)過(guò)幾年鼎龍旗下專(zhuān)業(yè)化團(tuán)隊(duì)的持續(xù)研發(fā)及客戶(hù)測(cè)試、產(chǎn)業(yè)化前期準(zhǔn)備，公司清洗液項(xiàng)目具備產(chǎn)業(yè)化實(shí)施條件。隨著邏輯客戶(hù)制程不斷縮進(jìn)和存儲(chǔ)客戶(hù)拋光層數(shù)的不斷增加，對(duì)清洗液的需求將不斷提高，先進(jìn)制程的清洗液絕大多數(shù)掌握在兩家美國(guó)公司手中，公司擬實(shí)施CMP后清洗液（即：金屬薄膜拋光后配方清洗液）和光刻膠蝕刻后清洗液項(xiàng)目的產(chǎn)業(yè)化，將有效解決國(guó)內(nèi)該系列產(chǎn)品嚴(yán)重依賴(lài)海外進(jìn)口的卡脖子問(wèn)題。

年產(chǎn)1萬(wàn)噸集成電路制造清洗液項(xiàng)目建設(shè)首期投資為20,000萬(wàn)元人民幣（項(xiàng)目總計(jì)劃投資額預(yù)計(jì)為40,000萬(wàn)元人民幣，擬分兩期實(shí)施），建設(shè)總工期預(yù)計(jì)為30個(gè)月。規(guī)劃建筑面積28,994平方米，建設(shè)生產(chǎn)車(chē)間4,500平方米，辦公樓5,000平方米及倉(cāng)庫(kù)，購(gòu)置CPS高精度納米粒度分析儀、混配機(jī)、自動(dòng)投料機(jī)、Zeta電位儀、顆粒計(jì)數(shù)器等儀器設(shè)備92臺(tái)，建設(shè)配套設(shè)施，建成年產(chǎn)清洗液1萬(wàn)噸。

CMP典型的拋光漿料（清洗液）都是納米級(jí)發(fā)煙硅石(5Vol%，170-230nm)、高純硅膠(9Vol%，60 - 80nm)、氧化鈰(6Vol %，200 - 240nm)或氧化鋁顆粒，它們的粒度或粒度分布必須小心地進(jìn)行控制以免在拋光面上產(chǎn)生刮痕。這種納米漿料的使用濃度一般在(5- 30W%)，容易聚集。隨著貯存時(shí)間延長(zhǎng)，它的粒度可能增大從而導(dǎo)致?lián)p害的產(chǎn)生

CPS高精度納米粒度分析儀（DC24000UHR）是最新型的納米粒度分析儀，它采用高速離心沉降法，通過(guò)斯托克斯定律V = D2(ρ_P -ρ_F) G / 18 η，即顆粒沉降的速度與顆粒的尺寸平方成正比來(lái)進(jìn)行粒度的測(cè)量，因此粒徑相差小至1%的顆粒都可以明顯分辨出來(lái)。

適用于極稀到高濃度的樣品粒度測(cè)定，對(duì)團(tuán)聚體的存在非常敏感。獲得一大批領(lǐng)頭企業(yè)的認(rèn)可，如深圳華為、西安隆基綠能、大連Inter、上海默克光電、韓國(guó)三星半導(dǎo)體、上海陶氏化學(xué)、上海杜邦、安集微電子、羅門(mén)哈斯電子材料、蘇州納微新材料、芯越微電子材料等一波半導(dǎo)體企業(yè)的認(rèn)可。

CPS高精度納米粒度分析儀已經(jīng)列入ISO標(biāo)準(zhǔn)和國(guó)標(biāo)，包括《金屬粉末粒度分布的測(cè)量-重力沉淀光透法》、《煤礦粉塵粒度分布測(cè)定方法》、《橡膠配合劑-炭黑-聚集體尺寸的測(cè)定-使用光跟蹤盤(pán)式離心沉淀儀法》等

CPS高精度納米粒度分析儀主要技術(shù)參數(shù)：

分析速度可選： 12000 RPM、18000 RPM、24000 RPM

測(cè)量范圍：  0.005-75μm

標(biāo)準(zhǔn)分析圓盤(pán)： CR-39聚合物耐腐蝕材質(zhì)（耐有機(jī)溶劑和水溶液）

光源：   405nm LED

分辨率：   1%，可達(dá)0.1納米

可選配置：  

全自動(dòng)密度梯度液生成器（型號(hào)AG300）

低密度樣品分析圓盤(pán)、

變速圓盤(pán)

標(biāo)定用標(biāo)準(zhǔn)顆粒