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IM4000Ⅱ標(biāo)準(zhǔn)離子研磨儀使用低能量Ar離子束，加工無應(yīng)力損傷的樣品截面，為SEM觀察樣品的內(nèi)部多層結(jié)構(gòu)、結(jié)晶狀態(tài)、異物解析、層厚測(cè)量等提供有效的樣品前處理方...

WK6500系列精密阻抗分析儀七種機(jī)型：20Hz~5MHz，10MHz，15MHz，20MHz，30MHz，50MHz和120MHz，符合客戶不同采購需求

WK6500P高頻LCR表系列適用于生產(chǎn)線上高頻LCRMeter的量測(cè)，本機(jī)種一共有七種機(jī)型，分別20HZ~5MHz，20HZ~10MHz，20HZ~15MHz...

布魯克的HysitronTl980Tribolndenter同時(shí)具有優(yōu)異的性能、靈活性、可靠性、可用性和速度

德國SciDre公司推出的高溫高壓光學(xué)浮區(qū)法單晶爐能夠提供2200–3000℃以上的生長溫度，晶體生長腔壓力可達(dá)300bar，甚至10-5mbar的高真空

PICOSUN®P-300BALD系統(tǒng)是專為生產(chǎn)MEMS設(shè)備(例如打印頭，傳感器和麥克風(fēng))以及各種3D物品(例如機(jī)械零件，玻璃或金屬薄板，硬幣，手表零...

PICOSUN™R-200高級(jí)型ALD系統(tǒng)是ALD科研設(shè)備市場(chǎng)的，在擁有百用戶

PICOSUN R-200 標(biāo)準(zhǔn)型ALD系統(tǒng)，PICOSUN®R-200標(biāo)準(zhǔn)ALD系統(tǒng)適用于數(shù)十種應(yīng)用的研發(fā)，例如IC組件、MEMS器件、顯示器、LE...

CAM-C系列流延機(jī)面向較少資金投入的客戶設(shè)計(jì)，提供了更高的自動(dòng)化水平，更高的精度和緊湊型設(shè)計(jì)，是一個(gè)真正創(chuàng)新型流延機(jī)

小批量應(yīng)用的流延機(jī)，適合250mm載帶寬度，采取重力供應(yīng)漿料方式

VibroMet2振動(dòng)拋光機(jī)可通過幾乎水平方向的振動(dòng)，搭配MasterMet2二氧化硅拋光液使用，可去除樣品表面機(jī)械化制樣后殘留的細(xì)微變形層，從而得到高質(zhì)量的拋...

AutoMet系列研磨拋光機(jī)專為嚴(yán)苛的生產(chǎn)實(shí)驗(yàn)室環(huán)境而設(shè)計(jì)

產(chǎn)品型號(hào)：Pioneer240、Pioneer180、Pioneer120Pioneer系列PLD系統(tǒng)---基于經(jīng)驗(yàn)的創(chuàng)新設(shè)計(jì)Neocera利用PLD開展了深入...

設(shè)備特點(diǎn)：脈沖電閃基反應(yīng)器是集閃蒸焦耳熱系統(tǒng)和快速焦耳熱系統(tǒng)為一體的反應(yīng)系統(tǒng)包括兩個(gè)電源系統(tǒng)(大功率電容系統(tǒng)和恒壓電源系統(tǒng))和電壓、電流、溫度實(shí)時(shí)測(cè)試系統(tǒng)。

市面上最小的ALD，可放進(jìn)手套箱，來自美國哈佛的原子層沉積系統(tǒng)兼容高溫的快速脈沖 ALD 閥，具有超快 MFC，用于集成惰性氣體吹掃。

kashiyama NeoDry-15G 真空泵產(chǎn)品特點(diǎn):·適合研究室等領(lǐng)域·無負(fù)荷運(yùn)行噪音小于45dB/36G：50dB（A）·...

PIPS Ⅱ 精密離子減薄儀用于高質(zhì)量透射電鏡樣品的制備，它可精確定位減薄位置并對(duì)工藝參數(shù)進(jìn)行精確控制

勻膠機(jī)有很多種稱謂，英文叫SpinCoater或者SpinProcessor，又稱甩膠機(jī)、勻膠臺(tái)、旋轉(zhuǎn)涂膠機(jī)、旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)、旋轉(zhuǎn)涂層機(jī)、旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)、旋轉(zhuǎn)薄膜機(jī)、旋...

PROLinePVD75薄膜沉積系統(tǒng)PROLinePVD75™是基于PVD75經(jīng)典款開發(fā)的新一代薄膜沉積系統(tǒng)

ADL312SC-A標(biāo)準(zhǔn)型┃設(shè)備特點(diǎn)瞬間對(duì)微粒子樣品進(jìn)行加熱可以確保即使是熱穩(wěn)定的樣品也不會(huì)被氧化，并且可以得到均勻的細(xì)粉