Park NX 20為FA 和研究實(shí)驗(yàn)室提供精確的形貌測(cè)量解決方案 低噪聲Z 探測(cè)器可精確測(cè)量A F M 表面形貌 用真正的非接觸掃描方式節(jié)省成本。

Park NX 20 凝 聚 著 具 創(chuàng) 新 的 A F M 技 術(shù)

1 . 1 0 0 μ m x 1 0 0 μ m 掃 描 范 圍 的 X Y 平 板 掃 描 器

2.高 速 Z 軸 掃 描 器 ， 掃 描 范 圍 達(dá) 1 5 μ m

3.低 噪 聲 X Y Z 位 置 傳 感 器

4.集 塵 編 碼 器 的 X Y 自 動(dòng) 樣 品 載 臺(tái)

5.. 自 動(dòng) 多 點(diǎn) 樣 品 掃 描

6.操 作 方 便 的 樣 品 臺(tái)

7.用 于 拓 展 掃 描 模 式 易 插 拔 擴(kuò) 展 槽

8.同 軸 高 功 率 光 學(xué) 集 成 L E D 照 明 和 C C D 系 統(tǒng)

9.掃 描 頭 滑 動(dòng) 嵌 入 式 設(shè) 計(jì)

10.. 自 動(dòng) Z 軸 移 動(dòng) 和 聚 焦 系 統(tǒng)

在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展如火如荼的今天，上海磊微伴隨著行業(yè)不斷學(xué)習(xí)、積極提升自身水平， 為越來越多的客戶提供了專業(yè)的產(chǎn)品和服務(wù)。今后，磊微將以不斷培育的市場(chǎng)為依托，以良好優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品為核心，以高效運(yùn)作的團(tuán)隊(duì)為基礎(chǔ)，迎來更快更好的發(fā)展。我們一直秉承團(tuán)結(jié)創(chuàng)新、嚴(yán)謹(jǐn)奮進(jìn)的企業(yè)精神，秉承誠(chéng)信務(wù)實(shí)、互利多贏的經(jīng)營(yíng)理念，努力為客戶、為社會(huì)提供高品質(zhì)產(chǎn)品和服務(wù)