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原理
材料與儀器
步驟
1.細胞在含有10%FBS的DMEM培養(yǎng)基中生長。
2.細胞以一定密度接種到24孔細胞培養(yǎng)板中，生長24小時后，單層細胞融合度應達到70-80%。
3.不要更換培養(yǎng)基。用新的1ml槍頭輕輕的在單層培養(yǎng)細胞間劃痕，劃痕橫穿過孔，槍頭盡量與板孔的底部垂直，不要傾斜。這樣產生的gap的距離才與槍頭末端的外直徑相等。Gap的距離可以選用不同型號的槍頭調節(jié)。劃痕在同一方向成一條直線。
4.在垂直與第一條劃痕的方向制作另一條劃痕，每孔劃痕成十字交叉型。
5.劃痕后，用培養(yǎng)基輕輕的清洗板孔2次，以去除脫落細胞。
6.每孔添加新鮮培養(yǎng)基。
7.（培養(yǎng)基中含有某些成分，如抑制/促進細胞遷移和/或增殖的化學物質）
8.細胞生長48小時（或根據時間需要）。
9. 1xPBS清洗細胞兩次，然后使用3.7%多聚甲醛固定30分鐘。
10. 1%的結晶紫（2%乙醇溶解）染色30分鐘。
注意事項
常見問題
gap的距離可通過Photoshop或ImagJ軟件測量，為了降低實驗結果的可變性，建議每孔選擇多個視野觀察，每組做多個重復。
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