蒸發(fā)鍍膜機(jī)是一款PC計(jì)算機(jī)控制的臺(tái)式熱蒸發(fā)系統(tǒng),在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備的設(shè)計(jì)經(jīng)過非常慎重的考慮:在小的占地面積情況下實(shí)現(xiàn)干凈、均勻、可控及可重復(fù)的工藝過程。它們具有低價(jià)格,高性能以及高能力的特點(diǎn),可滿足于客戶研發(fā)及小規(guī)模生產(chǎn)的應(yīng)用要求。
蒸發(fā)鍍膜機(jī)工作原理：
在真空室中通過電阻棒進(jìn)行電阻加熱將裝在電阻絲上的金屬材料(鋁絲、鉻鎳錫等)熔融汽化蒸發(fā)，汽化了的金屬分子沉積于基材的表面上形成金屬化的反射表面，再利用保護(hù)膜鍍制技術(shù)，將液態(tài)硅基化合物充入室內(nèi)，氣體離化反應(yīng)沉積在基材表面，形成保護(hù)膜層，以保護(hù)金屬層不會(huì)在大氣氧化以及腐蝕，減少高溫、紫外線和臭氧對(duì)膜層的影響，從而大大提高了金屬反射效果的壽命以及耐酸堿能力。
此類的傳統(tǒng)工藝方式為在鍍膜機(jī)里完成鍍金屬材料工序，再進(jìn)行裝夾在UV噴涂線上，噴上面油進(jìn)行UV固化形成透明保護(hù)作用。
轉(zhuǎn)盤式提拉鍍膜機(jī)產(chǎn)品參數(shù)：
1.運(yùn)行速度: 0.1-600 mm/min
2.行程: 300mm,位移精度:±0.1 mm
3.額定線性推力: >100 N
4.浸漬時(shí)間:0-9999.9 s
5.重復(fù)鍍膜間隔時(shí)間0-9999.9 s,重復(fù)鍍膜步驟：1～999次
6.托盤轉(zhuǎn)速 0.1-10rpm
7.晶片選擇尺寸：≤150mm*150mm*5mm
8.7寸全彩觸屏，簡(jiǎn)單易用，標(biāo)配觸屏筆操作
9.底部帶轉(zhuǎn)盤，多提供六個(gè)鍍膜位置，可放置六個(gè)300ml標(biāo)準(zhǔn)燒杯
10.自帶幫助功能，配載使用向?qū)?，快速上?br />
11.可手動(dòng)進(jìn)行上下高度調(diào)節(jié)，操作高度可實(shí)時(shí)控制
12.可命名存貯100組鍍膜程序，方便隨時(shí)調(diào)用程序
DP150-DR型轉(zhuǎn)盤式提拉鍍膜機(jī)是一款適用于液相鍍膜制備而設(shè)計(jì)的精密儀器，可在不同液相中實(shí)現(xiàn)智能化編程控制浸漬提拉生長(zhǎng)復(fù)合薄膜。DP150-DR采用底部圓盤轉(zhuǎn)動(dòng)，所有運(yùn)行參數(shù)如轉(zhuǎn)盤位置選擇、上下運(yùn)行速度，提拉/浸漬高度，浸漬時(shí)間，間隔時(shí)間，重復(fù)鍍膜次數(shù)等均可在觸屏上方便設(shè)置。
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